CN214542175U - 一种硅片上下料系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种硅片上下料系统,包括导片机装置、硅片分合装置和搬运装置，所述导片机装置包括上料导片组件、下料导片组件以及连接上料导片组件和下料导片组件的横移输送机构，所述硅片分合装置包括六轴机器人以及夹爪分合机构，夹爪分合机构控制硅片的吸取和翻面，所述六轴机器人通过夹爪分合机构控制硅片的移动，所述搬运装置包括上料搬运机构、下料搬运机构和石英舟流转机构，所述上料导片组件、硅片分合装置、上料搬运机构和石英舟流转机构成硅片上料系统，所述下料导片组件、硅片分合装置、下料搬运机构和石英舟流转机构构成硅片下料系统，本实用新型实现了硅片由导片机装置到主机以及由主机到导片机装置的上料和下料的循环流程。

Description

一种硅片上下料系统

技术领域

本实用新型属于光伏领域，涉及一种硅片上下料系统。

背景技术

目前针对硅片上下料的方式多采用人工放置，人工抓取很容易造成裂料或破角，废品率很高，硅片上下料位置比较紧凑，相邻硅片之间的位置有较高要求，因此人工上料不易，效率较低，且上下料设备普遍存在着占地面积大，连续性不强，成本高，使用不简便等问题，本实用新型有效地解决了这种问题。

发明内容

本实用新型为了克服现有技术的不足，提供一种硅片上下料系统。

为了实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：一种硅片上下料系统，其特征在于：包括导片机装置、硅片分合装置和搬运装置，所述导片机装置包括上料导片组件、下料导片组件以及连接上料导片组件和下料导片组件的横移输送机构，所述硅片分合装置包括六轴机器人以及夹爪分合机构，夹爪分合机构控制硅片的吸取和翻面，所述六轴机器人通过夹爪分合机构控制硅片的移动，所述搬运装置包括上料搬运机构、下料搬运机构和石英舟流转机构，所述上料导片组件、硅片分合装置、上料搬运机构和石英舟流转机构成硅片上料系统，所述下料导片组件、硅片分合装置、下料搬运机构和石英舟流转机构构成硅片下料系统。

进一步的；所述上料导片组件和下料导片组件结构相同，所述上料导片组件和下料导片组件分别设有对称分布的两组，所述上料导片组件包括上料来料对接输送机构、上料缓存输送机构、上料花篮升降机构、上料花篮输送机构、上料硅片输送机构、上料硅片缓存机构以及上料接片机构，上料花篮输送机构位于上料花篮升降机构下侧，所述下料导片组件包括下料来料对接输送机构、下料缓存输送机构、下料花篮升降机构、下料花篮输送机构、下料硅片输送机构、下料硅片缓存机构以及下料接片机构，下料花篮输送机构位于下料花篮升降机构下侧，横移输送机构分别与上料花篮输送机构、下料花篮输送机构连接，花篮经上料花篮输送机构、横移输送机构以及下料花篮输送机构在上料导片组件和下料导片组件间流转。

进一步的；所述夹爪分合机构包括分片传动装置、吸盘调整机构以及吸盘旋转机构，所述吸盘调整机构包括吸盘吸取装置和控制吸盘吸取装置错位移动的调整装置，所述吸盘旋转机构包括吸盘吸片装置和控制吸盘吸片装置转动的旋转装置，六轴机器人控制夹爪分合机构的移动，所述分片传动装置通过吸盘调整机构与吸盘旋转机构控制硅片的移动，所述吸盘吸取装置和吸盘吸片装置控制硅片的吸取分合，所述旋转装置控制硅片翻面。

进一步的；所述上料搬运机构和下料搬运机构结构相同，所述上料搬运机构包括上料定位移动组件、上料硅片顶升组件、上料硅片规整组件以及上料离子吹风组件，所述下料搬运机构包括下料定位移动组件、下料硅片顶升组件、下料硅片规整组件以及下料离子吹风组件。

进一步的；所述石英舟流转机构包括主机对接输送组件、夹爪组件和控制夹爪组件移动的移动模组组件，主机对接输送组件承载若干石英舟，移动模组组件控制夹爪组件夹持石英舟在主机对接输送组件和上料定位移动组件间流转。

