CN214912772U - 治疗射束的监控系统及粒子射束治疗装置 - Google Patents

治疗射束的监控系统及粒子射束治疗装置 Download PDF

Info

Publication number
CN214912772U
CN214912772U CN202120624060.6U CN202120624060U CN214912772U CN 214912772 U CN214912772 U CN 214912772U CN 202120624060 U CN202120624060 U CN 202120624060U CN 214912772 U CN214912772 U CN 214912772U
Authority
CN
China
Prior art keywords
detector
particle beam
particle
monitoring system
ionization chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202120624060.6U
Other languages
English (en)
Inventor
迈克尔·马拉什
赵鹏
耶尔·布劳德
伊利亚·波兰斯基
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
China Israel Kanglian Weifang Particle Beam Industrial Technology Research Institute Co ltd
China Israel Kanglian International Medical Technology Co ltd
Original Assignee
China Israel Kanglian Weifang Particle Beam Industrial Technology Research Institute Co ltd
China Israel Kanglian International Medical Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by China Israel Kanglian Weifang Particle Beam Industrial Technology Research Institute Co ltd, China Israel Kanglian International Medical Technology Co ltd filed Critical China Israel Kanglian Weifang Particle Beam Industrial Technology Research Institute Co ltd
Priority to CN202120624060.6U priority Critical patent/CN214912772U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN214912772U publication Critical patent/CN214912772U/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

本公开涉及肿瘤放射治疗技术领域,具体提供了一种治疗射束的监控系统及粒子射束治疗装置。该监控系统包括第一探测器和第二探测器,第一探测器与第二探测器沿着粒子射束的发射方向间隔设置,第一探测器用于检测粒子射束的第一位置信息,第二探测器用于检测第二位置信息,第一探测器和/或第二探测器用于检测粒子射束的强度值,第一探测器和第二探测器与控制器连接。该治疗装置包括上述监控系统。本申请在粒子输送管道内间隔设置第一探测器和第二探测器,控制器根据第一探测器和第二探测器检测的位置信息得到粒子射束的照射方向,并根据照射方向和强度值调整粒子射束的发射状态,避免因粒子射束的照射偏差导致安全事故的发生,确保患者安全。

Description

治疗射束的监控系统及粒子射束治疗装置
技术领域
本公开涉及肿瘤放射治疗技术领域,尤其涉及一种治疗射束的监控系统及粒子射束治疗装置。
背景技术
远程治疗被定义为一种治疗方法,其中辐射源与待治疗的身体相距一定距离。X射线和电子束长期用于远距治疗,以治疗各种癌症。但是,X射线的线性能量传递接近指数衰减函数,因此对于增大的照射深度安全性没有提升。由于重粒子具有照射到特定深度而不会明显损害介入组织的能力,因此在远距治疗中被广泛使用,其中,强子或质子已得到越来越多的接受。
