CN214717056U - 一种带有清洗功能的提取装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种带有清洗功能的提取装置，包括本体，本体上部一侧设置有进料口，本体内设置有隔板，且隔板将本体分割成研磨室和沉淀室，研磨室设置于沉淀室上方，本体上部安装有第一升降装置，第一升降装置的输出端设置于研磨室内，且第一升降装置的输出端连接有旋转装置，旋转装置下方安装有上研磨盘，隔板下方设置有支撑杆，支撑杆固定于本体侧壁上，支撑杆上方设置有第二升降装置，第二升降装置的输出端设置于研磨室内，且第二升降装置的输出端上安装有下研磨盘，下研磨盘内设置有超声波清洗装置，隔板上设置有设置有下料口，沉淀室上部设置有上液位器，下部设置有下液位器，沉淀室下方设置有底座，底座内安装有搅拌装置。

Description

一种带有清洗功能的提取装置

技术领域

本实用新型涉及注射液生产领域，具体涉及一种带有清洗功能的提取装置。

背景技术

提取装置是注射液生产过程中必不可少的装置，现有的提取装置仅对原料进行提取，这样的提取不够充分；而且现有的提取装置需要人工进行清洗，十分费事，增加了生产成本。

发明内容

为解决现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种结构简单，提取更加充分，能够快速自我清洗的带有清洗功能的提取装置。

为了实现上述目标，本实用新型采用如下的技术方案：

一种带有清洗功能的提取装置，包括本体，所述本体上部一侧设置有进料口，所述本体内设置有隔板，且隔板将本体分割成研磨室和沉淀室，所述研磨室设置于沉淀室上方，所述本体上部安装有第一升降装置，所述第一升降装置的输出端设置于研磨室内，且第一升降装置的输出端连接有旋转装置，所述旋转装置下方安装有上研磨盘，所述隔板下方设置有支撑杆，所述支撑杆固定于本体侧壁上，所述支撑杆上方设置有第二升降装置，所述第二升降装置的输出端设置于研磨室内，且第二升降装置的输出端上安装有下研磨盘，所述下研磨盘内设置有超声波清洗装置，所述隔板上设置有设置有下料口，所述沉淀室上部设置有上液位器，下部设置有下液位器，所述沉淀室下方设置有底座，所述底座内安装有搅拌装置，所述搅拌装置的输出端设置于沉淀室内，所述沉淀室中部一侧设置有出液管，所述出液管上设置有第一控制阀，所述出液管另一侧设置有第一泵，所述沉淀室下部一侧设置有出料管，所述出料管上设置有第二控制阀，所述出料管另一端设置有第二泵。

作为本实用新型的进一步优选，所述上研磨盘设置为圆形结构，所述上研磨盘下表面由外向内依次形成有若干第一上研磨头，且中部设置有第二上研磨头，所述第一上研磨头设置为环形结构，相邻两个所述所述第一上研磨头之间和第一上研磨头与第二上仰头之间均设置有凹槽。

作为本实用新型的进一步优选，所述下研磨盘设置为圆形结构，且外圈垂直向上设置有挡块，所述下研磨盘上表面由外向内依次形成有若干下研磨头，所述下研磨头均设置为环形结构。

作为本实用新型的进一步优选，所述上研磨盘与下研磨盘相配合，所述下研磨头设置于凹槽内，所述上研磨盘的直径小于挡块的内径。

作为本实用新型的进一步优选，所述超声波清洗装置包括若干清洗喷头，所述下研磨盘的内壁和外壁上分别均匀设置有若干清洗喷头。

本实用新型的有益之处在于：本实用新型结构简单，便于操作，既能够快速提取，还能够实现自我清洗，提高装置的使用效率；通过上研磨盘和下研磨盘能够快速、有效的对原料进行再研磨，有效提高提取装置的提取率；通过设置旋转装置和环形的研磨头，使研磨能够充分；通过将超声波清洗装置设置于下研磨盘内，通过升降装置的上下移动，既可以对上研磨盘进行清洗，还可以对本体的侧壁进行清洗，使清洗更加彻底；通过设置沉淀室和两个液位器，能够更好的控制出液速率，保证出液的质量。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是下研磨盘的俯视图；

图3是下研磨盘的主视图；

图4是上研磨盘的俯视图；

图5是上研磨盘的主视图。

图中附图标记的含义：1、本体，2、进料口，3、第一升降装置，4、旋转装置，5、上研磨盘，501、第一上研磨头，502、凹槽，503、第二上研磨头，6、隔板，7、下研磨盘，701、挡块，702、下研磨头，8、第二升降装置，9、超声波清洗装置，10、支撑杆，11、下料口，12、上液位器，13、下液位器，14、搅拌装置，15、出液管，16、第一控制阀，17、第一泵，18、出料管，19、第二控制阀，20、第二泵，21、底座。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本实用新型作具体的介绍。

一种带有清洗功能的提取装置，包括本体1，所述本体1上部一侧设置有进料口2，所述本体1内设置有隔板6，且隔板6将本体1分割成研磨室和沉淀室，所述研磨室设置于沉淀室上方。

所述本体1上部安装有第一升降装置3，所述第一升降装置3的输出端设置于研磨室内，且第一升降装置3的输出端连接有旋转装置4，所述旋转装置4下方安装有上研磨盘5。

所述上研磨盘5设置为圆形结构，所述上研磨盘5下表面由外向内依次形成有若干第一上研磨头501，且中部设置有第二上研磨头503，相邻两个所述所述第一上研磨头501之间和第一上研磨头501与第二上仰头之间均设置有凹槽502，所述第一上研磨头501设置为环形结构。