进一步的；所述上料定位移动组件包括动力组件和两组承托组件，所述动力组件驱动两组承托组件同步往返运动，所述承托组件包括支架组件、承载组件以及翻转组件，所述支架组件对承载组件进行支撑，所述翻转组件控制承载组件相对于支架组件进行翻转，所述承载组件包括限位结构、压块结构和夹紧结构，所述压块结构将石英舟固定，所述夹紧结构将石英舟夹紧，所述限位结构对石英舟内硅片进行支撑和限位，所述上料定位移动组件还包括位置控制装置，所述位置控制装置包括三组检测传感器，承托组件固设有对应的挡片，所述三组检测传感器分别位于动力组件的两端以及承托组件的原点位置，通过三组检测传感器和挡片的配合控制上料定位移动组件的移动行程以及上料定位移动组件的原点检测，所述上料硅片顶升组件位于承托组件的原点位置，所述上料硅片顶升组件包括顶升移动组件和顶齿组件，顶升移动组件驱动顶齿组件上下往返移动，位于原点位置的一组上料定位移动组件翻转后石英舟与顶齿组件处于竖直方向的共线。

进一步的；所述上料硅片规整组件包括风刀机构和两组对称设置的规整支架，所述规整支架位于动力组件的两侧，所述规整支架包括规整齿，两组规整支架的规整齿相对设置，两组规整齿通过气缸实现同步的同向/反向运动，所述风刀机构安装在其中一组规整支架上，所述风刀机构包括吹气组件，通过吹气组件便于对硅片进行分片，所述上料离子吹风组件位于动力组件一端，对硅片除尘除静电，便于硅片的后续处理。

进一步的；所述主机对接输送组件包括对接机架、对接动力组件以及承载石英舟托的托架组件，所述对接机架对托架组件进行支撑，所述对接动力组件驱动托架组件往返，所述托架组件上固设有用于检测石英舟有无料的料传感器和用于检测石英舟托是否放置到位的到位传感器。

进一步的；所述夹爪组件包括传动组件、夹持组件以及承载传动组件和夹持组件的框架组件，所述夹持组件设置有两组，传动组件分别与两组夹持组件连接，控制两组夹持组件同步的同向或反向运动，所述夹持组件包括两组夹紧机构，两组夹紧机构将一组石英舟夹紧，传动组件通过控制两组夹持组件同向或反向运动，控制两组石英舟的间距，所述移动模组组件包括固定连接组件、移动升降组件、移动横移组件和移动平移组件，所述固定连接组件与夹爪组件连接，所述移动升降组件控制固定连接组件沿z方向的往返运动，所述移动横移组件控制固定连接组件沿x方向的往返运动，所述移动平移组件控制固定连接组件沿y方向的往返运动，移动模组组件控制夹爪组件的空间移动。

进一步的；所述上料来料对接输送机构其长度容纳多组花篮同时进行输送，上料来料对接输送机构在输送方向的两端固设有来料阻挡气缸，两侧固设有对称的两组来料对射传感器，两组来料对射传感器和来料阻挡气缸同步运行将花篮依次单个输送至上料缓存输送机构，上料来料对接输送机构设置有传感器，传感器对花篮满缺料状态进行检测，所述上料花篮升降机构包括升降输送组件和花篮升降组件，花篮升降组件控制升降输送组件升降，所述升降输送组件的长度与单个花篮长度相配，上料缓存输送机构将单个花篮输送至升降输送组件上，位于升降输送组件上的花篮通过夹紧装置固定，所述上料花篮升降机构还包括用于检测花篮内硅片余量的对射传感器以及用于检测来料花篮朝向的朝向传感器，所述上料硅片输送机构包括硅片输入组件、硅片输送调整和硅片输出组件，所述硅片输入组件延伸至上料花篮升降机构，通过硅片输入组件将位于上料花篮升降机构上花篮内的硅片进行取片，所述硅片输出组件延伸上料硅片缓存机构和上料接片机构，硅片由硅片输入组件输送至硅片输出组件，并通过硅片输出组件将硅片流入上料接片机构，所述硅片输送调整位于硅片输入组件和硅片输出组件之间，硅片输送调整对硅片进行调整，所述上料接片机构包括接片组件和接片升降组件，所述接片组件包括两组对称设置的接片板和驱动一组接片板移动的动力组件，所述接片升降组件控制接片组件的升降，所述动力组件移动一组接片板，控制两组接片板间的间距，两组所述接片板相对的侧面分别固设有上料接片槽，上料接片槽长度方向与硅片输出组件硅片输送方向一致，相邻的上料接片槽竖直平行设置，硅片流入上料接片槽内，所述上料硅片缓存机构位于上料硅片输送机构和上料接片机构之间，所述上料硅片缓存机构包括缓存组件和缓存升降组件，所述缓存组件包括两组对称设置的缓存板，所述缓存升降组件控制缓存组件的升降，两组所述缓存板相对的侧面分别固设有缓存槽，缓存槽长度方向与硅片输出组件硅片输送方向一致，相邻的缓存槽竖直平行设置，所述上料硅片缓存机构是临时储存硅片的机构。

