CN214646766U - 一种玻璃盖板丝印处理等离子清洗系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种玻璃盖板丝印处理等离子清洗系统，包括操作台，操作台上设置运输带，运输带上设置清洗箱，所述清洗箱内壁一侧固定设置有调节组件，清洗箱内部另一侧固定设置有等离子发射机构，调节组件包括调节框，调节框内部设置有螺纹杆，调节框一侧壁上设置有两个滑动块，滑块靠近调节块内部的一侧上设置有齿板。本实用新型中清洗箱内部一侧设置调节框，调节框上嵌入有两个滑动块，且滑动块一侧设置的齿板与调节箱内部设置的螺纹杆相嵌合，当第一运输区和第二运输区运输带有载具的玻璃盖板时，等离子发射器轻柔冲刷被清洗物玻璃盖板的表面，利用短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉。

Description

一种玻璃盖板丝印处理等离子清洗系统

技术领域

本实用新型涉及玻璃盖板清洗技术领域，具体涉及一种玻璃盖板丝印处理等离子清洗系统。

背景技术

在玻璃盖板生产过程中，需要对玻璃盖板表面的灰尘、油污等污染物进行超声波清洗，手机或平板的生产组装中，屏幕是必不可少的，而屏幕一般都是由玻璃盖板经打孔等工序的处理形成所需要的尺寸的屏幕，众所周知，手机盖板玻璃清洗装置是一种用于手机等生产过程中，对其所使用的玻璃盖板进行清洗处理，以提高其表面清洁度的附属装置，其在手机等生产的领域中得到了广泛的使用。

现有技术存在以下不足：市面上一般都是将玻璃盖板放入超声波清洗机中进行清洗，但是超声波清洗的过程中，玻璃盖板会震动，震动过程中，玻璃盖板容易与载具发生碰撞而受损，影响玻璃盖板的良品率，同时采用超声波清理，在针对玻璃盖板上的通孔处，清洗效果不佳。

因此，发明一种玻璃盖板丝印处理等离子清洗系统很有必要。

实用新型内容

为此，本实用新型提供一种玻璃盖板丝印处理等离子清洗系统，通过在清洗箱内部设置等离子发射机构和等离子发射器，以解决超声波清洗的过程中，玻璃盖板会震动，震动过程中，玻璃盖板容易与载具发生碰撞而受损，影响玻璃盖板的良品率；采用超声波进行清理时，清洗效果不佳的问题。

为了实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种玻璃盖板丝印处理等离子清洗系统，包括操作台，所述操作台上设置运输带，所述运输带上设置清洗箱，所述清洗箱内壁一侧固定设置有调节组件，所述清洗箱内部另一侧固定设置有等离子发射机构，所述调节组件包括调节框，所述调节框内部设置有螺纹杆，所述螺纹杆包括连接轴，所述连接轴上固定设置有第一锥齿轮，所述连接轴底部固定设置有伺服电机，所述伺服电机输出端固定设置有第二锥齿轮且所述第二锥齿轮与第一锥齿轮啮合连接，所述连接轴两端分别设置有第一螺纹部和第二螺纹部，所述调节框一侧壁上设置有两个滑动块，两个所述滑动块嵌入在调节框上，所述滑动块靠近调节框的一侧上设置有齿板，所述齿板与调节块固定连接，所述齿板分别与第一螺纹部和第二螺纹部啮合连接。

优选的，所述滑动块远离螺纹杆的一侧固定连接有安装板，所述安装板上设置有清洗组件，所述清洗组件包括储存箱，所述储存箱底部固定设置有等离子发射器，所述储存箱顶部设置有波纹管，所述储存箱通过波纹管与等离子发射机构连接。

优选的，所述调节框一侧顶部开设有凹槽，所述凹槽内部设置有滚轮，所述调节框通过滚轮与滑动块滑动连接。

优选的，所述运输带上固定设置有分割板，由所述分割板在运输带上形成第一运输区和第二运输区，所述第一运输区和第二运输区上均匀等距设置有载具，所述载具上设置有玻璃盖板。

优选的，所述第一螺纹部和第二螺纹部的螺旋方向相反，所述螺纹杆两端与调节框通过轴承连接。

优选的，所述第一螺纹部和第二螺纹部分别与第一运输区和第二运输区相对应。

优选的，所述运输带采用通透式传送带，所述载具采用通透式载具，所述运输带底部设置有收集盒，所述收集盒底部与操作台抵接。

本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型中通过在清洗箱内部设等离子发生器，清洗箱内部一侧设置调节框，调节框上嵌入有两个滑动块，且滑动块一侧设置的齿板与调节箱内部设置的螺纹杆相切合，进而使得当第一运输区和第二运输区运输带有载具的玻璃盖板时，螺纹杆旋转使得两个滑动块带动等离子发生器进行横向的位移调节，通过等离子发射机构对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态，通过利用等离子体的活性组分的性质来处理玻璃盖板表面，等离子发射器轻柔冲刷被清洗物玻璃盖板的表面，利用短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉，从而提高后续的丝印效果；