所述隔板6下方设置有支撑杆10，所述支撑杆10固定于本体1侧壁上，所述支撑杆10上方设置有第二升降装置8，所述第二升降装置8的输出端设置于研磨室内。

第二升降装置8的输出端上安装有下研磨盘7，下研磨盘7设置为圆形结构，且外圈垂直向上设置有挡块701，所述下研磨盘7上表面由外向内依次形成有若干下研磨头702，所述下研磨头702均设置为环形结构。

上研磨盘5与下研磨盘7相配合，所述下研磨头702设置于凹槽502内，所述上研磨盘5的直径小于挡块701的内径。

所述下研磨盘7内设置有超声波清洗装置9，超声波清洗装置9包括若干清洗喷头，所述下研磨盘7的内壁和外壁上分别均匀设置有若干清洗喷头。

所述隔板6上设置有设置有下料口11，所述沉淀室上部设置有上液位器12，下部设置有下液位器13，所述沉淀室下方设置有底座21，所述底座21内安装有搅拌装置14，所述搅拌装置14的输出端设置于沉淀室内。

所述沉淀室中部一侧设置有出液管15，所述出液管15上设置有第一控制阀16，所述出液管15另一侧设置有第一泵17，所述沉淀室下部一侧设置有出料管18，所述出料管18上设置有第二控制阀19，所述出料管18另一端设置有第二泵20。

为了更好的阐述本实用新型，下面具体说明其工作过程：

将原料和水通过进料口2送入研磨室内，第一升降装置3带动上研磨盘5下降，当上研磨盘5与原料接触后，停止下降，启动旋转装置4，带动上研磨盘5旋转进行研磨；每研磨5分钟后，将上研磨盘5抬起，后再次下降，且下降高度大于前一次下降高度，直至与下研磨盘7相接触或接近下研磨盘7上表面。

研磨后，通过下料口11将液体与沉淀室内进行沉淀，启动搅拌装置143分钟后关闭，提高沉淀效率，沉淀一段时间后，若液面到达上液位器12下端，开启第一控制阀16和第一泵17，进行出液；当沉淀室底下沉渣到达下液位器13上端，开启第二控制打和第二泵20，进行出料，并对废料进行回收。

完成提取后，向本体1内注清水，打开超声波清洗装置9，对研磨进行清洗，随后，打开搅拌装置14，清洗沉淀室，循环3-5次后后，清洗完毕，可进行下次提取。

本实用新型的有益之处在于：本实用新型结构简单，便于操作，既能够快速提取，还能够实现自我清洗，提高装置的使用效率；通过上研磨盘5和下研磨盘7能够快速、有效的对原料进行再研磨，有效提高提取装置的提取率；通过设置旋转装置4和环形的研磨头，使研磨能够充分；通过将超声波清洗装置9设置于下研磨盘7内，通过升降装置的上下移动，既可以对上研磨盘5进行清洗，还可以对本体1的侧壁进行清洗，使清洗更加彻底；通过设置沉淀室和两个液位器，能够更好的控制出液速率，保证出液的质量。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，上述实施例不以任何形式限制本实用新型，凡采用等同替换或等效变换的方式所获得的技术方案，均落在本实用新型的保护范围内。

Claims (5)

1.一种带有清洗功能的提取装置，包括本体，其特征在于，所述本体上部一侧设置有进料口，所述本体内设置有隔板，且隔板将本体分割成研磨室和沉淀室，所述研磨室设置于沉淀室上方，所述本体上部安装有第一升降装置，所述第一升降装置的输出端设置于研磨室内，且第一升降装置的输出端连接有旋转装置，所述旋转装置下方安装有上研磨盘，所述隔板下方设置有支撑杆，所述支撑杆固定于本体侧壁上，所述支撑杆上方设置有第二升降装置，所述第二升降装置的输出端设置于研磨室内，且第二升降装置的输出端上安装有下研磨盘，所述下研磨盘内设置有超声波清洗装置，所述隔板上设置有设置有下料口，所述沉淀室上部设置有上液位器，下部设置有下液位器，所述沉淀室下方设置有底座，所述底座内安装有搅拌装置，所述搅拌装置的输出端设置于沉淀室内，所述沉淀室中部一侧设置有出液管，所述出液管上设置有第一控制阀，所述出液管另一侧设置有第一泵，所述沉淀室下部一侧设置有出料管，所述出料管上设置有第二控制阀，所述出料管另一端设置有第二泵。

2.根据权利要求1所述的一种带有清洗功能的提取装置，其特征在于，所述上研磨盘设置为圆形结构，所述上研磨盘下表面由外向内依次形成有若干第一上研磨头，且中部设置有第二上研磨头，所述第一上研磨头设置为环形结构，相邻两个所述第一上研磨头之间和第一上研磨头与第二上仰头之间均设置有凹槽。

3.根据权利要求2所述的一种带有清洗功能的提取装置，其特征在于，所述下研磨盘设置为圆形结构，且外圈垂直向上设置有挡块，所述下研磨盘上表面由外向内依次形成有若干下研磨头，所述下研磨头均设置为环形结构。

4.根据权利要求3所述的一种带有清洗功能的提取装置，其特征在于，所述上研磨盘与下研磨盘相配合，所述下研磨头设置于凹槽内，所述上研磨盘的直径小于挡块的内径。

5.根据权利要求4所述的一种带有清洗功能的提取装置，其特征在于，所述超声波清洗装置包括若干清洗喷头，所述下研磨盘的内壁和外壁上分别均匀设置有若干清洗喷头。

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