质子或离子可被聚焦到一定深度的靶区,因此,剂量分布可以高精度地与靶区相匹配。为了确保对靶区的完全照射,优选从多个不同方向到达嵌入生长物的多个光束。多个光束相交的点(无论是顺序光束还是同时光束)都被称为等中心点,为了使生物学效果最大化,等中心点与靶区中心点重合。
在治疗的第一阶段中,对靶区成像并制定包括剂量、患者位置和照射角度等的治疗计划。此外,根据患者的标记,以确保后续的照射过程中射束方向。然后响应于制定的治疗计划,在一段时间内的多个治疗阶段中进行照射。
尽管根据治疗计划控制射束进行照射,但是应当对射束进行监视,以确保所产生的射束满足治疗计划的参数,其中,参数包括射束路径和射束强度,以及治疗过程中,照射头的伸缩距离,对此,往往通过设置多个检测装置以实现实时检测,但这会导致增加监测系统复杂度并增加了设备成本。
实用新型内容
为了解决上述技术问题或者至少部分地解决上述技术问题,本公开提供了一种治疗射束的监控系统及粒子射束治疗装置。
本公开提供了一种治疗射束的监控系统设置在粒子射束治疗装置的粒子输送管道内,所述监控系统包括第一探测器和第二探测器,所述第一探测器与所述第二探测器沿着粒子射束的发射方向间隔设置,所述第一探测器用于检测穿过所述第一探测器时的粒子射束的第一位置信息,所述第二探测器用于检测穿过所述第二探测器时的粒子射束的第二位置信息,所述第一探测器和/或所述第二探测器用于检测穿过所述第一探测器和/或所述第二探测器时的粒子射束的强度值,所述第一探测器和第二探测器与控制器连接。
可选的,所述第一探测器设置在所述粒子输送管道的端部,所述第二探测器设置在所述第一探测器与粒子射束的照射入口之间,或者所述第二探测器设置在所述粒子输送管道的端部,所述第一探测器设置在所述第二探测器与粒子射束的照射入口之间。
可选的,所述粒子输送管道包括相互连通的第一管道和伸缩管道,所述伸缩管道沿其长度方向伸缩,粒子射束依次穿过所述第一管道和所述伸缩管道后照射至目标区域。
可选的,所述第一探测器设置在所述伸缩管道的端部,所述第二探测器设置在所述第一探测器朝向所述第一管道的一侧,且所述第一探测器与所述第二探测器间隔设置。
可选的,所述第二探测器跟随所述第一探测器同步移动。
可选的,所述第一探测器设置在所述伸缩管道的端部,所述第二探测器设置在所述伸缩管道的另一端或设置在所述第一管道的内部。
可选的,所述第一探测器或所述第二探测器为光检测器,用于检测穿过所述第一探测器或所述第二探测器时的粒子射束的位置信息。
可选的,所述第一探测器和/或所述第二探测器包括电离室和电离检测器,所述电离室包括多个电离室本体,粒子射束使得电离室本体内的气体电离,每个所述电离室本体上连接的阴极和阳极均耦合到所述电离检测器。
可选的,多个所述电离室本体以网格形式布置。
本公开还提供了一种粒子射束治疗装置,包括上述治疗射束的监控系统。
本公开实施例提供的技术方案与现有技术相比具有如下优点:
本申请通过在粒子输送管道内间隔设置第一探测器和第二探测器,以检测粒子射束的第一位置信息、第二位置信息和强度值,控制器根据第一位置信息和第二位置信息可得到粒子射束的照射方向,并根据粒子射束的照射方向和强度值调整粒子射束的发射状态,避免因粒子射束的照射偏差导致安全事故的发生,确保患者安全。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本公开的实施例,并与说明书一起用于解释本公开的原理。
为了更清楚地说明本公开实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,对于本领域普通技术人员而言,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本公开实施例所述监控系统的示意图;
图2为本公开实施例所述电离室设置在射束入口与光检测器之间时的示意图;
图3为本公开实施例所述光检测器设置在射束入口与电离室之间时的示意图;
图4为本公开实施例所述粒子输送系统的示意图;
图5为本公开实施例所述电离室的平面图;
图6为本公开实施例所述第二探测器与第一探测器同步移动时的示意图;
图7为图6实施例中伸缩管道处于伸长状态时的示意图;
图8为图6实施例中伸缩管道收缩状态和伸长状态合并时的示意图;
图9为本公开实施例所述第二探测器与第一探测器相对移动时的示意图;
图10为图9实施例中伸缩管道处于伸长状态时的示意图;
图11为图9实施例中伸缩管道收缩状态和伸长状态合并时的示意图;
图12为本公开实施例所述第二探测器深入到伸缩管道内部时的示意图;
图13为本公开实施例所述第一管道与伸缩管道之间未设置真空隔膜时的示意图。
