CN214612204U - 一种耐腐蚀低辐射镀膜玻璃 - Google Patents
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Abstract
本申请涉及镀膜玻璃技术领域，尤其涉及一种耐腐蚀低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板以及低辐射镀膜，所述低辐射镀膜包括依次设置的第一介质层、第一保护层、功能银层、第二保护层、第二介质层以及陶瓷氧化硅膜层，所述第一介质层与玻璃基板连接。通过第一介质层将玻璃基板与第一保护层连接起来，便于确保低辐射镀膜与玻璃基板之间的粘结性能，并有效缓解低辐射镀膜的内部应力；而第一保护层与第二保护层共同对功能银层起到保护的作用；第二介质层便于提高低辐射镀膜的耐磨、耐腐蚀性能；陶瓷氧化硅膜层采用透明陶瓷材料，有效克服了金属材料易氧化、褪色等缺点，从而便于进一步提高低辐射镀膜的耐划伤、耐腐蚀性能。
Description
技术领域
本申请涉及镀膜玻璃技术领域，尤其是涉及一种耐腐蚀低辐射镀膜玻璃。
背景技术
低辐射镀膜玻璃又称Low-E玻璃，是指在玻璃表面沉积一层金属银作为功能层，对太阳光中的近红外线和生活环境中的远红外线起反射作用的镀膜玻璃。
目前低辐射镀膜玻璃所用的薄膜材料除功能层用金属银外，保护层与介质层大多采用氧化钛、金属镍铬等金属或金属化合物，由金属靶材与工艺气体反应制成。
针对上述中的相关技术，发明人认为存在有以下缺陷：由于金属或金属化合物的耐腐蚀性能较差，且产品在空气中放置一段时间后容易产生氧化，从而容易影响产品的质量。
实用新型内容
为了便于提高低辐射镀膜玻璃的耐腐蚀性能，本申请提供一种耐腐蚀低辐射镀膜玻璃。
本申请提供的一种耐腐蚀低辐射镀膜玻璃，采用如下的技术方案：
一种耐腐蚀低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板以及低辐射镀膜，所述低辐射镀膜包括依次设置的第一介质层、第一保护层、功能银层、第二保护层、第二介质层以及陶瓷氧化硅膜层，所述第一介质层与玻璃基板连接。
通过采用上述技术方案，通过第一介质层将玻璃基板与第一保护层连接起来，便于确保低辐射镀膜与玻璃基板之间的粘结性能，并有效缓解低辐射镀膜的内部应力；而第一保护层与第二保护层共同对功能银层起到保护的作用；第二介质层便于提高低辐射镀膜的耐磨、耐腐蚀性能；陶瓷氧化硅膜层采用透明陶瓷材料，有效克服了金属材料易氧化、褪色等缺点，从而便于提高低辐射镀膜的耐划伤、耐腐蚀性能。
可选的，所述陶瓷氧化硅膜层远离第二介质层的一端设置有陶瓷氮化硅膜层。
通过采用上述技术方案，陶瓷氮化硅膜层采用透明陶瓷材料，具有坚硬、耐磨、耐腐蚀等特点，便于进一步提高低辐射镀膜的耐划伤、耐腐蚀性能。
可选的，所述陶瓷氮化硅膜层的厚度大于或等于陶瓷氧化硅膜层的厚度。
通过采用上述技术方案，便于进一步提高低辐射镀膜玻璃的强度，同时，进一步提高低辐射镀膜的耐腐蚀性能。
可选的，所述第一介质层上设置有第一定位部，所述第一保护层上设置有第一定位部相对应的第一凹陷部。
通过采用上述技术方案，便于提高第一介质层与第一保护层的连接稳定性，便于提高低辐射镀膜玻璃的强度。
可选的，所述第二保护层上设置有第二定位部，所述第二介质层上设置有与第二定位部相对应的第二凹陷部。
通过采用上述技术方案，便于提高第二保护层与第二介质层的连接强度，从而便于进一步提高低辐射镀膜玻璃的强度以及耐磨损性能。
可选的，所述第一介质层的厚度小于第二介质层的厚度。
通过采用上述技术方案，便于确保第二介质层具有反射作用，同时便于提高第二介质层的硬度。
可选的，所述第一介质层由氧化物或氮化物构成。
通过采用上述技术方案，便于确保第一介质层具有反射作用。
可选的，所述第一保护层由金属或金属合金构成。
通过采用上述技术方案，便于对功能银层起到保护作用，同时有效减少低辐射镀膜玻璃的反射率以及透光率的可能。
综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：
1.通过第一介质层将玻璃基板与第一保护层连接起来，便于确保低辐射镀膜与玻璃基板之间的粘结性能，并有效缓解低辐射镀膜的内部应力；而第一保护层与第二保护层共同对功能银层起到保护的作用；第二介质层便于提高低辐射镀膜的耐磨、耐腐蚀性能；陶瓷氧化硅膜层采用透明陶瓷材料，有效克服了金属材料易氧化、褪色等缺点，从而便于进一步提高低辐射镀膜的耐划伤、耐腐蚀性能；
