CN214767347U - 一种硅片清洗提动装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种硅片清洗提动装置，涉及硅片清洗技术领域，包括底座、支撑板、清洗槽、提篮、滑动杆和动力结构，底座设在最下端，支撑板设在底座的上端，清洗槽设置在支撑板的上端，滑动杆竖直设置，其上下两端分别贯穿且滑动设在支撑板和清洗槽上，滑动杆的顶端固定设在提篮的边沿上，滑动杆的底端固定设在推动块上，推动块的中部设有平行的通孔，通孔内设有固定轴，固定轴的内侧固定在竖直块的端部，竖直块的另一端固定在动力结构的旋转轴上。本实用新型通过旋转轴旋转带动固定轴旋转，从而带动推动块和滑动杆的上下滑动，进而带动提篮的上下晃动，最终实现硅片在清洗液中上下晃动，有效提高了硅片清洗质量和效率，同时降低了残次品率。

Description

一种硅片清洗提动装置

技术领域

本实用新型涉及硅片清洗技术领域，具体是一种硅片清洗提动装置。

背景技术

生产半导体器件所需要的硅片在生产工艺包括一个重要的工艺，即硅片清洗工艺，硅片必须经过严格的清洗，即使是微量的污染也会导致器件失效，清洗的目的在于清楚表面污染杂质，包括有机物和无机物，这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片的表面，会导致各种缺陷。

在现有技术中，大多数企业清洗的方法是把硅片垂直均匀的码到硅片放置盒里，每两个硅片之间留有空隙，然后把硅片放入清洗液中浸泡对硅片进行清洗，但是浸泡清洗的效率很低，清洗质量差，残次品率高。

实用新型内容

鉴于现有技术中存在的不足和缺陷，本实用新型提供了一种对硅片进行上下晃动式的动态清洗方式，能解决浸泡清洗的效率低、质量差和残次品率高的问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：一种硅片清洗提动装置，其特征在于：包括底座、支撑板、清洗槽、提篮、滑动杆和动力结构，所述底座设置在最下端，所述支撑板设置在底座的上端，所述清洗槽设置在支撑板的上端，所述滑动杆竖直设置，滑动杆的上端贯穿且滑动设置在所述清洗槽的边沿上，滑动杆的下端贯穿且滑动设置在所述支撑板上，滑动杆的顶端固定设在所述提篮的边沿上，滑动杆的底端固定设在推动块上，所述推动块的中部设有平行的通孔，所述通孔内设有固定轴，所述固定轴的内侧固定在竖直块的端部，所述竖直块的另一端固定在动力结构的旋转轴上。

作为本实用新型的进一步改进，所述动力结构包括驱动电机、链轮、链条和所述旋转轴，所述驱动电机固定在所述底座上，驱动电机的输出轴上固定有链轮一，所述旋转轴旋转设置在支撑柱上，所述支撑柱固定在底座上，在旋转轴的所述链轮一的相应位置处设有链轮二，所述链轮一和所述链轮二通过链条连接，链轮二固定设置在旋转轴上。

作为本实用新型的进一步改进，所述旋转轴通过轴承与所述支撑柱旋转连接。

作为本实用新型的进一步改进，所述支撑板通过支撑杆固定在所述底座上，所述清洗槽通过支撑块固定在所述支撑板上。

作为本实用新型的进一步改进，所述动力结构设置在所述支撑板的下端。

作为本实用新型的进一步改进，所述提篮的底板和侧壁上均设有多个通孔。

作为本实用新型的进一步改进，所述滑动杆数量为4个，两两对称设置在所述清洗槽的两端。

作为本实用新型的进一步改进，所述滑动杆的顶端与所述提篮之间设有垫块。

与现有技术相比，本实用新型具有的有益效果为：本实用新型通过旋转轴旋转带动固定轴旋转，从而带动推动块和滑动杆的上下滑动，进而带动提篮的上下晃动，最终实现硅片在清洗液中上下晃动，有效提高了硅片清洗质量和效率，同时降低了残次品率。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步的说明：

图1为本实用新型的局部剖开结构示意图；

图2为推动块和固定轴的侧面结构示意图。

图中：1.底座，2.支撑板，3.清洗槽，4.提篮，5.滑动杆，6.驱动电机，7.链轮一，8.链轮二，9.链条，10.支撑柱，11.竖直块，12.固定轴，13.推动块，14.垫块，15.通孔,16.旋转轴,17.轴承。

值得注意的是，在本实用新型的描述中，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

具体实施方式

为了本实用新型的技术方案和有益效果更加清楚明白，下面结合附图和具体实施例对本实用新型进行进一步的详细说明，应当理解，此处所描述的具体实施方式仅用于理解本实用新型，并不用于限定本实用新型，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1，本实用新型提供一种技术方案：硅片清洗提动装置，包括底座1、支撑板2、清洗槽3、提篮4、滑动杆5和动力结构；