其中,10、粒子输送管道;11、第一管道;12、伸缩管道;13、照射入口;20、第一探测器;21、第二探测器;50、粒子发生器;51、同步加速环;52、喷嘴;60、光检测器;61、光检测器本体;62、照明材料;70、电离室;701、电离室本体;71、电离检测器;72、电源;80、支撑件;81、目标区域;90、真空隔膜;91、第一扫描磁体;92、第二扫描磁体。
具体实施方式
为了能够更清楚地理解本公开的上述目的、特征和优点,下面将对本公开的方案进行进一步描述。需要说明的是,在不冲突的情况下,本公开的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本公开,但本公开还可以采用其他不同于在此描述的方式来实施;显然,说明书中的实施例只是本公开的一部分实施例,而不是全部的实施例。
结合图1至图4所示,本申请实施例提供的治疗射束的监控系统设置在粒子射束治疗装置的粒子输送管道10内,监控系统包括第一探测器20和第二探测器21,第一探测器20与第二探测器21沿着粒子射束的发射方向间隔设置。该处的粒子射束的发射方向是指粒子射束初始进入到粒子输送管道10时的方向,即粒子输送管道10的中心线所处方向。
第一探测器20用于检测穿过第一探测器20时的粒子射束的第一位置信息。第二探测器21用于检测穿过第二探测器21时的粒子射束的第二位置信息。第一探测器20和/或第二探测器21用于检测穿过第一探测器20和/或第二探测器21时的粒子射束的强度值。具体地,可仅通过第一探测器20或仅通过第二探测器21或通过第一探测器20和第二探测器21检测粒子射束的强度值。第一探测器20和第二探测器21与控制器连接,控制器通过第一探测器20测得粒子射束的第一位置信息以及第二探测器21测得粒子射束的第二位置信息可得到粒子射束的照射方向,具体地,粒子射束的照射方向即为第一位置信息与第二位置信息的连接线所处所处方向,进而得到粒子射束的照射方向与粒子输送管道10的中心线之间的角度。控制器可通过第一探测器20和/或第二探测器21的反馈得到粒子射束的强度值,进而根据粒子射束的照射方向和强度值调整粒子射束的发射状态。
可在控制器内储存治疗计划中设定的粒子射束照射的照射路线和强度值。该处的照射路线为粒子射束穿过第一探测器20与第二探测器21时的预设位置,粒子射束的强度值也为粒子射束穿过第一探测器20与第二探测器21时的预设强度值。根据预定治疗计划中确定从粒子发生器50到患者的目标区域81的路径进而限定了期望的治疗照射束的几何路径。控制器通过第一位置信息与第二位置信息以得到射束照射的实际路线,通过第一探测器20和/或第二探测器21以得到射束照射的实际强度值,并与设定的几何路径和强度值相比较,进而调整粒子射束的发射状态。治疗计划中粒子射束照射的几何路径还包括患者相对于粒子输送管道10的位置,以及目标区域81相对于患者支撑件80或患者预定位置的位置。
具体地,照射方向即为上述第一探测器20测得粒子射束的位置与第二探测器21测得粒子射束的位置之间的连接线。当检测到的照射方向处于预设的照射方向之外或者粒子射束的强度值处于预设强度值之外时,粒子输送系统发出报警信号,或者关闭粒子射束,或者调整粒子射束的发射角度或射束强度值,使得粒子射束穿过粒子输送管道10时的角度或强度值为预设值,其中,报警信号为在用户界面生成警告指示。具体地,结合图6至图13所示,第一管道11的外周可设置第一扫描磁体91和第二扫描磁体92,第一扫描磁体91为相对设置的两个,第二扫描磁体92也为相对设置的两个。两个第一扫描磁体91与两个第二扫描磁体92可以对粒子射束施加磁场,具体为对粒子射束施加与其初始入射方向相垂直的两个方向的力,以调整粒子射束的角度。其中,粒子射束的初始入射方向为进入扫描磁体之前的运动方向,在本实施例中为图6至图13中的箭头方向。即第一扫描磁体91为X轴扫描磁体、第二扫描磁体92为Y轴扫描磁体。当检测到的几何路径或强度值处于设定范围之内时,粒子输送系统正常工作。进一步优化地,该信号可由通信模块输出到外部监视系统和/或显示器上。
本申请通过在粒子输送管道10内间隔设置第一探测器20和第二探测器21,以检测粒子射束的第一位置信息、第二位置信息和强度值,控制器根据第一位置信息和第二位置信息可得到粒子射束的照射方向,并根据粒子射束的照射方向和强度值调整粒子射束的发射状态,避免因粒子射束的照射偏差导致安全事故的发生,确保患者安全。
在一些实施例中,第一探测器20设置在粒子输送管道10的端部,第二探测器21设置在第一探测器20与粒子射束的照射入口13之间,或者第二探测器21设置在粒子输送管道10的端部,第一探测器20设置在第二探测器21与粒子射束的照射入口13之间。可见,第一探测器20和第二探测器21的具体设置位置并不受限制,只需满足可通过第一探测器20和第二探测器21能够获得粒子射束的几何路径和强度值即可。
