CN214516376U - 一种用于晶圆的清洗机构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种用于晶圆的清洗机构,包括:设备壳体,所述设备壳体内设有工作平台,工作平台将设备壳体分隔为设备腔和清洗腔,所述清洗腔内的工作平台上设有若干清洗槽,所述清洗槽通过清洗固定支架安装在设备壳体上,所述清洗腔后端的设备壳体上设有热风烘干装置,所述热风烘干装置通过管道连接于热风机,所述热风机与热风烘干装置之间设有气体过滤装置,所述热风烘干装置包括热风输送箱体,所述热风输送箱体上端设有热风输入管,所述热风输入管通过管道连接于热风机,本实用新型不仅可以实现对多组晶圆的同时清洗,而且,可以对清洗后的晶圆进行及时干燥,防止二次污染,保证晶圆洁净度。
Description
技术领域
本实用新型涉及晶圆生产设备技术领域,具体为一种用于晶圆的清洗机构。
背景技术
晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆;在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能之IC产品。晶圆的原始材料是硅,而地壳表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅矿石经由电弧炉提炼,盐酸氯化,并经蒸馏后,制成了高纯度的多晶硅,硅晶棒在经过研磨,抛光,切片后,形成硅晶圆片,也就是晶圆,广泛应用到各类电子设备当中。晶圆材料经历了60余年的技术演进和产业发展,形成了当今以硅为主、新型半导体材料为补充的产业局面。
实用新型内容
本实用新型所解决的技术问题在于提供一种用于晶圆的清洗机构,以解决上述背景技术中提出的问题。
本实用新型所解决的技术问题采用以下技术方案来实现:一种用于晶圆的清洗机构,包括:设备壳体,所述设备壳体内设有工作平台,工作平台将设备壳体分隔为设备腔和清洗腔,所述清洗腔内的工作平台上设有若干清洗槽,所述清洗槽通过清洗固定支架安装在设备壳体上,所述清洗腔后端的设备壳体上设有热风烘干装置,所述热风烘干装置通过管道连接于热风机,所述热风机与热风烘干装置之间设有气体过滤装置,所述热风烘干装置包括热风输送箱体,所述热风输送箱体上端设有热风输入管,所述热风输入管通过管道连接于热风机,所述热风输送箱体下端设有热风排出箱体,所述热风排出箱体靠近清洗槽的一侧上设有烘干出风口,所述烘干出风口上设有防护栅格板,所述防护栅格板通过固定螺栓安装在设备壳体上,所述清洗腔顶部的设备壳体上设有照明设备,所述设备壳体底部设有行走轮,所述行走轮一侧的设备壳体上设有升降支撑垫脚。
所述清洗槽包括清洗槽本体,所述清洗槽本体内设有清洗提篮,所述清洗槽本体内壁上设有若干支撑固定板,所述支撑固定板上设有若干支撑固定卡槽,所述清洗槽本体通过清洗槽支架安装在清洗固定支架上。
所述气体过滤装置包括过滤罐本体,所述过滤罐本体一端设有进气口、另一端上设有出气口,所述过滤罐本体一侧设有活性炭注入口,过滤罐本体另一侧设有两个活性炭更换排出口,所述活性炭注入口与两个活性炭更换排出口之间通过内金属网、外金属网分为左侧过滤面、右侧过滤面,所述左侧过滤面、右侧过滤面倾斜设置,左侧过滤面、右侧过滤面内填充有活性炭层。
所述活性炭注入口上设有注入口密封板,活性炭更换排出口上设有排出口密封板,进气口、出气口上设有过滤罐连接法兰。
所述过滤罐本体的进气口内设有初级滤网,初级滤网可拆卸的安装在滤网支架上,滤网支架焊接固定在过滤罐本体上。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型不仅可以实现对多组晶圆的同时清洗,而且,可以对清洗后的晶圆进行及时干燥,防止二次污染,保证晶圆洁净度。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图2为本实用新型的清洗槽结构示意图。