综上所述，本实用新型的有益之处在于：

1)、本实用新型采用传感器对花篮满缺料状态进行检测，实现了对硅片数量的精细控制。

2)、本实用新型采用对射传感器对花篮内硅片余量进行检测，同时采用朝向传感器对花篮朝向进行检测，防止花篮输送时发生反放错误，提高设备的自动化控制程度。

3)、本实用新型通过接片升降组件对接片组件的升降控制，实现了将硅片输出组件上输送的硅片依次导入上料接片槽的目的，通过缓存升降组件对缓存组件的升降控制，实现了将硅片输出组件上输送的硅片依次导入缓存槽的目的。

4)、本实用新型实现了硅片由导片机装置到主机以及由主机到导片机装置的上料和下料的循环流程。

附图说明

图1为本实用新型的上料和下料系统组装示意图。

图2为本实用新型的导片机装置示意图。

图3为本实用新型的上料硅片输送机构、上料硅片缓存机构组装示意图。

图4为本实用新型的上料接片机构示意图。

图5为本实用新型的硅片分合装置和搬运装置安装示意图。

图6为本实用新型的上料定位移动组件示意图。

图7为本实用新型的上料硅片规整组件示意图。

图8为本实用新型的主机对接输送组件示意图。

图9为本实用新型的夹爪组件示意图。

图中标识：上料来料对接输送机构11、上料缓存输送机构12、上料花篮升降机构13、上料花篮输送机构14、上料硅片输送机构15、上料硅片缓存机构16、上料接片机构17、下料来料对接输送机构21、下料缓存输送机构22、下料花篮升降机构23、下料花篮输送机构24、下料硅片输送机构25、下料硅片缓存机构26、下料接片机构27、横移输送机构30、来料阻挡气缸111、来料对射传感器112、缓存阻挡气缸12、缓存对射传感器122、升降输送组件131、花篮升降组件132、对射传感器133、硅片输入组件151、硅片输送调整152、硅片输出组件153、接片组件171、接片升降组件172、接片板173、缓存组件161、缓存升降组件162、缓存板163、流转输送组件301、流转移动组件302、底座1、六轴机器人2、夹爪分合机构3、吸盘调整机构32、吸盘旋转机构33、分片传动装置34、上料定位移动组件40、上料硅片顶升组件41、上料硅片规整组件42、下料定位移动组件50、下料硅片顶升组件51、下料硅片规整组件52、动力组件400、支架组件410、承载组件420、位置控制装置430、承托组件440、翻转组件450、限位结构421、压块结构422、夹紧结构423、挡片431、检测传感器432、风刀机构422、规整支架421、规整齿4211、吹气组件4221、主机对接输送组件60、托架组件61、对接动力组件62、对接机架63、到位传感器610、料传感器611、夹爪组件70、传动组件71、夹持组件72、夹紧机构73、框架组件74、移动模组组件80、固定连接组件81、移动升降组件82、移动横移组件83、移动平移组件84。

具体实施方式

以下通过特定的具体实例说明本实用新型的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点与功效。本实用新型还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本实用新型的精神下进行各种修饰或改变。需说明的是，在不冲突的情况下，以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。

需要说明的是，以下实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本实用新型的基本构想，遂图式中仅显示与本实用新型中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。

本实用新型实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后、横向、纵向……)仅用于解释在某一特定姿态下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

实施例一：

如图1-9所示，一种硅片上下料系统，包括导片机装置、硅片分合装置和搬运装置，所述导片机装置包括上料导片组件、下料导片组件以及连接上料导片组件和下料导片组件的横移输送机构30，所述硅片分合装置包括六轴机器人2以及夹爪分合机构3，夹爪分合机构3控制硅片的吸取和翻面，所述六轴机器人2通过夹爪分合机构3控制硅片的移动，所述搬运装置包括上料搬运机构、下料搬运机构和石英舟流转机构，所述上料导片组件、硅片分合装置、上料搬运机构和石英舟流转机构成硅片上料系统，所述下料导片组件、硅片分合装置、下料搬运机构和石英舟流转机构构成硅片下料系统。

所述上料导片组件包括上料来料对接输送机构11、上料缓存输送机构12、上料花篮升降机构13、上料花篮输送机构14、上料硅片输送机构15、上料硅片缓存机构16以及上料接片机构17，上料花篮输送机构14位于上料花篮升降机构13下侧，所述下料导片组件包括下料来料对接输送机构21、下料缓存输送机构22、下料花篮升降机构23、下料花篮输送机构24、下料硅片输送机构25、下料硅片缓存机构26以及下料接片机构27，下料花篮输送机构24位于下料花篮升降机构23下侧，横移输送机构30分别与上料花篮输送机构14、下料花篮输送机构24连接，花篮经上料花篮输送机构14、横移输送机构30以及下料花篮输送机构24在上料导片组件和下料导片组件间流转。

本实施例中，上料导片组件和下料导片组件结构相同，所述上料导片组件和下料导片组件分别设有对称分布的两组，以下以上料导片组件为例进行说明，所述上料来料对接输送机构11采用AGV输送线，其长度可容纳多组花篮同时进行输送，上料来料对接输送机构11在输送方向的两端固设有来料阻挡气缸111，靠近上料缓存输送机构12的上料来料对接输送机构11端面的两侧固设有对称的两组来料对射传感器112，两组来料对射传感器112和来料阻挡气缸111共同配合实现花篮依次单个输送到上料缓存输送机构12的目的，另外，上料来料对接输送机构11还设置有若干传感器(图未显示)，传感器的数量与上料来料对接输送机构11一次性承载花篮的数量一致，且相邻传感器的间距可调，传感器对花篮满缺料状态进行检测，实现了对硅片数量的精细控制。

所述上料缓存输送机构12的长度与单个花篮长度相配，即上料缓存输送机构12用于输送单个花篮，上料缓存输送机构12在输送方向端面固设有缓存阻挡气缸12，缓存阻挡气缸12两侧固设有对称的两组缓存对射传感器122，两组缓存对射传感器122和缓存阻挡气缸12共同配合实现对单个花篮输送的目的，同时控制花篮输送速度和时间，本实施例中，上料花篮输送机构14与上料缓存输送机构12结构相同。

所述上料花篮升降机构13包括升降输送组件131和花篮升降组件132，花篮升降组件132控制升降输送组件131升降，所述升降输送组件131的长度与单个花篮长度相配，上料缓存输送机构12将单个花篮输送至升降输送组件131上，位于升降输送组件131上的花篮通过夹紧装置固定，防止上料硅片输送机构15取片时造成偏移，影响取片效率，本实施例中，所述花篮升降组件132采用滚珠丝杆传动方式控制升降输送组件131升降，所述上料花篮升降机构13还包括用于检测花篮内硅片余量的对射传感器133以及用于检测来料花篮朝向的朝向传感器(图未显示)，所述朝向传感器防止花篮输送时发生反放错误。

所述上料硅片输送机构15包括硅片输入组件151、硅片输送调整152和硅片输出组件153，所述硅片输入组件151延伸至上料花篮升降机构13，通过硅片输入组件151将位于上料花篮升降机构13上花篮内的硅片进行取片，并通过花篮升降组件132实现依次取片的功能，所述硅片输出组件153依次延伸上料硅片缓存机构16和上料接片机构17，硅片由硅片输入组件151输送至硅片输出组件153，并通过硅片输出组件153将硅片流入上料接片机构17，所述硅片输送调整152位于硅片输入组件151和硅片输出组件153之间，硅片输送调整152对硅片进行调整，使硅片在传输过程中保持齐整，便于硅片的流入，提高硅片的流入效率。