2.陶瓷氮化硅膜层采用透明陶瓷材料，具有坚硬、耐磨、耐腐蚀等特点，便于进一步提高低辐射镀膜的耐划伤、耐腐蚀性能；
3.通过陶瓷氮化硅膜层的厚度大于或等于陶瓷氧化硅膜层的厚度通过采用上述技术方案，便于进一步提高低辐射镀膜玻璃的强度，同时，便于进一步提高低辐射镀膜的耐腐蚀性能。
附图说明
图1是本申请实施例示出的耐腐蚀低辐射镀膜玻璃的剖视图。
图2是图1中A部分的放大图。
附图标记说明：1、玻璃基板；2、低辐射镀膜；21、第一介质层；211、第一定位部；22、第一保护层；221、第一凹陷部；23、功能银层；24、第二保护层；241、第二定位部；25、第二介质层；251、第二凹陷部；26、陶瓷氧化硅膜层；27、陶瓷氮化硅膜层。
具体实施方式
以下结合附图1-2对本申请作进一步详细说明。
本申请实施例公开一种耐腐蚀低辐射镀膜玻璃。参照图1，耐腐蚀低辐射镀膜2玻璃包括玻璃基板1以及低辐射镀膜2。低辐射镀膜2包括依次设置的第一介质层21、第一保护层22、功能银层23、第二保护层24、第二介质层25、陶瓷氧化硅膜层26以及陶瓷氮化硅膜层27。
低辐射镀膜玻璃是在镀膜室抽真空至1.1×10-4Pa以下，充入工艺气体(氧气或氮气或氩气)，使镀膜室压力稳定在0.3Pa左右，将溅射源送电，靶材开始溅射，送入玻璃将靶材原子或其化合物沉积到玻璃表面。
通过第一介质层21将玻璃基板1与第一保护层22连接起来，便于确保低辐射镀膜2与玻璃基板1之间的粘结性能，并有效缓解低辐射镀膜2的内部应力；而第一保护层22与第二保护层24共同对功能银层23起到保护的作用；第二介质层25便于提高低辐射镀膜2的耐磨、耐腐蚀性能；陶瓷氧化硅膜层26与陶瓷氮化硅膜层27采用透明陶瓷材料，具有坚硬、耐磨、耐腐蚀等特点，有效克服了金属材料易氧化、褪色等缺点，从而便于进一步提高低辐射镀膜2的耐划伤、耐腐蚀性能。
参照图1，具体的，玻璃基板1设置为超白浮法玻璃，超白浮法玻璃具有优越的物理、机械机光学性能，可进行钢化、镀膜、彩釉、热弯等深加工。
第一介质层21由氧化物或氮化物构成，具体的，第一介质层21可设置为TiO2、SiO2、BiO2、Al2O3、Nb2O5、Si3N4等；且第一介质层21的厚度为20-30nm。在本实施例中，第一介质层21为Si3N4，且第一介质层21的厚度为25nm，便于确保第一介质层21具有反射作用，同时又不会因为太薄而影响粘结性能。
第一保护层22由金属或金属合金构成，具体的，第一保护层22设置为NiCr。且第一保护层22的厚度为3nm，在对功能银层23起到保护作用，有效减少低辐射镀膜玻璃的反射率以及透光率的可能。
功能银层23的厚度设置为10nm，便于降低低辐射镀膜玻璃的辐射率，同时有效减少功能银层23太厚而提高生产成本的可能。
第二保护层24由金属或金属合金构成，具体的，第二保护层24设置为NiCr。且第二保护层24的厚度为3nm，在对功能银层23起到保护作用，有效减少低辐射镀膜玻璃的反射率以及透光率的可能。
第二介质层25由氧化物或氮化物构成，具体的，第二介质层25可设置为TiO2、SiO2、BiO2、Al2O3、Nb2O5、Si3N4等；且第二介质层25的厚度为35-50nm。在本实施例中，第二介质层25为Si3N4，且第二介质层25的厚度为40nm，使得第二介质层25的厚度大于第一介质层21的厚度，便于确保第二介质层25具有反射作用，同时便于提高第二介质层25的硬度。
陶瓷氧化硅膜层26的厚度为20-40nm，具体的，陶瓷氧化硅膜层26的厚度为30nm，便于提高低辐射镀膜2的耐腐蚀、抗氧化性能。
陶瓷氮化硅膜层27的厚度大于或等于陶瓷氧化硅膜层26的厚度，具体的，陶瓷氮化硅膜层27的厚度为35nm，便于进一步提高低辐射镀膜玻璃的强度，同时。进一步提高低辐射镀膜2的耐腐蚀性能。
参照图2，另外，为了提高第一介质层21与第一保护层22的连接强度，在第一介质层21上均匀分布有多个第一定位部211，第一保护层22上设置有与第一定位部211相对应的第一凹陷部221，便于提高第一介质层21与第一保护层22的连接稳定性，便于提高低辐射镀膜玻璃的强度。
第二保护层24上均匀分布有多个第二定位部241，第二介质层25上设置有与第二定位部241相对应的第二凹陷部251，便于提高第二保护层24与第二介质层25的连接强度，从而便于进一步提高低辐射镀膜玻璃的强度以及耐磨损性能。
本申请实施例一种耐腐蚀低辐射镀膜玻璃的实施原理为：