图3为本实用新型的热风烘干装置结构示意图。
图4为本实用新型的气体过滤装置结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型的实现技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本实用新型,在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以两个元件内部的连通。
实施例1
如图1~4所示,一种用于晶圆的清洗机构,包括:设备壳体1,所述设备壳体1内设有工作平台2,工作平台2将设备壳体1分隔为设备腔和清洗腔,所述清洗腔内的工作平台2上设有若干清洗槽3,所述清洗槽3通过清洗固定支架9安装在设备壳体1上,所述清洗腔后端的设备壳体1上设有热风烘干装置6,所述热风烘干装置6通过管道连接于热风机,所述热风机与热风烘干装置6之间设有气体过滤装置10,所述热风烘干装置6包括热风输送箱体61,所述热风输送箱体61上端设有热风输入管64,所述热风输入管64通过管道连接于热风机,所述热风输送箱体61下端设有热风排出箱体62,所述热风排出箱体62靠近清洗槽3的一侧上设有烘干出风口,所述烘干出风口上设有防护栅格板63,所述防护栅格板63通过固定螺栓安装在设备壳体1上,所述清洗腔顶部的设备壳体1上设有照明设备4,所述设备壳体1底部设有行走轮7,所述行走轮7一侧的设备壳体1上设有升降支撑垫脚8。
实施例2
如图1~4所示,一种用于晶圆的清洗机构,包括:设备壳体1,所述设备壳体1内设有工作平台2,工作平台2将设备壳体1分隔为设备腔和清洗腔,所述清洗腔内的工作平台2上设有若干清洗槽3,所述清洗槽3通过清洗固定支架9安装在设备壳体1上,所述清洗腔后端的设备壳体1上设有热风烘干装置6,所述热风烘干装置6通过管道连接于热风机,所述热风机与热风烘干装置6之间设有气体过滤装置10,所述热风烘干装置6包括热风输送箱体61,所述热风输送箱体61上端设有热风输入管64,所述热风输入管64通过管道连接于热风机,所述热风输送箱体61下端设有热风排出箱体62,所述热风排出箱体62靠近清洗槽3的一侧上设有烘干出风口,所述烘干出风口上设有防护栅格板63,所述防护栅格板63通过固定螺栓安装在设备壳体1上,所述清洗槽3包括清洗槽本体31,所述清洗槽本体31内设有清洗提篮32,所述清洗槽本体31内壁上设有若干支撑固定板33,所述支撑固定板33上设有若干支撑固定卡槽,所述清洗槽本体31通过清洗槽支架34安装在清洗固定支架9上。
实施例3
如图1~4所示,一种用于晶圆的清洗机构,包括:设备壳体1,所述设备壳体1内设有工作平台2,工作平台2将设备壳体1分隔为设备腔和清洗腔,所述清洗腔内的工作平台2上设有若干清洗槽3,所述清洗槽3通过清洗固定支架9安装在设备壳体1上,所述清洗腔后端的设备壳体1上设有热风烘干装置6,所述热风烘干装置6通过管道连接于热风机,所述热风机与热风烘干装置6之间设有气体过滤装置10,所述热风烘干装置6包括热风输送箱体61,所述热风输送箱体61上端设有热风输入管64,所述热风输入管64通过管道连接于热风机,所述热风输送箱体61下端设有热风排出箱体62,所述热风排出箱体62靠近清洗槽3的一侧上设有烘干出风口,所述烘干出风口上设有防护栅格板63,所述防护栅格板63通过固定螺栓安装在设备壳体1上,所述气体过滤装置10包括过滤罐本体101,所述过滤罐本体101一端设有进气口102、另一端上设有出气口103,所述过滤罐本体101一侧设有活性炭注入口107,过滤罐本体101另一侧设有两个活性炭更换排出口109,所述活性炭注入口107与两个活性炭更换排出口109之间通过内金属网1011、外金属网1012分为左侧过滤面、右侧过滤面,所述左侧过滤面、右侧过滤面倾斜设置,左侧过滤面、右侧过滤面内填充有活性炭层1013。所述活性炭注入口107上设有注入口密封板108,活性炭更换排出口109上设有排出口密封板1010,进气口102、出气口103上设有过滤罐连接法兰106。所述过滤罐本体101的进气口102内设有初级滤网105,初级滤网105可拆卸的安装在滤网支架104上,滤网支架104焊接固定在过滤罐本体101上。
