CN214703382U - 用于半导体器件开封样品的观察装置 - Google Patents

用于半导体器件开封样品的观察装置 Download PDF

Info

Publication number
CN214703382U
CN214703382U CN202121058798.7U CN202121058798U CN214703382U CN 214703382 U CN214703382 U CN 214703382U CN 202121058798 U CN202121058798 U CN 202121058798U CN 214703382 U CN214703382 U CN 214703382U
Authority
CN
China
Prior art keywords
semiconductor device
observation
placing groove
unsealing
seat
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202121058798.7U
Other languages
English (en)
Inventor
姜开飞
朱崎
邢力军
黄宛明
魏冬
朱立海
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Qingdao Tairuisi Microelectronics Co Ltd
Original Assignee
Qingdao Tairuisi Microelectronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Qingdao Tairuisi Microelectronics Co Ltd filed Critical Qingdao Tairuisi Microelectronics Co Ltd
Priority to CN202121058798.7U priority Critical patent/CN214703382U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN214703382U publication Critical patent/CN214703382U/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

本实用新型公开了一种用于半导体器件开封样品的观察装置,包括观察座(1),观察座(1)的中部形成有器件置放槽(11),器件置放槽(11)向上贯穿观察座(1);器件置放槽(11)的深度大于半导体器件(2)的高度,半导体器件(2)放置在器件置放槽(11)内,器件置放槽(11)内灌装清水,且半导体器件(2)完全浸入在水面下方。本实用新型能利用水的折射性使置于器件置放槽内水面下方的半导体器件的表面显得更干净,在对半导体器件进行开封观察时无需清洁半导体器件表面,从而直接、清楚的观察半导体器件的表面。

Description

用于半导体器件开封样品的观察装置
技术领域
本实用新型涉及一种半导体器件检测工具,尤其涉及一种用于半导体器件开封样品的观察装置。
背景技术
半导体器件开封也称为元器件开盖或元器件开帽,是常用的一种失效分析时破坏性检测方法,半导体器件开封是通过使用化学方法或者物理方法将元器件表面的封装去除,通过光学显微镜观察半导体器件内部的引线连接情况,得到开封观察结果。
在现有技术的半导体器件的开封操作时,由于开封时酸剂等化学剂的不可控性,导致半导体器件的表面存在脏污和腐蚀污染现象,影响了光学显微镜对半导体器件表面的观察,对半导体器件的开封观察结果的准确性有一定的影响,且容易引起用户对产品质量的误解。为了解决酸剂导致的半导体器件表面脏污的问题,通常需要采用化学物质对半导体器件进行清洁,且需要人工反复清洁,费时费力,工作效率低且成本高。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种用于半导体器件开封样品的观察装置,能利用水的折射性使置于器件置放槽内水面下方的半导体器件的表面显得更干净,在对半导体器件进行开封观察时无需清洁半导体器件表面,从而直接、清楚的观察半导体器件的表面。
本实用新型是这样实现的:
一种用于半导体器件开封样品的观察装置,包括观察座,观察座的中部形成有器件置放槽,器件置放槽向上贯穿观察座;器件置放槽的深度大于半导体器件的高度,半导体器件放置在器件置放槽内,器件置放槽内灌装清水,且半导体器件完全浸入在水面下方。
所述的观察座中器件置放槽的横截面形状及尺寸与半导体器件的形状及尺寸相匹配,使半导体器件能固定在器件置放槽内。
所述的器件置放槽的横截面为矩形结构,观察座为圆柱体结构。
所述的观察座的侧壁上形成有若干条防滑纹。
本实用新型能利用水的折射性使置于器件置放槽内水面下方的半导体器件的表面显得更干净,在对半导体器件进行开封观察时无需反复清洁半导体器件表面,从而可以通过光学显微镜直接、清楚的观察半导体器件的表面,并及时得到开封观察结果,降低了对半导体器件的误判率,提高了半导体器件的开封工作效率和质量,也提高了客户的满意度;同时,避免了人工反复清洁半导体器件表面的低效操作流程,降低了清洁半导体器件表面的酸类化学品的消耗,降低了开封工作的成本。
附图说明
图1是本实用新型用于半导体器件开封样品的观察装置的立体图;
图2是本实用新型用于半导体器件开封样品的观察装置的剖视图。
图中,1观察座,11器件置放槽,12防滑纹,2半导体器件。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明。
请参见附图1和附图2,一种用于半导体器件开封样品的观察装置,包括观察座1,观察座1的中部形成有器件置放槽11,器件置放槽11向上贯穿观察座1;器件置放槽11的深度大于半导体器件2的高度,半导体器件2放置在器件置放槽11内,器件置放槽11内灌装清水,且半导体器件2完全浸入在水面下方。使用时直接将半导体器件2置于器件置放槽11内并浸没于水面下方,再将装有半导体器件2的观察座1直接置于光学显微镜上,并使半导体器件2的表面位于光学显微镜的目镜下方即可,采用光学显微镜可直接对半导体器件2的表面进行开封观察和照片拍摄。
所述的观察座1中器件置放槽11的横截面形状及尺寸与半导体器件2的形状及尺寸相匹配,使半导体器件2能固定在器件置放槽11内。器件置放槽11的尺寸也可略大于半导体器件2的尺寸,通过预留间隙更方便半导体器件2的置入和取出。
优选的,所述的器件置放槽11的横截面为矩形结构,观察座1为圆柱体结构,提高本实用新型对各种类型的半导体器件2的通用性,也提高本实用新型在各种类型的光学显微镜上的通用性。
所述的观察座1的侧壁上形成有若干条防滑纹12,能起到良好的防滑作用,便于观察座1在光学显微镜上的固定,从而方便光学显微镜对半导体器件2的观察。
本实用新型用于半导体器件开封样品的观察装置的使用方法是:
将开封的半导体器件2固定置于观察座1的器件置放槽11内,并在器件置放槽11内装入清水,且使清水浸没过半导体器件2的表面。将观察座1置于光学显微镜上,且半导体器件2的表面对准光学显微镜的目镜,即可通过光学显微镜观察半导体器件2,光学显微镜对半导体器件2的开封观察方法与现有技术一致,此处不再赘述。
利用水的折射性,使半导体器件2的表面在水中显得更干净,从而能通过光学显微镜观察到较清晰的半导体器件2的表面,并提供良好的拍照条件,及时得到半导体器件2的开封观察结果,操作人员无需采用酸类化学品对半导体器件2的表面进行反复清洁,大大提高了开封工作效率,减少了操作人员的工时,使开封工作更简单、便捷。
以上仅为本实用新型的较佳实施例而已,并非用于限定本实用新型的保护范围,因此,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (4)

1.一种用于半导体器件开封样品的观察装置,其特征是:包括观察座(1),观察座(1)的中部形成有器件置放槽(11),器件置放槽(11)向上贯穿观察座(1);器件置放槽(11)的深度大于半导体器件(2)的高度,半导体器件(2)放置在器件置放槽(11)内,器件置放槽(11)内灌装清水,且半导体器件(2)完全浸入在水面下方。
2.根据权利要求1所述的用于半导体器件开封样品的观察装置,其特征是:所述的观察座(1)中器件置放槽(11)的横截面形状及尺寸与半导体器件(2)的形状及尺寸相匹配,使半导体器件(2)能固定在器件置放槽(11)内。
3.根据权利要求1或2所述的用于半导体器件开封样品的观察装置,其特征是:所述的器件置放槽(11)的横截面为矩形结构,观察座(1)为圆柱体结构。
4.根据权利要求1或2所述的用于半导体器件开封样品的观察装置,其特征是:所述的观察座(1)的侧壁上形成有若干条防滑纹(12)。
CN202121058798.7U 2021-05-18 2021-05-18 用于半导体器件开封样品的观察装置 Active CN214703382U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202121058798.7U CN214703382U (zh) 2021-05-18 2021-05-18 用于半导体器件开封样品的观察装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202121058798.7U CN214703382U (zh) 2021-05-18 2021-05-18 用于半导体器件开封样品的观察装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN214703382U true CN214703382U (zh) 2021-11-12

Family

ID=78552840

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202121058798.7U Active CN214703382U (zh) 2021-05-18 2021-05-18 用于半导体器件开封样品的观察装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN214703382U (zh)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20150192601A1 (en) Apparatus, systems, and methods to clean probes in clinical analyzers
WO2016065366A1 (en) Method and device for detecting substances on surfaces
JPH05502726A (ja) 試薬分配プローブを洗浄するための装置および方法
TW419769B (en) Process for monitoring the concentration of metallic impurities in a wafer cleaning solution
CN108489995A (zh) 一种基于渗透无损金属探伤在线检定方法及系统
CN214703382U (zh) 用于半导体器件开封样品的观察装置
JP7142570B2 (ja) 水道水供給ユニットのための処理方法
JP2018531091A6 (ja) 水道水供給ユニットのための処理方法
JP2011106828A (ja) 分注装置、自動分析装置及び分注方法
JPH11271331A (ja) サンプリングノズルの洗浄機構
CN111330902B (zh) 一种扫描喷嘴清洗槽及清洗方法
KR100939285B1 (ko) 실험기구 세척장치
JP4703870B2 (ja) 使用済高純度過酸化水素水充填用容器の汚染検査方法および検査装置
CN114225985A (zh) 一种实验室用酸缸装置
JPH05275410A (ja) ウェーハ表面の付着有機化合物の評価方法
DE69224918T2 (de) Vorrichtung zur aufnahme von schmutz und verfahren zum messen der oberflächenreinheit
JPH01254871A (ja) 分析装置用分注ノズルの洗浄方法および分注ノズル装置
JPH06242058A (ja) 測定用電極の洗浄方法及び洗浄装置
JPS6126849A (ja) 水溶液のイオン濃度自動測定装置
US8541194B2 (en) Detecting micro-organisms in an electrocoating process
JPS63128261A (ja) プロ−プ洗浄槽
CN219511931U (zh) 一种镶嵌钻石分级预处理装置
CN210775503U (zh) 一种可重复使用的检测杯
JPH0731939A (ja) 洗浄評価法
JPS5850306Y2 (ja) 水質測定装置

Legal Events

Date Code Title Description
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant