CN214560017U - 一种陶瓷盘平磨用真空吸盘 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种陶瓷盘平磨用真空吸盘，该陶瓷盘平磨用真空吸盘包括吸附平台和定位柱，吸附平台的顶面开设有环形的吸附槽，吸附槽的外径小于陶瓷盘的外径，吸附槽的内径大于陶瓷盘的轴孔的孔径，吸附槽内设置有抽吸孔，吸附平台还设置有与抽吸孔连通的抽吸通道和进气通道；定位柱凸出设置于吸附平台的顶面并位于吸附槽的中心，定位柱与陶瓷盘的轴孔相适配；陶瓷盘能够通过轴孔套设于定位柱，以将陶瓷盘定位安装于吸附平台，并使陶瓷盘的盘面封闭吸附槽，通过抽吸通道抽吸吸附槽内的空气，能够将陶瓷盘吸附紧贴于吸附平台的顶面。本实用新型的陶瓷盘平磨用真空吸盘，定位准确，吸附牢固，安装稳定不易晃动，保证陶瓷盘的打磨效果，实用性强。

Description

一种陶瓷盘平磨用真空吸盘

技术领域

本实用新型属于打磨加工定位技术领域，尤其涉及一种陶瓷盘平磨用真空吸盘。

背景技术

在制作封测设备时，需要制作一些无磁零件，以保证对半导体测试的准确测试，陶瓷盘在封测设备中用于传送半导体元件并在传送过程中对半导体元件进行检测。在加工陶瓷盘时，由于陶瓷盘为无磁材料,无法使用磁吸的方式固定陶瓷盘进行磨平加工，而需要使用真空吸附的方式将陶瓷盘固定于加工平台上，但由于加工磨皮时，在打磨的过程中会使陶瓷盘发生移动，无法完全吸附固定，影响陶瓷盘的打磨效果。

需要说明的是，上述内容属于发明人的技术认知范畴，并不必然构成现有技术。

实用新型内容

为了解决上述问题，本实用新型的目的是提供一种陶瓷盘平磨用真空吸盘，定位准确，吸附牢固，安装稳定不易晃动，保证陶瓷盘的打磨效果，实用性强。

为实现上述目的，本实用新型提出了一种陶瓷盘平磨用真空吸盘，陶瓷盘中心设置轴孔，其特征在于，所述陶瓷盘平磨用真空吸盘吸附平台和定位柱，所述吸附平台的顶面开设有环形的吸附槽，所述吸附槽的外径小于所述陶瓷盘的外径，所述吸附槽的内径大于所述陶瓷盘的所述轴孔的孔径，所述吸附槽内设置有抽吸孔，所述吸附平台还设置有与所述抽吸孔连通的抽吸通道和进气通道；所述定位柱凸出设置于所述吸附平台的顶面并位于所述吸附槽围绕区域的中心，所述定位柱与所述陶瓷盘的所述轴孔相适配；所述陶瓷盘能够通过所述轴孔套设于所述定位柱，以将所述陶瓷盘定位安装于所述吸附平台，并使所述陶瓷盘的盘面封闭所述吸附槽，通过所述抽吸通道抽吸所述吸附槽内的空气，能够将所述陶瓷盘吸附紧贴于所述吸附平台的顶面。

在一个示例中，所述定位柱凸出于所述吸附平台的顶面的高度等于所述陶瓷盘的厚度。

在一个示例中，所述吸附平台顶面的所述吸附槽围绕区域的中心开设有安装孔，所述定位柱通过所述安装孔可拆卸安装于所述吸附平台。

在一个示例中，所述陶瓷盘平磨用真空吸盘还包括密封圈，所述吸附平台的顶面围绕所述吸附槽的外环和内环还同轴开设有环形的密封圈安装槽，所述密封圈安装于所述密封圈安装槽内，所述密封圈用于密封所述陶瓷盘与所述吸附槽两侧的所述吸附平台顶面之间的间隙。

在一个示例中，所述密封圈安装槽的截面形状与所述密封圈的截面形状相适配，且所述密封圈安装槽的深度大于所述密封圈的截面半径、小于所述密封圈的截面直径。

在一个示例中，所述吸附平台的与顶面相邻的侧面开设有多个与所述抽吸通道连通的抽气孔。

在一个示例中，所述吸附平台的顶面沿其长度方向等间隔设置有多个所述吸附槽。

通过本实用新型提出的一种陶瓷盘平磨用真空吸盘能带来如下有益效果：

1、通过设置定位柱，陶瓷盘能够固定套设于定位柱上，防止陶瓷盘晃动影响打磨效果，抽吸通道通过抽吸孔抽吸吸附槽内的空气，陶瓷盘固定吸附于吸附平台上，在陶瓷盘打磨时，防止陶瓷盘晃动使抽吸槽与陶瓷盘产生间隙影响真空吸盘的吸附效果，陶瓷盘定位准确牢固，保证陶瓷盘的打磨质量，实用性强，适合推广应用。

2、通过设置密封圈，密封圈能够与陶瓷盘紧密贴合，抽吸通道抽吸吸附槽内空气时，陶瓷盘不易与吸附平台产生空隙，陶瓷盘能紧密吸附于吸附平台上，在打磨时，密封圈与所述陶瓷盘之间的摩擦力能够防止陶瓷盘旋转，进一步保证陶瓷盘的稳定吸附，保证陶瓷盘的打磨效果，实用性强，适合推广应用。

3、密封圈与密封圈安装槽安装牢固不易松脱，防止密封圈脱落影响吸附平台的吸附效果，保证陶瓷盘的打磨质量，实用性强，适合推广应用。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本实用新型的一部分，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1为本实用新型的一种陶瓷盘平磨用真空吸盘的立体透视图；

图2为本实用新型的一种陶瓷盘平磨用真空吸盘的立体结构示意图；

图3为本实用新型的吸附平台的局部俯视图。

具体实施方式

为了更清楚的阐释本实用新型的整体构思，下面结合说明书附图以示例的方式进行详细说明。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接，还可以是通信；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。在本说明书的描述中，参考术语“一个方案”、“一些方案”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该方案或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个方案或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的方案或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个方案或示例中以合适的方式结合。

如图1～图3所示，本实用新型的实施例提出了一种陶瓷盘200平磨用真空吸盘100，陶瓷盘200中心设置轴孔201，陶瓷盘200平磨用真空吸盘100包括吸附平台1和定位柱2，吸附平台1的顶面开设有环形的吸附槽11，吸附槽11的外径小于陶瓷盘200的外径，吸附槽11的内径大于陶瓷盘200的轴孔201的孔径，吸附槽11内设置有抽吸孔111，吸附平台1还设置有与抽吸孔111连通的抽吸通道12和进气通道13；定位柱2凸出设置于吸附平台1的顶面并位于吸附槽11围绕区域的中心，定位柱2与陶瓷盘200的轴孔201相适配；陶瓷盘200能够通过轴孔201套设于定位柱2，以将陶瓷盘200定位安装于吸附平台1，并使陶瓷盘200的盘面封闭吸附槽11，通过抽吸通道12抽吸吸附槽11内的空气，能够将陶瓷盘200吸附紧贴于吸附平台1的顶面。

通过设置定位柱2，陶瓷盘200能够固定套设于定位柱2上，防止陶瓷盘200晃动影响打磨效果,抽吸通道12通过抽吸孔111抽吸吸附槽11内的空气，陶瓷盘200固定吸附于吸附平台1上，在陶瓷盘200打磨时，防止陶瓷盘200晃动使抽吸槽与陶瓷盘200产生间隙影响真空吸盘的吸附效果，陶瓷盘200定位准确牢固，保证陶瓷盘200的打磨质量，实用性强，适合推广应用。

具体地，定位柱2凸出于吸附平台1的顶面的高度等于陶瓷盘200的厚度。若定位柱2的凸出高度高于陶瓷盘200的厚度，定位柱2易与打磨装置发生碰撞，容易造成机器损坏影响打磨效果，若定位柱2凸出高度低于陶瓷盘200的厚度，打磨装置打磨时对陶瓷盘200产生推力，陶瓷盘200高于定位柱2的部分易产生偏移，影响打磨效果，因此，定位柱2高度等于陶瓷盘200的厚度时，不仅能够防止打磨装置与定位件112发生碰撞且定位柱2固定陶瓷盘200不发生偏移，保证陶瓷盘200的打磨效果，进一步提高产品质量，实用性强。

具体地，吸附平台1顶面的吸附槽11围绕区域的中心开设有安装孔14，定位柱2通过安装孔14可拆卸安装于吸附平台1。通过设置安装孔14，能够通过安装孔14调节定位柱2的凸出高度，实现对不同厚度的陶瓷盘200打磨，适用范围广，实用性强，适合推广应用。

具体地，陶瓷盘200平磨用真空吸盘100还包括密封圈3，吸附平台1的顶面围绕吸附槽11的外环和内环还同轴开设有环形的密封圈安装槽15，密封圈3安装于密封圈安装槽15内，密封圈3用于密封陶瓷盘200与吸附槽11两侧的吸附平台1顶面之间的间隙。通过设置密封圈3，密封圈3能够与陶瓷盘200紧密贴合，抽吸通道12抽吸吸附槽11内空气时，陶瓷盘200不易与吸附平台1产生空隙，陶瓷盘200能够紧密吸附于吸附平台1上，在打磨时，密封圈3与所述陶瓷盘200之间的摩擦力能够防止陶瓷盘200旋转，进一步保证陶瓷盘200的稳定吸附，保证陶瓷盘200的打磨效果，实用性强，适合推广应用。

具体地，密封圈安装槽15的截面形状与密封圈3的截面形状相适配，且密封圈安装槽15的深度大于密封圈3的截面半径、小于密封圈3的截面直径。密封圈3与密封圈安装槽15安装牢固不易松脱，防止密封圈3脱落影响吸附平台1的吸附效果，保证陶瓷盘200的打磨质量，实用性强，适合推广应用。

具体地，吸附平台1的与顶面相邻的侧面开设有多个与抽吸通道12连通的抽气孔16。通过设置多个抽气孔16，抽气孔16同时抽吸能够快速抽吸吸附槽11内的空气，陶瓷盘200的吸附速度快，提高产品的加工效率，实用性强。

具体地，吸附平台1的顶面沿其长度方向等间隔设置有多个吸附槽11。通过设置多个吸附槽11，能够实现同时吸附多个陶瓷盘200并进行打磨，提高产品的加工效率，实现大批量生产，实用性强，适合推广应用。

本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。尤其，对于系统实施例而言，由于其基本相似于方法实施例，所以描述的比较简单，相关之处参见方法实施例的部分说明即可。

以上所述仅为本实用新型的实施例而已，并不用于限制本实用新型。对于本领域技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原理之内所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的权利要求范围之内。

Claims (7)

1.一种陶瓷盘平磨用真空吸盘，陶瓷盘中心设置有轴孔，其特征在于，所述陶瓷盘平磨用真空吸盘包括吸附平台和定位柱，所述吸附平台的顶面开设有环形的吸附槽，所述吸附槽的外径小于所述陶瓷盘的外径，所述吸附槽的内径大于所述陶瓷盘的所述轴孔的孔径，所述吸附槽内设置有抽吸孔，所述吸附平台还设置有与所述抽吸孔连通的抽吸通道和进气通道；所述定位柱凸出设置于所述吸附平台的顶面并位于所述吸附槽围绕区域的中心，所述定位柱与所述陶瓷盘的所述轴孔相适配；所述陶瓷盘能够通过所述轴孔套设于所述定位柱，以将所述陶瓷盘定位安装于所述吸附平台，并使所述陶瓷盘的盘面封闭所述吸附槽，通过所述抽吸通道抽吸所述吸附槽内的空气，能够将所述陶瓷盘吸附紧贴于所述吸附平台的顶面。

2.根据权利要求1所述的一种陶瓷盘平磨用真空吸盘，其特征在于，所述定位柱凸出于所述吸附平台的顶面的高度等于所述陶瓷盘的厚度。

3.根据权利要求1所述的一种陶瓷盘平磨用真空吸盘，其特征在于，所述吸附平台顶面的所述吸附槽围绕区域的中心开设有安装孔，所述定位柱通过所述安装孔可拆卸安装于所述吸附平台。

4.根据权利要求1所述的一种陶瓷盘平磨用真空吸盘，其特征在于，所述陶瓷盘平磨用真空吸盘还包括密封圈，所述吸附平台的顶面围绕所述吸附槽的外环和内环还同轴开设有环形的密封圈安装槽，所述密封圈安装于所述密封圈安装槽内，所述密封圈用于密封所述陶瓷盘与所述吸附槽两侧的所述吸附平台顶面之间的间隙。

5.根据权利要求4所述的一种陶瓷盘平磨用真空吸盘，其特征在于，所述密封圈安装槽的截面形状与所述密封圈的截面形状相适配，且所述密封圈安装槽的深度大于所述密封圈的截面半径，小于所述密封圈的截面直径。

6.根据权利要求1所述的一种陶瓷盘平磨用真空吸盘，其特征在于，所述吸附平台的与顶面相邻的侧面开设有多个与所述抽吸通道连通的抽气孔。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的一种陶瓷盘平磨用真空吸盘，其特征在于，所述吸附平台的顶面沿其长度方向等间隔设置有多个所述吸附槽。

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