所述上料接片机构17包括接片组件171和接片升降组件172，所述接片组件171包括两组对称设置的接片板173和驱动一组接片板173移动的动力组件，所述接片升降组件172采用滚珠传动方式控制接片组件171的升降，所述动力组件采用滚珠丝杆传动方式移动一组接片板173，进而控制两组接片板173间的间距，两组所述接片板173相对的侧面分别固设有若干上料接片槽(图未标识)，上料接片槽长度方向与硅片输出组件153硅片输送方向一致，相邻的上料接片槽竖直平行设置，硅片流入上料接片槽内，通过接片升降组件172对接片组件171的升降控制，实现了将硅片输出组件153上输送的硅片依次导入上料接片槽的目的。

所述上料硅片缓存机构16位于上料硅片输送机构15和上料接片机构17之间，所述上料硅片缓存机构16包括缓存组件161和缓存升降组件162，所述缓存组件161包括两组对称设置的缓存板163，所述缓存升降组件162采用滚珠传动方式控制缓存组件161的升降，两组所述缓存板163相对的侧面分别固设有若干缓存槽(图未标识)，缓存槽长度方向与硅片输出组件153硅片输送方向一致，相邻的缓存槽竖直平行设置，所述上料硅片缓存机构16作为临时储存硅片的机构，避免上料接片机构17中上料接片槽装满硅片但未被取片的状况，同时通过缓存升降组件162对缓存组件161的升降控制，实现了将硅片输出组件153上输送的硅片依次导入缓存槽的目的。

所述横移输送机构30包括流转输送组件301和流转移动组件302，所述流转移动组件302包括横移动力组件，所述横移动力组件采用滚珠丝杆传动方式驱动流转输送组件301相对于流转移动组件302移动，所述流转输送组件301在移动过程中分别与上料花篮输送机构14和下料花篮输送机构24相接，流转输送组件301上端面与上料花篮输送机构14和下料花篮输送机构24上端面处于同一水平面，保证花篮的平稳过渡。

所述六轴机器人2通过底座1与设备机架固定,六轴机器人2通过执行器与夹爪分合机构3连接，六轴机器人2控制夹爪分合机构3的空间移动，使硅片移动以及取放操作更加灵活性，有利于提高硅片取放的速度以及整体的自动化程度。

所述夹爪分合机构3包括分片传动装置34、吸盘调整机构32以及吸盘旋转机构33，所述吸盘调整机构32包括吸盘吸取装置和控制吸盘吸取装置错位移动的调整装置，所述吸盘旋转机构33包括吸盘吸片装置和控制吸盘吸片装置转动的旋转装置，六轴机器人2控制夹爪分合机构3的移动，所述分片传动装置34通过吸盘调整机构32与吸盘旋转机构33控制硅片的移动，所述吸盘吸取装置和吸盘吸片装置控制硅片的吸取分合，所述旋转装置控制硅片翻面。

所述上料搬运机构包括上料定位移动组件40、上料硅片顶升组件41、上料硅片规整组件42以及上料离子吹风组件(图未显示)，所述下料搬运机构包括下料定位移动组件50、下料硅片顶升组件51、下料硅片规整组件52以及下料离子吹风组件(图未显示)，本实施例中，上料搬运机构和下料搬运机构结构相同，以下以上料搬运机构为例进行说明。

所述上料定位移动组件40包括动力组件400和两组承托组件440，所述动力组件400驱动两组承托组件440同步往返运动，所述承托组件440包括支架组件410、承载组件420以及翻转组件450，所述支架组件410对承载组件420进行支撑，所述翻转组件450控制承载组件420相对于支架组件410进行翻转，所述承载组件420包括限位结构421、压块结构422和夹紧结构423，所述压块结构422将石英舟固定，所述夹紧结构423将石英舟夹紧，所述限位结构421对石英舟内硅片进行支撑和限位。

所述上料定位移动组件40还包括位置控制装置430，所述位置控制装置430包括三组检测传感器432，承托组件440固设有对应的挡片431，所述三组检测传感器432分别位于动力组件400的两端以及承托组件440的原点位置，通过三组检测传感器432和挡片431的配合控制上料定位移动组件40的移动行程以及实现对上料定位移动组件40的原点检测。