本实用新型在设备壳体1内设有工作平台2,工作平台2将设备壳体1分隔为设备腔和清洗腔,所述清洗腔内的工作平台2上设有若干清洗槽3,所述清洗槽3通过清洗固定支架9安装在设备壳体1上,所述清洗腔后端的设备壳体1上设有热风烘干装置6,所述热风烘干装置6通过管道连接于热风机,所述热风机与热风烘干装置6之间设有气体过滤装置10,不仅可以实现对多组晶圆的同时清洗,而且,可以对清洗后的晶圆进行及时干燥,防止二次污染,保证晶圆洁净度。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型的要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (5)
1.一种用于晶圆的清洗机构,包括:设备壳体(1),所述设备壳体(1)内设有工作平台(2),工作平台(2)将设备壳体(1)分隔为设备腔和清洗腔,所述清洗腔内的工作平台(2)上设有若干清洗槽(3),其特征在于:所述清洗槽(3)通过清洗固定支架(9)安装在设备壳体(1)上,所述清洗腔后端的设备壳体(1)上设有热风烘干装置(6),所述热风烘干装置(6)通过管道连接于热风机,所述热风机与热风烘干装置(6)之间设有气体过滤装置(10),所述热风烘干装置(6)包括热风输送箱体(61),所述热风输送箱体(61)上端设有热风输入管(64),所述热风输入管(64)通过管道连接于热风机,所述热风输送箱体(61)下端设有热风排出箱体(62),所述热风排出箱体(62)靠近清洗槽(3)的一侧上设有烘干出风口,所述烘干出风口上设有防护栅格板(63),所述防护栅格板(63)通过固定螺栓安装在设备壳体(1)上,所述清洗腔顶部的设备壳体(1)上设有照明设备(4),所述设备壳体(1)底部设有行走轮(7),所述行走轮(7)一侧的设备壳体(1)上设有升降支撑垫脚(8)。
2.根据权利要求1所述的一种用于晶圆的清洗机构,其特征在于:所述清洗槽(3)包括清洗槽本体(31),所述清洗槽本体(31)内设有清洗提篮(32),所述清洗槽本体(31)内壁上设有若干支撑固定板(33),所述支撑固定板(33)上设有若干支撑固定卡槽,所述清洗槽本体(31)通过清洗槽支架(34)安装在清洗固定支架(9)上。
3.根据权利要求1或2所述的一种用于晶圆的清洗机构,其特征在于:所述气体过滤装置(10)包括过滤罐本体(101),所述过滤罐本体(101)一端设有进气口(102)、另一端上设有出气口(103),所述过滤罐本体(101)一侧设有活性炭注入口(107),过滤罐本体(101)另一侧设有两个活性炭更换排出口(109),所述活性炭注入口(107)与两个活性炭更换排出口(109)之间通过内金属网(1011)、外金属网(1012)分为左侧过滤面、右侧过滤面,所述左侧过滤面、右侧过滤面倾斜设置,左侧过滤面、右侧过滤面内填充有活性炭层(1013)。
4.根据权利要求3所述的一种用于晶圆的清洗机构,其特征在于:所述活性炭注入口(107)上设有注入口密封板(108),活性炭更换排出口(109)上设有排出口密封板(1010),进气口(102)、出气口(103)上设有过滤罐连接法兰(106)。
5.根据权利要求4所述的一种用于晶圆的清洗机构,其特征在于:所述过滤罐本体(101)的进气口(102)内设有初级滤网(105),初级滤网(105)可拆卸的安装在滤网支架(104)上,滤网支架(104)焊接固定在过滤罐本体(101)上。
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