CN214747283U - 坩埚水冷机构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种坩埚水冷机构,属于真空镀膜技术领域,包括水冷件,设置在所述坩埚底座的加工孔外部,用于供水对加工孔处的坩埚底座进行水冷;连接件,设置在所述水冷件的两端,用于将水从水冷件的一端导入,并从另一端导出。本实用新型通过在坩埚底座上设置水冷件与连接件配合,通过连接件将水导入坩埚底座内,通过坩埚底座将水加热后再导出,即将部分热量通过水带出,如此往复从而形成对坩埚底座进行连续水冷,保证了坩埚高效稳定运行。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜技术领域,具体是坩埚水冷机构。
背景技术
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。
目前的真空镀膜机中使用坩埚进行换料,由于坩埚主要由金属制成,导热性好,受电子枪加热时整体温度较高。
由于坩埚要做旋转运动,因此目前没有合适的散热装置进行稳定散热,导致换料无法高效进行。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种坩埚水冷机构,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
坩埚水冷机构,包括:
水冷件,设置在所述坩埚底座的加工孔外部,用于供水对加工孔处的坩埚底座进行水冷;
连接件,设置在所述水冷件的两端,用于将水从水冷件的一端导入,并从另一端导出。
作为本实用新型的进一步技术方案,所述水冷件包括:
水槽,开设在所述坩埚底座的一侧,所述水槽设置在加工孔外部并与其同轴设置;
水槽盖,设置在所述水槽内并与其相配合,用于对水槽进行密封。
作为本实用新型的更进一步技术方案,所述连接件包括:
进水单元,与所述水槽盖的一端相连通,用于将水导入水槽;
出水单元,与所述水槽盖远离进水单元的一端相连通,用于将水槽中的水导出。
作为本实用新型的再进一步技术方案,所述进水单元包括:
进水管,一端与所述水槽盖固定连接;
进水接头,固定安装在所述进水管远离水槽盖的一端。
作为本实用新型的再进一步技术方案,所述出水单元包括:
出水管,一端与所述水槽盖远离进水管的一端相连;
出水接头,固定安装在所述出水管远离水槽盖的一端。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:通过在坩埚底座上设置水冷件与连接件配合,通过连接件将水导入坩埚底座内,通过坩埚底座将水加热后再导出,即将部分热量通过水带出,如此往复从而形成对坩埚底座进行水冷,保证了坩埚高效稳定运行。
附图说明
图1为坩埚水冷机构的结构示意图;
图2为坩埚水冷机构中坩埚底座的结构示意图;
图3为坩埚水冷机构中水槽盖的结构示意图;
图4为另一实施例中坩埚水冷机构的结构示意图。
图中:1-坩埚底座、2-加工孔、3-放料孔、4-水冷件、5-水槽、6-水槽盖、7-进水孔、8-出水孔、9-进水管、10-进水接头、11-出水管、12-出水接头。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
本实用新型实施例是这样实现的,如图1-4所示的坩埚水冷机构,包括:
水冷件4,设置在所述坩埚底座1的加工孔2外部,用于供水对加工孔2处的坩埚底座1进行水冷;
连接件,设置在所述水冷件4的两端,用于将水从水冷件4的一端导入,并从另一端导出。
本实施例在实际应用时,坩埚底座1开设有加工孔2和放料孔3,即在加工孔2内加工,加工时产生热量,加工后从放料孔3中将物料放出,为降低加工处的热量积累影响正常工作,通过连接件将外部供水设备的水导入水冷件4内,水在水冷件4内流动时,坩埚底座1的热量对水进行加热,加热后的水从连接件流出,从而将部分热量带走,如此往复,实现对坩埚底座1进行冷却,保证了坩埚底座1可以高效稳定运行。
如图2、3所示,作为本实用新型一个优选的实施例,所述水冷件4包括:
水槽5,开设在所述坩埚底座1的一侧,所述水槽5设置在加工孔2外部并与其同轴设置;
水槽盖6,设置在所述水槽5内并与其相配合,用于对水槽5进行密封。
在本实施例的一种情况中,通过水槽盖6对水槽5进行密封,水槽5内形成的密封空腔用于供水流动并带出热量,具体的,即在加热孔2的周围底部开一横截面为倒“凸”形的半环形槽,半环形槽两头延伸出同样横截面的两直槽(为了避开水槽5附近的从动齿轮),再满焊一同样外形的水槽盖6,就形成了一密闭的水槽腔。
如图3所示,作为本实用新型另一个优选的实施例,所述连接件包括:
进水单元,与所述水槽盖6的一端相连通,用于将水导入水槽5;
出水单元,与所述水槽盖6远离进水单元的一端相连通,用于将水槽5中的水导出。
在本实施例的一种情况中,水从进水单元导入水槽5一端内部,并从另一端导出,在水槽5内流动的过程中,通过水将部分热量吸收并带出,从而实现降温,为方便连接,在水槽盖6的一端开设进水孔7与进水单元配合,并在另一端开设出水孔8与出水单元配合。
如图3所示,作为本实用新型另一个优选的实施例,所述进水单元包括:
进水管9,一端与所述水槽盖6固定连接;
进水接头10,固定安装在所述进水管9远离水槽盖6的一端。
在本实施例的一种情况中,进水接头10方便与外部供水设备的进水通道连接,进水管9安装在进水孔7的外部,在进水时外部供水设备与进水接头10连接,流进进水管9的水从进水孔7流入水槽5内进行吸热。
如图3所示,作为本实用新型另一个优选的实施例,所述出水单元包括:
出水管11,一端与所述水槽盖6远离进水管9的一端相连;
出水接头12,固定安装在所述出水管11远离水槽盖6的一端。
在本实施例的一种情况中,出水接头12方便与出水通道连接将热水排至合适位置,具体为出水管11一端安装在出水孔8外部,在排水时,水槽5内的水从出水孔8流入出水管11,然后再经过出水接头12流入出水通道,最后送到合适位置,或者在冷却后重新送入进水通道,进行循环冷却,更加节水。
对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
Claims (5)
1.坩埚水冷机构,用于对坩埚上的坩埚底座进行水冷,其特征在于,所述坩埚水冷机构包括:
水冷件,设置在所述坩埚底座的加工孔外部,用于供水对加工孔处的坩埚底座进行水冷;
连接件,设置在所述水冷件的两端,用于将水从水冷件的一端导入,并从另一端导出。
2.根据权利要求1所述的坩埚水冷机构,其特征在于,所述水冷件包括:
水槽,开设在所述坩埚底座的一侧,所述水槽设置在加工孔外部并与其同轴设置;
水槽盖,设置在所述水槽内并与其相配合,用于对水槽进行密封。
3.根据权利要求2所述的坩埚水冷机构,其特征在于,所述连接件包括:
进水单元,与所述水槽盖的一端相连通,用于将水导入水槽;
出水单元,与所述水槽盖远离进水单元的一端相连通,用于将水槽中的水导出。
4.根据权利要求3所述的坩埚水冷机构,其特征在于,所述进水单元包括:
进水管,一端与所述水槽盖固定连接;
进水接头,固定安装在所述进水管远离水槽盖的一端。
5.根据权利要求4所述的坩埚水冷机构,其特征在于,所述出水单元包括:
出水管,一端与所述水槽盖远离进水管的一端相连;
出水接头,固定安装在所述出水管远离水槽盖的一端。
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---|---|---|---|
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2021
- 2021-05-10 CN CN202120987230.7U patent/CN214747283U/zh active Active
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