通过第一介质层21将玻璃基板1与第一保护层22连接起来，便于确保低辐射镀膜2与玻璃基板1之间的粘结性能，并有效缓解低辐射镀膜2的内部应力；而第一保护层22与第二保护层24共同对功能银层23起到保护的作用；第二介质层25便于提高低辐射镀膜2的耐磨、耐腐蚀性能；陶瓷氧化硅膜层26与陶瓷氮化硅膜层27采用透明陶瓷材料，具有坚硬、耐磨、耐腐蚀等特点，有效克服了金属材料易氧化、褪色等缺点，从而便于进一步提高低辐射镀膜2的耐划伤、耐腐蚀性能。
以上均为本申请的较佳实施例，并非依此限制本申请的保护范围，故：凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本申请的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种耐腐蚀低辐射镀膜玻璃，其特征在于：包括玻璃基板(1)以及低辐射镀膜(2)，所述低辐射镀膜(2)包括依次设置的第一介质层(21)、第一保护层(22)、功能银层(23)、第二保护层(24)、第二介质层(25)以及陶瓷氧化硅膜层(26)，所述第一介质层(21)与玻璃基板(1)连接。
2.根据权利要求1所述的一种耐腐蚀低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述陶瓷氧化硅膜层(26)远离第二介质层(25)的一端设置有陶瓷氮化硅膜层(27)。
3.根据权利要求2所述的一种耐腐蚀低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述陶瓷氮化硅膜层(27)的厚度大于或等于陶瓷氧化硅膜层(26)的厚度。
4.根据权利要求1所述的一种耐腐蚀低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层(21)上设置有第一定位部(211)，所述第一保护层(22)上设置有与第一定位部(211)相对应的第一凹陷部(221)。
5.根据权利要求1所述的一种耐腐蚀低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二保护层(24)上设置有第二定位部(241)，所述第二介质层(25)上设置有与第二定位部(241)相对应的第二凹陷部(251)。
6.根据权利要求1所述的一种耐腐蚀低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层(21)的厚度小于第二介质层(25)的厚度。
7.根据权利要求1所述的一种耐腐蚀低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层(21)由氧化物或氮化物构成。
8.根据权利要求1所述的一种耐腐蚀低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一保护层(22)由金属或金属合金构成。
Priority Applications (1)
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| CN202120743296.1U CN214612204U (zh) | 2021-04-13 | 2021-04-13 | 一种耐腐蚀低辐射镀膜玻璃 |
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Publications (1)
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Family Applications (1)
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| CN202120743296.1U Active CN214612204U (zh) | 2021-04-13 | 2021-04-13 | 一种耐腐蚀低辐射镀膜玻璃 |
Country Status (1)
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2021
- 2021-04-13 CN CN202120743296.1U patent/CN214612204U/zh active Active
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