结合图6至图13所示,在另一些实施例中,粒子输送管道10包括相互连通的第一管道11和伸缩管道12,伸缩管道12沿其长度方向伸缩,粒子射束依次穿过第一管道11和伸缩管道12后照射至目标区域81。其中,伸缩管道12采用波纹管或波纹管形状的如不锈钢等金属材质制成,可隔绝外界环境,同时能够承受真空状态。伸缩管道12通过驱动装置带动其沿着自身的长度方向移动,其中,该处的长度方向为图6至图13中的箭头方向。在一些实施例中,驱动装置为电动推杆,具体地,可在波纹管远离第一管道11的一端设置端板,端板的边缘伸出波纹管,在第一管道11的外周设置底板,底板上设置电动推杆,电动推杆的输出端与端板连接,通过电动推杆的伸缩带动端板沿着伸缩管道12的长度方向移动,进而实现伸缩管道12的伸缩。在另一些实施例中,电动推杆也可替换成液压缸或气缸。可见,伸缩管道12的驱动方式不受限制,只需满足能够带动伸缩管道12伸缩,同时不会影响粒子射束的照射即可,且该种驱动方式较为常见,因此,在附图中并未示出。进一步优化地,结合图6至图12所示,第一管道11与伸缩管道12之间通过真空隔膜90连接,使得第一管道11内的真空度与伸缩管道12内的真空度能够彼此独立设定,确保粒子射束在真空条件下传递。在另一些实施例中,如图13所示,第一管道11与伸缩管道12之间也可不设置真空隔膜90,使得第一管道11与伸缩管道12之间的真空空间连通。优选的,伸缩管道12可为粒子射束治疗装置的喷嘴52,相应地,通过控制伸缩管道12的长度来控制喷嘴52的端部与目标区域81的距离,以此减少粒子射束在空气中的传播路径的长度,其中,图4只是本申请实施例的示意图,并不代表第一探测器20与第二探测器21的实际设计位置。
结合图6、图7和图8所示,可将第一探测器20设置在伸缩管道12的端部,具体地,伸缩管道12的自由端设有真空隔膜(图中未示出),可将第一探测器20设置在真空隔膜的内侧或外侧,使得经过第一探测器20射出的粒子射束穿过空气后照射在目标区域81,第二探测器21设置在第一探测器20朝向第一管道11的一侧,且第一探测器20与第二探测器21间隔设置,粒子射束依次穿过第二探测器21和第一探测器20后照射到目标区域81。进一步优化地,第二探测器21跟随第一探测器20同步移动,即第一探测器20与第二探测器21之间的距离固定,粒子射束穿过第二探测器21与第一探测器20位置点之间的距离不会随着伸缩管道12的伸缩而发生变化,此时,粒子射束的几何路径可为粒子射束穿过第二探测器21与第一探测器20时的位置点。若在治疗过程中或在检测过程中,粒子射束出现问题,粒子射束穿过第一探测器20和第二探测器21时的位置点偏离预设位置时,可根据粒子射束穿过第一探测器20和第二探测器21时的实际位置点与预设位置点的差值分析问题的原因,进而对粒子发生器50射出的粒子射束进行相应调整。
具体地,若在治疗装置运行过程中,如在治疗过程中或在检测过程中,束流出现问题。探测器指示的位置点与设定位置点不符,设定的正常射束N1会被检测到变成了实际的错误射束N2,由此可以判断束流出现问题。同时可以根据正常射束N1的偏转角度与错误射束N2的偏转角度的差值来具体分析出现问题的原因,并对粒子射束的路径进行相应调整。
如图8所示,可通过第一探测器20的位置信息得到伸缩管道12的伸缩量。具体地,第一探测器20与第二探测器21之间的距离B1固定,当伸缩管道12处于收缩状态下,第一探测器20与第二探测器21反馈粒子射束的位置点,粒子输送系统得出粒子射束穿过第二探测器21时的位置点在第一探测器20上的投影与粒子射束穿过第一探测器20时的位置点之间的距离L1,进而得到粒子射束与粒子输送通道的中心线之间的角度α,tanα=L1/B1。伸缩管道12伸长后,第一探测器20反馈粒子射束在第一探测器20上的位置差为L3,即可得出伸缩管道12的伸长量B2,B2=L3×B1/L1。伸缩管道12伸长后,粒子射束路径中经过空气的路径长度会缩短,但是还是会有部分传递过程在空气中进行,这段距离设为D1,其会对粒子射束治疗的剂量造成一定影响。若将粒子束流治疗装置某个固定点A与等中心点之间的距离D2减去伸长量B2,可以得到该空气距离D1。再通过D1计算粒子射束剂量的损失,通过增加粒子发生器50的照射强度进行拟补,使其满足设定要求。其中,固定点A为被伸长部件如伸缩管道12的端部上的点,具体可为第一探测器20上的点。
在另一些实施例中,结合图9、图10和图11所示,第一探测器20设置在伸缩管道12的端部,第二探测器21设置在所述伸缩管道12的另一端或设置在第一管道11的内部,使得伸缩管道12伸缩后,第二探测器21的位置不变,第一探测器20与第二探测器21的位置相对移动。在另一些实施例中,如图12所示,第一管道11可伸入至伸缩管道12内,此时,可将第二探测器21设置在第一管道11的端部,进而使得第二探测器21伸入到伸缩管道12的内部,此时,当伸缩管道12伸缩时,第二探测器21的位置仍不发生变化。可见,第二探测器21的具体设置位置不受限制,只要满足第二探测器21的位置不跟随伸缩管道12的伸缩而改变即可。