所述上料硅片顶升组件41位于承托组件440的原点位置，所述上料硅片顶升组件41包括顶升移动组件和顶齿组件，顶升移动组件驱动顶齿组件上下往返移动，上料定位移动组件40处于原点位置时，一组承托组件440翻转后石英舟与顶齿组件处于竖直方向的共线。

所述上料硅片规整组件42包括风刀机构422和两组对称设置的规整支架421，所述规整支架421位于动力组件400的两侧，所述规整支架421包括规整齿4211，两组规整支架421的规整齿4211相对设置，本实施例中，两组规整齿4211通过气缸实现同步的同向/反向运动，进而对位于顶齿组件上的硅片进行调整，所述风刀机构422安装在其中一组规整支架421上，所述风刀机构422包括吹气组件4221，通过吹气组件4221便于对硅片进行分片。

所述上料离子吹风组件位于动力组件400一端，起到除尘除静电作用，便于硅片的后续处理。

所述石英舟流转机构包括主机对接输送组件60、夹爪组件70和控制夹爪组件70移动的移动模组组件80，主机对接输送组件60承载若干石英舟，移动模组组件80控制夹爪组件70夹持石英舟在主机对接输送组件60和上料定位移动组件40间流转。

所述主机对接输送组件60包括对接机架63、对接动力组件62以及承载石英舟托的托架组件61，所述对接机架63对托架组件61进行支撑，所述对接动力组件62驱动托架组件61进行往返运动，便于夹爪组件70对石英舟的夹持，所述托架组件61上固设有用于检测石英舟有无料的料传感器611和用于检测石英舟托是否放置到位的到位传感器610。

所述夹爪组件70包括传动组件71、夹持组件72以及承载传动组件71和夹持组件72的框架组件74，所述夹持组件72设置有两组，两组夹持组件72平行分布，传动组件71分别与两组夹持组件72连接，控制两组夹持组件72同步的同向或反向运动，所述夹持组件72包括两组夹紧机构73，两组夹紧机构73将一组石英舟夹紧，即夹爪组件70抓取两组石英舟，传动组件71通过控制两组夹持组件72同向或反向运动，进而控制两组石英舟的间距，避免在夹持不同大小石英舟时发生碰撞，提高设备的安全等级。

所述移动模组组件80包括固定连接组件81、移动升降组件82、移动横移组件83和移动平移组件84，所述固定连接组件81与夹爪组件70连接，所述移动升降组件82控制固定连接组件81沿z方向的往返运动，所述移动横移组件83控制固定连接组件81沿x方向的往返运动，所述移动平移组件84控制固定连接组件81沿y方向的往返运动，实现夹爪组件70的空间移动，从而控制石英舟在主机对接输送组件60、上料定位移动组件40和下料定位移动组件50之间流转(上述x、y、z方向如图5所示)。

在本实施例实施过程中，装满硅片的花篮由上料来料对接输送机构11依次将单个花篮输送至上料缓存输送机构12，上料缓存输送机构12将花篮输送至上料花篮升降机构13，通过上料硅片输送机构15的硅片输入组件151和花篮升降组件132的协同运行，将花篮内的硅片依次输出，通过硅片输出组件153和接片升降组件172的协同运行，将位于输送线上的硅片依次流入上料接片机构17的上料接片槽，夹爪分合机构3的吸盘吸取装置从上料接片槽吸取硅片，通过六轴机器人2将硅片移动至上料定位移动组件40并进行合片，重复上述步骤直至将上料定位移动组件40上的两组石英舟装满，装满硅片的石英舟通过由移动模组组件80控制的夹爪组件70搬运至主机对接输送组件60的石英舟托中，直至石英舟托装满石英舟，此时与主机内的石英舟托进行交互，从而实现了硅片由导片机装置到主机的上料过程，主机将处理后的硅片通过石英舟托上与主机对接输送组件60的石英舟托进行交互，装满处理后硅片的石英舟通过夹爪组件70搬运至下料搬运机构，根据上述结构反向流转，从而实现硅片由主机到导片机装置的下料过程，

显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本实用新型保护的范围。

Claims (10)

1.一种硅片上下料系统,其特征在于：包括导片机装置、硅片分合装置和搬运装置，所述导片机装置包括上料导片组件、下料导片组件以及连接上料导片组件和下料导片组件的横移输送机构，所述硅片分合装置包括六轴机器人以及夹爪分合机构，夹爪分合机构控制硅片的吸取和翻面，所述六轴机器人通过夹爪分合机构控制硅片的移动，所述搬运装置包括上料搬运机构、下料搬运机构和石英舟流转机构，所述上料导片组件、硅片分合装置、上料搬运机构和石英舟流转机构成硅片上料系统，所述下料导片组件、硅片分合装置、下料搬运机构和石英舟流转机构构成硅片下料系统。

2.根据权利要求1所述的一种硅片上下料系统，其特征在于：所述上料导片组件和下料导片组件结构相同，所述上料导片组件和下料导片组件分别设有对称分布的两组，所述上料导片组件包括上料来料对接输送机构、上料缓存输送机构、上料花篮升降机构、上料花篮输送机构、上料硅片输送机构、上料硅片缓存机构以及上料接片机构，上料花篮输送机构位于上料花篮升降机构下侧，所述下料导片组件包括下料来料对接输送机构、下料缓存输送机构、下料花篮升降机构、下料花篮输送机构、下料硅片输送机构、下料硅片缓存机构以及下料接片机构，下料花篮输送机构位于下料花篮升降机构下侧，横移输送机构分别与上料花篮输送机构、下料花篮输送机构连接，花篮经上料花篮输送机构、横移输送机构以及下料花篮输送机构在上料导片组件和下料导片组件间流转。

3.根据权利要求1所述的一种硅片上下料系统，其特征在于：所述夹爪分合机构包括分片传动装置、吸盘调整机构以及吸盘旋转机构，所述吸盘调整机构包括吸盘吸取装置和控制吸盘吸取装置错位移动的调整装置，所述吸盘旋转机构包括吸盘吸片装置和控制吸盘吸片装置转动的旋转装置，六轴机器人控制夹爪分合机构的移动，所述分片传动装置通过吸盘调整机构与吸盘旋转机构控制硅片的移动，所述吸盘吸取装置和吸盘吸片装置控制硅片的吸取分合，所述旋转装置控制硅片翻面。

4.根据权利要求1所述的一种硅片上下料系统，其特征在于：所述上料搬运机构和下料搬运机构结构相同，所述上料搬运机构包括上料定位移动组件、上料硅片顶升组件、上料硅片规整组件以及上料离子吹风组件，所述下料搬运机构包括下料定位移动组件、下料硅片顶升组件、下料硅片规整组件以及下料离子吹风组件。

5.根据权利要求1所述的一种硅片上下料系统，其特征在于：所述石英舟流转机构包括主机对接输送组件、夹爪组件和控制夹爪组件移动的移动模组组件，主机对接输送组件承载若干石英舟，移动模组组件控制夹爪组件夹持石英舟在主机对接输送组件和上料定位移动组件间流转。

6.根据权利要求4所述的一种硅片上下料系统，其特征在于：所述上料定位移动组件包括动力组件和两组承托组件，所述动力组件驱动两组承托组件同步往返运动，所述承托组件包括支架组件、承载组件以及翻转组件，所述支架组件对承载组件进行支撑，所述翻转组件控制承载组件相对于支架组件进行翻转，所述承载组件包括限位结构、压块结构和夹紧结构，所述压块结构将石英舟固定，所述夹紧结构将石英舟夹紧，所述限位结构对石英舟内硅片进行支撑和限位，所述上料定位移动组件还包括位置控制装置，所述位置控制装置包括三组检测传感器，承托组件固设有对应的挡片，所述三组检测传感器分别位于动力组件的两端以及承托组件的原点位置，通过三组检测传感器和挡片的配合控制上料定位移动组件的移动行程以及上料定位移动组件的原点检测，所述上料硅片顶升组件位于承托组件的原点位置，所述上料硅片顶升组件包括顶升移动组件和顶齿组件，顶升移动组件驱动顶齿组件上下往返移动，位于原点位置的一组上料定位移动组件翻转后石英舟与顶齿组件处于竖直方向的共线。

7.根据权利要求4所述的一种硅片上下料系统，其特征在于：所述上料硅片规整组件包括风刀机构和两组对称设置的规整支架，所述规整支架位于动力组件的两侧，所述规整支架包括规整齿，两组规整支架的规整齿相对设置，两组规整齿通过气缸实现同步的同向/反向运动，所述风刀机构安装在其中一组规整支架上，所述风刀机构包括吹气组件，通过吹气组件便于对硅片进行分片，所述上料离子吹风组件位于动力组件一端，对硅片除尘除静电，便于硅片的后续处理。

8.根据权利要求5所述的一种硅片上下料系统，其特征在于：所述主机对接输送组件包括对接机架、对接动力组件以及承载石英舟托的托架组件，所述对接机架对托架组件进行支撑，所述对接动力组件驱动托架组件往返，所述托架组件上固设有用于检测石英舟有无料的料传感器和用于检测石英舟托是否放置到位的到位传感器。

9.根据权利要求5所述的一种硅片上下料系统，其特征在于：所述夹爪组件包括传动组件、夹持组件以及承载传动组件和夹持组件的框架组件，所述夹持组件设置有两组，传动组件分别与两组夹持组件连接，控制两组夹持组件同步的同向或反向运动，所述夹持组件包括两组夹紧机构，两组夹紧机构将一组石英舟夹紧，传动组件通过控制两组夹持组件同向或反向运动，控制两组石英舟的间距，所述移动模组组件包括固定连接组件、移动升降组件、移动横移组件和移动平移组件，所述固定连接组件与夹爪组件连接，所述移动升降组件控制固定连接组件沿z方向的往返运动，所述移动横移组件控制固定连接组件沿x方向的往返运动，所述移动平移组件控制固定连接组件沿y方向的往返运动，移动模组组件控制夹爪组件的空间移动。

10.根据权利要求2所述的一种硅片上下料系统，其特征在于：所述上料来料对接输送机构其长度容纳多组花篮同时进行输送，上料来料对接输送机构在输送方向的两端固设有来料阻挡气缸，两侧固设有对称的两组来料对射传感器，两组来料对射传感器和来料阻挡气缸同步运行将花篮依次单个输送至上料缓存输送机构，上料来料对接输送机构设置有传感器，传感器对花篮满缺料状态进行检测，所述上料花篮升降机构包括升降输送组件和花篮升降组件，花篮升降组件控制升降输送组件升降，所述升降输送组件的长度与单个花篮长度相配，上料缓存输送机构将单个花篮输送至升降输送组件上，位于升降输送组件上的花篮通过夹紧装置固定，所述上料花篮升降机构还包括用于检测花篮内硅片余量的对射传感器以及用于检测来料花篮朝向的朝向传感器，所述上料硅片输送机构包括硅片输入组件、硅片输送调整和硅片输出组件，所述硅片输入组件延伸至上料花篮升降机构，通过硅片输入组件将位于上料花篮升降机构上花篮内的硅片进行取片，所述硅片输出组件延伸上料硅片缓存机构和上料接片机构，硅片由硅片输入组件输送至硅片输出组件，并通过硅片输出组件将硅片流入上料接片机构，所述硅片输送调整位于硅片输入组件和硅片输出组件之间，硅片输送调整对硅片进行调整，所述上料接片机构包括接片组件和接片升降组件，所述接片组件包括两组对称设置的接片板和驱动一组接片板移动的动力组件，所述接片升降组件控制接片组件的升降，所述动力组件移动一组接片板，控制两组接片板间的间距，两组所述接片板相对的侧面分别固设有上料接片槽，上料接片槽长度方向与硅片输出组件硅片输送方向一致，相邻的上料接片槽竖直平行设置，硅片流入上料接片槽内，所述上料硅片缓存机构位于上料硅片输送机构和上料接片机构之间，所述上料硅片缓存机构包括缓存组件和缓存升降组件，所述缓存组件包括两组对称设置的缓存板，所述缓存升降组件控制缓存组件的升降，两组所述缓存板相对的侧面分别固设有缓存槽，缓存槽长度方向与硅片输出组件硅片输送方向一致，相邻的缓存槽竖直平行设置，所述上料硅片缓存机构是临时储存硅片的机构。

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