2、本实用新型中通过将隔断板将运输台分割成第一运输区和第二运输区，第一运输区和第二运输区的设置最大化合理的利用的运输带进行运输工，通过调节框上设置的两个滑动块，且两个滑动块一侧均设置有等离子发射器，进而分别对第一运输区和第二运输区上的玻璃盖板进行清洗，等离子发射器通过调节块带动横向的位移调节，使得等离子发射器发射的轻柔清洗物，可完整的覆盖玻璃盖板，进而对玻璃盖板表面进行，清洗除污工作，工作效率高，实用性好。

附图说明

图1为本实用新型提供的玻璃盖板丝印处理等离子清洗系统的整体结构示意图；

图2为本实用新型提供的玻璃盖板丝印处理等离子清洗系统的剖视图；

图3为本实用新型提供的调节箱的内部结构示意图；

图4为本实用新型提供的图2中A处的放大图；

图5为本实用新型提供的图3中B处的放大图。

图中：1、操作台；2、运输带；3、清洗箱；4、等离子发射机构；5、调节框；6、螺纹杆；7、连接轴；8、第一锥齿轮；9、伺服电机；10、第二锥齿轮； 11、第一螺纹部；12、第二螺纹部；13、滑动块；14、齿板；15、安装板；16、储存箱；17、等离子发射器；18、波纹管；19、滚轮；20、分割板；21、第一运输区；22、第二运输区；23、载具；24、收集盒。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

实施例，参照附图1-4，本实用新型提供的一种玻璃盖板丝印处理等离子清洗系统，包括操作台1，所述操作台1上设置运输带2，所述运输带2上设置清洗箱3，所述清洗箱3内壁一侧固定设置有调节组件，所述清洗箱3内部另一侧固定设置有等离子发射机构4，所述调节组件包括调节框5，所述调节框5内部设置有螺纹杆6，所述螺纹杆6包括连接轴7，所述连接轴7上固定设置有第一锥齿轮8，所述连接轴7底部固定设置有伺服电机9，所述伺服电机9输出端固定设置有第二锥齿轮10且所述第二锥齿轮10与第一锥齿轮8啮合连接，所述连接轴7两端分别设置有第一螺纹部11和第二螺纹部12，所述调节框5一侧壁上设置有两个滑动块13，两个所述滑动块13嵌入在调节框5上，所述滑动块 13靠近调节框5的一侧上设置有齿板14，所述齿板14与调节块固定连接，所述齿板14分别与第一螺纹部11和第二螺纹部12啮合连接。

本实用新型中采用等离子发射机构4和等离子发射器17的配合使用完成对玻璃盖板的清洁除污工作，采用等离子体进行清洗是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果，等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素亚稳态、光子等，等离子清洁机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的，目前等离子体清洗技术为现有且已经成熟的技术，再次不多赘述。

进一步地，所述滑动块13远离螺纹杆6的一侧固定连接有安装板15，所述安装板15上设置有清洗组件，所述清洗组件包括储存箱16，所述储存箱16底部固定设置有等离子发射器17，所述储存箱16顶部设置有波纹管18，所述储存箱16通过波纹管18与等离子发射机构4连接，储存箱16通过波纹管18将清洗物传输给等离子发射器17，第一运输区21和第二运输区22上均设置等离子发射器17，通过等离子发射器17发射的轻柔等离子清洁物对玻璃盖板进行清洗工作；

进一步地，所述调节框5一侧顶部开设有凹槽，所述凹槽内部设置有滚轮 19，所述调节框5通过滚轮19与滑动块13滑动连接，由于滑动块13嵌入在调节框5上，通过调节框5上设置的滚轮19，进而降低滑动块13与调节框5之间的摩擦力，便于调节块带动等离子发射器17的横向位移调节；

进一步地，所述运输带2上固定设置有分割板20，由所述分割板20在运输带2上形成第一运输区21和第二运输区22，所述第一运输区21和第二运输区 22上均匀等距设置有载具23，所述载具23上设置有玻璃盖板，通过分割板20 对运输带2进行分割，进而形成第一运输区21和第二运输区22，最大化合理的利用的运输带2进行运输工作，一定程度上提高对玻璃盖板的清洗效率；

进一步地，所述第一螺纹部11和第二螺纹部12的螺旋方向相反，所述螺纹杆6两端与调节框5通过轴承连接，第一螺纹部11和第二螺纹部12的设置，使得两个滑动块13及等离子发射器17分别对应第一运输区21和第二运输区22；