具体地,若在治疗装置运行过程中,如在治疗过程中或在检测过程中,束流出现问题。探测器指示的位置点与设定位置点不符,设定的正常射束N1会被检测到变成了实际的错误射束N2,由此可以判断束流出现问题。同时可以根据正常射束N1的偏转角度与错误射束N2的偏转角度的差值来具体分析出现问题的原因,并对粒子射束的路径进行相应调整。
如图11所示,在非伸长状态下,第一探测器20与第二探测器21反馈粒子射束的位置点,粒子输送系统得出粒子射束穿过第二探测器21时的位置点在第一探测器20上的投影与粒子射束穿过第一探测器20时的位置点之间的距离L1,第一探测器20与第二探测器21之间的距离为B1,进而得到粒子射束与粒子输送通道的中心线之间的角度β,tanβ=L1/B1。伸缩管道12伸长后,粒子射束穿过第二探测器21时的位置点在第一探测器20上的投影与粒子射束穿过第一探测器20时的位置点之间的距离为L3,设定伸缩管道12的伸长量可控为B2,则根据tanβ=L3/(B1+B2),可以计算出L3的值。假如束流在伸长过程出现问题,检测出伸长后第二探测器21上的位置点在第一探测器20上的投影与第一探测器20之间的距离为L2,则可以得出束流出现问题的结论。
在一些实施例中,第一探测器20或第二探测器21为光检测器60,用于检测穿过第一探测器20或第二探测器21时的粒子射束的位置信息。结合图1至图3所示,可将光检测器60设置在第一探测器20与照射入口13之间,也可将光检测器60设置在第二探测器21与照射入口13之间。
结合图1至图3所示,光检测器60包括光检测器本体61和照明材料62,照明材料62布置为响应于粒子射束而发光,光检测器本体61用于检测照明材料62上的粒子射束的位置。当粒子射束穿过照明材料62时,照明材料62被粒子射束穿过的位置处发光,光检测器本体61获得发光位置并反馈给粒子输送系统。照明材料62包括闪烁体,闪烁体响应于粒子辐射而发光。在另一些实施例中,光检测器本体61包括光电传感器,通过光电传感器将照明材料62上的光转换成电信号。
在另一些实施例中,光检测器本体61为一个或多个。当光检测器本体61的数量为多个时,每个光检测器本体61布置成检测来自照明材料62上不同位置的光,粒子输送系统从光检测器本体61接收指示,指示哪个光电检测器本体或多个光电检测器本体检测到从照明材料62发射的光,进而得到粒子射束穿过照明材料62时的空间位置。当光检测器本体61的数量为一个时,光检测器本体61与照明材料62并列设置。进一步优化地,光检测器本体61的面积需大于或等于照明材料62,使得光检测器本体61覆盖照明材料62,进而能够通过光检测器本体61检测照明材料62上的发光位置。
其中,可将反射光的空间位置确定为粒子射束的中心,或者发射光的空间位置为照明材料62的展现出最大发射光强度的部分或其中心,该空间位置为检测到射束位置点。
在另一些实施例中,第一探测器20和/或第二探测器21还可以为半导体探测器等,半导体探测器具备空间分辨率好、灵敏度高等优点。如平板型电离室、液体电离室、宝石探测器、胶片测量系统等。
结合图1至图3所示,第一探测器20和/或第二探测器21包括电离室70和电离检测器71,电离室70包括多个电离室本体701,且电离室70与电源72相连,每个电离室本体701均设有阳极和阴极,电源72为阳极和阴极提供电力,粒子射束使得电离室本体701内的气体电离,每个电离室本体701上连接的阴极和阳极均耦合到电离检测器71,电离检测器71布置成检测由每个电离室本体701输出的电流水平。具体地,第一探测器20和第二探测器21均可为电离室70和电离检测器71;也可将其中一个探测器设置成电离室70和电离检测器71,另外一个探测器为光检测器60。使得光检测器60设置在电离室70与粒子输送管道10的入口之间,或者电离室70设置在光检测器60与粒子输送管道10的入口之间。
电离室70可为横纵向排布的条状电离室或阵列排布的阵列式电离室。优选的,电离室70为阵列排布的阵列式电离室,如图5所示,电离室本体701以网格形式布置,每个电离室本体701上均设有入口和出口,粒子射束通过入口进入,通过出口离开。由于粒子射束有一定的直径,因此,当离子射束照射到电离室70时,会穿过多个电离室本体701,电离室本体701内的气体电离,进而使得电离室本体701内产生电流,电离检测器71识别产生电流的电离室本体701以及电流的强度,进而得到粒子射束的位置信息和强度值。具体为根据识别的电流强度大小,将电流明显较小的电离室本体701确定为粒子射束的边缘,电流明显较大的电离室本体701为粒子射束的中间区域,以此确定粒子射束的轮廓,并将轮廓的中心确定为粒子射束的中心。