底座1设置在最下端，支撑板2设置在底座1的上端，清洗槽3设置在支撑板2的上端，支撑板2通过支撑杆固定在底座1上，清洗槽3通过支撑块固定在支撑板2上，动力结构设置在支撑板2的下端。

滑动杆5竖直设置，滑动杆5数量为4个，两两对称设置在清洗槽3的两端，滑动杆5的上端贯穿且滑动设置在清洗槽3的边沿上，滑动杆5的下端贯穿且滑动设置在支撑板2上，滑动杆5的顶端固定设在提篮4的边沿上，滑动杆5的顶端与提篮4之间设有垫块14，避免提篮4在上下晃动时与清洗槽3接触时振动过大而造成硅片的晃动，滑动杆5的底端固定设在推动块13上，每两个滑动杆5的底端固定在一个推动块13上，两个推动块13对称设置。

如图2所示，推动块13的中部设有平行的通孔15，通孔15内设有固定轴12，两个固定轴12的内侧均固定在竖直块11的端部，竖直块11的另一端固定在动力结构的旋转轴16上，固定轴12可以在通孔15内旋转，旋转轴16在进行旋转时，固定轴12沿旋转轴16为轴心进行旋转，在固定轴12沿旋转轴16旋转时，固定轴12把推动块13沿其旋转直径的距离进行上下推动，从而实现滑动杆5和提篮4的上下晃动；如图1所示，旋转轴16通过轴承17与支撑柱10旋转连接，旋转轴16与底座1之间的距离保持不变。

如图1所示，动力结构包括驱动电机6、链轮、链条9和旋转轴16，驱动电机6固定在底座1上，驱动电机6的输出轴上固定有链轮一7，旋转轴16旋转设置在支撑柱10上，支撑柱10固定在底座1上，在旋转轴16的链轮一7的相应位置处设有链轮二8，链轮一7和链轮二8通过链条9连接，链轮二8固定设置在旋转轴16上。

提篮4的底板和侧壁上均设有多个透孔，方便在提篮4进行上下晃动时清洗液进入和流出。

本实用新型在使用时，首先将均匀码放硅片的放置槽放入到提篮4中，然后开启驱动电机6，链轮一7转动，在链条9的牵引下，链轮二8开始转动，旋转轴16随之转动，然后固定轴12绕旋转轴16旋转，固定轴12在旋转时在推动块13的通孔15内来回滑动，同时推动块13上下滑动，滑动杆5也带动提篮4上下滑动，从而实现对硅片的上下晃动式的清洗，这种清洗方式让硅片清洗更干净，效率更高，因此降低了残次品率。

Claims (8)

1.一种硅片清洗提动装置，其特征在于：包括底座、支撑板、清洗槽、提篮、滑动杆和动力结构，所述底座设置在最下端，所述支撑板设置在底座的上端，所述清洗槽设置在支撑板的上端，所述滑动杆竖直设置，滑动杆的上端贯穿且滑动设置在所述清洗槽的边沿上，滑动杆的下端贯穿且滑动设置在所述支撑板上，滑动杆的顶端固定设在所述提篮的边沿上，滑动杆的底端固定设在推动块上，所述推动块的中部设有平行的通孔，所述通孔内设有固定轴，所述固定轴的内侧固定在竖直块的端部，所述竖直块的另一端固定在动力结构的旋转轴上。

2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗提动装置，其特征在于：所述动力结构包括驱动电机、链轮、链条和所述旋转轴，所述驱动电机固定在所述底座上，驱动电机的输出轴上固定有链轮一，所述旋转轴旋转设置在支撑柱上，所述支撑柱固定在底座上，在旋转轴的所述链轮一的相应位置处设有链轮二，所述链轮一和所述链轮二通过链条连接，链轮二固定设置在旋转轴上。

3.根据权利要求2所述的一种硅片清洗提动装置，其特征在于：所述旋转轴通过轴承与所述支撑柱旋转连接。

4.根据权利要求1所述的一种硅片清洗提动装置，其特征在于：所述支撑板通过支撑杆固定在所述底座上，所述清洗槽通过支撑块固定在所述支撑板上。

5.根据权利要求1所述的一种硅片清洗提动装置，其特征在于：所述动力结构设置在所述支撑板的下端。

6.根据权利要求1所述的一种硅片清洗提动装置，其特征在于：所述提篮的底板和侧壁上均设有多个通孔。

7.根据权利要求1所述的一种硅片清洗提动装置，其特征在于：所述滑动杆数量为4个，两两对称设置在所述清洗槽的两端。

8.根据权利要求1所述的一种硅片清洗提动装置，其特征在于：所述滑动杆的顶端与所述提篮之间设有垫块。

Images