进一步地，所述第一螺纹部11和第二螺纹部12分别与第一运输区21和第二运输区22相对应；

进一步地，所述运输带2采用通透式传送带，所述载具23采用通透式载具 23，所述运输带2底部设置有收集盒24，所述收集盒24底部与操作台1抵接，由于载具23和运输带2均采用通透式的，进而对玻璃盖板进行清洗过后，清洗后便于通过运输带2和载具23，落入收集盒24中。

本实用新型的使用过程如下：在使用本实用新型时接通电源，将多个安放有玻璃盖板的载具23分别放置在第一运输区21和第二运输区22上，当运输带 2对玻璃盖板进行运输时，当运输带2将玻璃盖板运输至清洗箱3内部时，伺服电机9启动，由于伺服电机9输出端设置的第二锥齿轮10与螺纹杆6上的第一锥齿轮8啮合连接，进而使得螺纹杆6与伺服电机9同步旋转，调节框5一侧设置的两个滑动块13和两个等离子发射器17，两个滑动块13一侧设置的齿板 14分别与第一螺纹部11和第二螺纹部12啮合连接，进而当螺纹杆6旋转时，两个滑动块13通过齿板14使得滑动块13带动等离子发射器17沿着调节框5 的方向进行横向位移，同时由于第一螺纹部11和第二螺纹部12的螺旋方向相反，通过控制伺服电机9，使得两个滑动块13分别在第一运输区21和第二运输区22进行往复运动，使得等离子发射器17发射的轻柔清洗物，可完整的覆盖玻璃盖板，进而对玻璃盖板表面进行清洗除污工作。

以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例，任何熟悉本领域的技术人员均可能利用上述阐述的技术方案对本实用新型加以修改或将其修改为等同的技术方案。因此，依据本实用新型的技术方案所进行的任何简单修改或等同置换，尽属于本实用新型要求保护的范围。

Claims (7)

1.一种玻璃盖板丝印处理等离子清洗系统，包括操作台(1)，其特征在于：所述操作台(1)上设置运输带(2)，所述运输带(2)上设置清洗箱(3)，所述清洗箱(3)内壁一侧固定设置有调节组件，所述清洗箱(3)内部另一侧固定设置有等离子发射机构(4)，所述调节组件包括调节框(5)，所述调节框(5)内部设置有螺纹杆(6)，所述螺纹杆(6)包括连接轴(7)，所述连接轴(7)上固定设置有第一锥齿轮(8)，所述连接轴(7)底部固定设置有伺服电机(9)，所述伺服电机(9)输出端固定设置有第二锥齿轮(10)且所述第二锥齿轮(10)与第一锥齿轮(8)啮合连接，所述连接轴(7)两端分别设置有第一螺纹部(11)和第二螺纹部(12)，所述调节框(5)一侧壁上设置有两个滑动块(13)，两个所述滑动块(13)嵌入在调节框(5)上，所述滑动块(13)靠近调节框(5)的一侧上设置有齿板(14)，所述齿板(14)与调节块固定连接，所述齿板(14)分别与第一螺纹部(11)和第二螺纹部(12)啮合连接。

2.根据权利要求1所述的一种玻璃盖板丝印处理等离子清洗系统，其特征在于：所述滑动块(13)远离螺纹杆(6)的一侧固定连接有安装板(15)，所述安装板(15)上设置有清洗组件，所述清洗组件包括储存箱(16)，所述储存箱(16)底部固定设置有等离子发射器(17)，所述储存箱(16)顶部设置有波纹管(18)，所述储存箱(16)通过波纹管(18)与等离子发射机构(4)连接。

3.根据权利要求1所述的一种玻璃盖板丝印处理等离子清洗系统，其特征在于：所述调节框(5)一侧顶部开设有凹槽，所述凹槽内部设置有滚轮(19)，所述调节框(5)通过滚轮(19)与滑动块(13)滑动连接。

4.根据权利要求1所述的一种玻璃盖板丝印处理等离子清洗系统，其特征在于：所述运输带(2)上固定设置有分割板(20)，由所述分割板(20)在运输带(2)上形成第一运输区(21)和第二运输区(22)，所述第一运输区(21)和第二运输区(22)上均匀等距设置有载具(23)，所述载具(23)上设置有玻璃盖板。

5.根据权利要求1所述的一种玻璃盖板丝印处理等离子清洗系统，其特征在于：所述第一螺纹部(11)和第二螺纹部(12)的螺旋方向相反，所述螺纹杆(6)两端与调节框(5)通过轴承连接。

6.根据权利要求1所述的一种玻璃盖板丝印处理等离子清洗系统，其特征在于：所述第一螺纹部(11)和第二螺纹部(12)分别与第一运输区(21)和第二运输区(22)相对应。

7.根据权利要求4所述的一种玻璃盖板丝印处理等离子清洗系统，其特征在于：所述运输带(2)采用通透式传送带，所述载具(23)采用通透式载具(23)，所述运输带(2)底部设置有收集盒(24)，所述收集盒(24)底部与操作台(1)抵接。

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