本公开还提供了一种粒子射束治疗装置,粒子射束治疗装置包括粒子加速器,粒子加速器可以为同步加速器或回旋加速器或同步回旋加速器或直线加速器等能够产生高能粒子射束的加速器,粒子射束可以为质子、碳离子、氦离子等高能粒子,图中示例的为同步加速器。同步加速器包括粒子发生器50和同步加速环51,粒子发生器50的输出耦合到同步加速环51的入口,同步加速环51的出口耦合到粒子输送管道10的入口。该粒子射束治疗装置包括上述治疗射束的监控系统,该监控系统包括上述治疗射束的监控系统的全部技术特征,因此,在此未作过多的描述。
需要说明的是,在本文中,诸如“第一”和“第二”等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上所述仅是本公开的具体实施方式,使本领域技术人员能够理解或实现本公开。对这些实施例的多种修改对本领域的技术人员来说将是显而易见的,本文中所定义的一般原理可以在不脱离本公开的精神或范围的情况下,在其它实施例中实现。因此,本公开将不会被限制于本文所述的这些实施例,而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (10)

1.一种治疗射束的监控系统,其特征在于,设置在粒子射束治疗装置的粒子输送管道(10)内,所述监控系统包括第一探测器(20)和第二探测器(21),所述第一探测器(20)与所述第二探测器(21)沿着粒子射束的发射方向间隔设置,所述第一探测器(20)用于检测穿过所述第一探测器(20)时的粒子射束的第一位置信息,所述第二探测器(21)用于检测穿过所述第二探测器(21)时的粒子射束的第二位置信息,所述第一探测器(20)和/或所述第二探测器(21)用于检测穿过所述第一探测器(20)和/或所述第二探测器(21)时的粒子射束的强度值,所述第一探测器(20)和第二探测器(21)与控制器连接。
2.根据权利要求1所述的治疗射束的监控系统,其特征在于,所述第一探测器(20)设置在所述粒子输送管道(10)的端部,所述第二探测器(21)设置在所述第一探测器(20)与粒子射束的照射入口(13)之间,或者所述第二探测器(21)设置在所述粒子输送管道(10)的端部,所述第一探测器(20)设置在所述第二探测器(21)与粒子射束的照射入口(13)之间。
3.根据权利要求1所述的治疗射束的监控系统,其特征在于,所述粒子输送管道(10)包括相互连通的第一管道(11)和伸缩管道(12),所述伸缩管道(12)沿其长度方向伸缩,粒子射束依次穿过所述第一管道(11)和所述伸缩管道(12)后照射至目标区域(81)。
4.根据权利要求3所述的治疗射束的监控系统,其特征在于,所述第一探测器(20)设置在所述伸缩管道(12)的端部,所述第二探测器(21)设置在所述第一探测器(20)朝向所述第一管道(11)的一侧,且所述第一探测器(20)与所述第二探测器(21)间隔设置。
5.根据权利要求4所述的治疗射束的监控系统,其特征在于,所述第二探测器(21)跟随所述第一探测器(20)同步移动。
6.根据权利要求3所述的治疗射束的监控系统,其特征在于,所述第一探测器(20)设置在所述伸缩管道(12)的端部,所述第二探测器(21)设置在所述伸缩管道(12)的另一端或设置在所述第一管道(11)的内部。
7.根据权利要求1至6任一项所述的治疗射束的监控系统,其特征在于,所述第一探测器(20)或所述第二探测器(21)为光检测器(60),用于检测穿过所述第一探测器(20)或所述第二探测器(21)时的粒子射束的位置信息。
8.根据权利要求1至6任一项所述的治疗射束的监控系统,其特征在于,所述第一探测器(20)和/或所述第二探测器(21)包括电离室(70)和电离检测器(71),所述电离室(70)包括多个电离室本体(701),粒子射束使得电离室本体(701)内的气体电离,每个所述电离室本体(701)上连接的阴极和阳极均耦合到所述电离检测器(71)。
9.根据权利要求8所述的治疗射束的监控系统,其特征在于,多个所述电离室本体(701)以网格形式布置。
10.一种粒子射束治疗装置,其特征在于,包括权利要求1至9任一项所述的治疗射束的监控系统。
CN202120624060.6U 2021-03-26 2021-03-26 治疗射束的监控系统及粒子射束治疗装置 Active CN214912772U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202120624060.6U CN214912772U (zh) 2021-03-26 2021-03-26 治疗射束的监控系统及粒子射束治疗装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202120624060.6U CN214912772U (zh) 2021-03-26 2021-03-26 治疗射束的监控系统及粒子射束治疗装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN214912772U true CN214912772U (zh) 2021-11-30

Family

ID=79039357

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202120624060.6U Active CN214912772U (zh) 2021-03-26 2021-03-26 治疗射束的监控系统及粒子射束治疗装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN214912772U (zh)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7881431B2 (en) Radiotherapy apparatus and radiation irradiating method
TWI520758B (zh) Neutron capture therapy apparatus and method for measuring the neutron beam
US10071264B2 (en) Irradiation device using ionizing radiation, particularly for radiotherapy and/or radiobiology
JP2905995B2 (ja) 治療用放射線供給システムの標準化及び較正化
US9873004B2 (en) Systems for efficient daily constancy check of proton therapy systems
US20100246767A1 (en) Apparatus and method for x-ray treatment
JP6220713B2 (ja) 荷電粒子ビーム照射システム
US20110182411A1 (en) Particle beam treatment apparatus and irradiation nozzle apparatus
JP4495112B2 (ja) 放射線治療装置制御装置および放射線照射方法
WO2018003003A1 (ja) X線エネルギ分布測定装置およびx線治療装置
CN214912772U (zh) 治疗射束的监控系统及粒子射束治疗装置
US9739892B2 (en) Fast, high-rate, position-sensitive absolute dosimeter for ion beam therapy
CN113101542B (zh) 治疗射束的监控系统和方法
JP6214906B2 (ja) レーザイオン源、イオン加速器及び重粒子線治療装置
EP3169401A1 (en) Method and device for quality assurance of a radiation therapy apparatus
CN113082549B (zh) 粒子射束监控方法及粒子射束治疗装置
CN113082550B (zh) 粒子射束监控方法及粒子射束治疗装置
CN104023791A (zh) 粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置
US20240075316A1 (en) Radiotherapy apparatus with optimised detector
US8742326B2 (en) Determination of beam parameters for asymmetrical photon beams
KR20210119730A (ko) 즉발감마선영상 및 양전자방출단층영상을 이용한 체내 양성자 선량분포 측정장치 및 측정방법
JP2009172261A (ja) 荷電粒子ビーム照射システム
JP2000331799A (ja) 粒子線照射装置
JP2013138774A (ja) 放射線治療システム
Yoshida et al. Electron accelerator and beam irradiation system

Legal Events

Date Code Title Description
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant