CN214488107U - 一种扩散炉清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种扩散炉清洗装置,包括装置本体,装置本体上设有设备安装台,设备安装台上设有清洗槽,清洗槽两侧设有支撑柱,支撑柱上设有支架,支架包括支架盘,支架盘一侧设有支架轴,支架盘另一侧设有扩散炉管固定架,两侧扩散炉管固定架方向相对,两个扩散炉管固定架间设有扩散炉管,扩散炉管与清洗槽匹配,支架轴设在支撑柱上,支架轴外侧设有驱动电机,驱动电机设在电机支架上,电机支架设在设备安装台上;清洗槽侧壁设有喷水孔,喷水孔与水泵连接,水泵设在设备安装台上;清洗槽上还设有进水管和出水管,进水管与清洗剂存储箱上的电动阀门连接,出水管上设有排水电动阀,排水电动阀与污水收集箱连接,清洗槽连接有超声波发生器。
Description
技术领域
本实用新型属于扩散炉清洗技术领域,具体涉及一种扩散炉清洗装置。
背景技术
扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一,用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。扩散炉有垂直扩散炉和水平扩散炉两种类型。垂直扩散炉是石英舟垂直于水平面,更加有利于机械手传送硅片,片内工艺参数一致性更好。水平扩散炉是石英舟平行于水平面,一台可以4个或4个以上的工艺炉管,平均炉管的占地面积更小,片间的工艺参数较垂直扩散炉更好。扩散炉在使用后需要及时清洗,现有的扩散炉管清洗装置为整体浸泡式,在槽体滚轮上放置炉管,加药液没过炉管,开启旋转滚轮,转动炉管,待管壁干净后排尽槽内酸性溶液,开启水阀冲水,继续转动炉管;待水质达到13MΩ时,排尽槽内水,炉管晾干待装。该设备存在如下缺陷:浸泡式酸处理浪费化剂和水,并且会损伤炉管表面耐高温层,缩短炉管寿命。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种扩散炉清洗装置,结构简单,清洗效率高,节省清洗剂和水,且不会损伤炉管表面的耐高温层。
本实用新型提供了如下的技术方案:
一种扩散炉清洗装置,其特征在于,包括装置本体,所述装置本体上设有设备安装台,所述设备安装台上设有清洗槽,所述清洗槽两侧设有支撑柱,所述支撑柱上可活动的设有支架,所述支架包括支架盘,所述支架盘一侧设有支架轴,所述支架盘的另一侧设有扩散炉管固定架,两侧的所述支架的所述扩散炉管固定架方向相对,两个所述扩散炉管固定架之间设有扩散炉管,所述扩散炉管的尺寸与所述清洗槽的尺寸相匹配,两个所述支架轴可活动的设在所述支撑柱上,所述支架轴外侧设有驱动电机,所述驱动电机固定在电机支架上,所述电机支架固定在设备安装台上;所述清洗槽的侧壁均布设有喷水孔,所述喷水孔与水泵连接,所述水泵固定在所述设备安装台上;所述清洗槽上还设有进水管和出水管,所述进水管与清洗剂存储箱上的电动阀门连接,所述出水管上设有排水电动阀,所述排水电动阀与污水收集箱连接,所述清洗槽连接有超声波发生器。
优选的,所述支撑柱顶端设有支撑孔,所述支撑孔中嵌有轴承,所述支架轴设在所述轴承中。
优选的,所述支架盘一半位于所述清洗槽中,所述扩散炉管固定架有多个,最下方的所述扩散炉管位于所述清洗槽中,最下方的所述扩散炉管低于所述喷水孔的高度。
优选的,所述支撑柱的高度大于所述清洗槽的高度,所述支架与所述清洗槽不接触。
优选的,所述出水管位于所述清洗槽的底部。
优选的,所述进水管的高度低于所述喷水孔。
优选的,所述超声波发生器发出的超声波频率大于1000Hz。
本实用新型的有益效果是:结构简单,通过在支撑柱顶端的支撑孔中嵌有轴承,实现支架与支撑柱之间的可活动连接,支架与清洗槽之间不接触,避免支架旋转过程和超声波清洗过程中互相影响;通过对扩散炉管进行逐一超声波清洗,避免长时间浸泡影响扩散炉管的使用寿命,同时能够节省清洗剂和水,并且不会损伤炉管表面耐高温层,利用超声波清洗的清洗效率更高,可靠性高。
附图说明
附图用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的限制。在附图中:
图1是本实用新型的整体结构示意图;
图2是本实用新型的俯视结构示意图;
图3是本实用新型的主视结构示意图。
具体实施方式
如图所示,为本实用新型提供的一种扩散炉清洗装置,包括装置本体,装置本体上设有设备安装台2,设备安装台2上设有清洗槽1,清洗槽1两侧设有支撑柱3,支撑柱3上可活动的设有支架4,其中支撑柱3的高度大于清洗槽1的高度,支架4与清洗槽1不接触;支架4包括支架盘41,支架盘41一侧设有支架轴42,支架盘41的另一侧设有扩散炉管固定架43,两侧的支架4的扩散炉管固定架43方向相对,两个扩散炉管固定架43之间设有扩散炉管5,扩散炉管5的尺寸与清洗槽1的尺寸相匹配,支撑柱3顶端设有支撑孔,支撑孔中嵌有轴承,两个支架轴42分别设在两个支撑柱3上的轴承中,实现可活动的连接,支架轴42外侧设有驱动电机6,驱动电机6固定在电机支架7上,电机支架7固定在设备安装台2上;清洗槽1的侧壁均布设有喷水孔,喷水孔与水泵连接,水泵固定在设备安装台2上;清洗槽1上还设有进水管和出水管,进水管的高度低于喷水孔,进水管与清洗剂存储箱上的电动阀门连接,出水管位于清洗槽1的底部,出水管上设有排水电动阀,排水电动阀与污水收集箱连接,清洗槽1连接有超声波发生器,超声波发生器发出的超声波频率大于1000Hz,既能清洗干净扩散炉管5,又不会损伤扩散炉管5的表面耐高温层。支架盘41的下半位于清洗槽1中内侧,扩散炉管固定架43有多个,最下方的扩散炉管5位于清洗槽1中,最下方的扩散炉管5低于喷水孔的高度。
清洗时,排水电动阀关闭,清洗剂存储箱上的电动阀门打开,将清洗剂从清洗剂存储箱中放入到清洗槽1中,直至清洗剂能够没过最下方的扩散炉管5、液面高度低于喷水孔,然后启动超声波发生器,开始对最下方的扩散炉管5进行超声波清洗,然后驱动电机6驱动支架4转动,带动下一个扩散炉管5旋转至最下方、浸入清洗剂中进行超声波清洗,待所有的扩散炉管5超声波清洗结束后,排水电动阀打开,清洗剂沿着出水管排出到污水收集箱中,然后启动水泵,喷水孔开始喷水,驱动电机6继续旋转驱动支架4转动,带动扩散炉管5逐一旋转至最下方,喷水孔喷出的水依次将扩散炉管5上残留的清洗剂和赃物冲洗干净后,清洗过程结束。
通过对扩散炉管5进行逐一超声波清洗,避免长时间浸泡影响扩散炉管5的使用寿命,同时能够节省清洗剂和水,并且不会损伤炉管表面耐高温层,利用超声波清洗的清洗效率更高,整体结构简单,可靠性高。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种扩散炉清洗装置,其特征在于,包括装置本体,所述装置本体上设有设备安装台(2),所述设备安装台(2)上设有清洗槽(1),所述清洗槽(1)两侧设有支撑柱(3),所述支撑柱(3)上可活动的设有支架(4),所述支架(4)包括支架盘(41),所述支架盘(41)一侧设有支架轴(42),所述支架盘(41)的另一侧设有扩散炉管固定架(43),两侧的所述支架(4)的所述扩散炉管固定架(43)方向相对,两个所述扩散炉管固定架(43)之间设有扩散炉管(5),所述扩散炉管(5)的尺寸与所述清洗槽(1)的尺寸相匹配,两个所述支架轴(42)可活动的设在所述支撑柱(3)上,所述支架轴(42)外侧设有驱动电机(6),所述驱动电机(6)固定在电机支架(7)上,所述电机支架(7)固定在设备安装台(2)上;所述清洗槽(1)的侧壁均布设有喷水孔,所述喷水孔与水泵连接,所述水泵固定在所述设备安装台(2)上;所述清洗槽(1)上还设有进水管和出水管,所述进水管与清洗剂存储箱上的电动阀门连接,所述出水管上设有排水电动阀,所述排水电动阀与污水收集箱连接,所述清洗槽(1)连接有超声波发生器。
2.根据权利要求1所述的扩散炉清洗装置,其特征在于,所述支撑柱(3)顶端设有支撑孔,所述支撑孔中嵌有轴承,所述支架轴(42)设在所述轴承中。
3.根据权利要求1所述的扩散炉清洗装置,其特征在于,所述支架盘(41)一半位于所述清洗槽(1)中,所述扩散炉管固定架(43)有多个,最下方的所述扩散炉管(5)位于所述清洗槽(1)中,最下方的所述扩散炉管(5)低于所述喷水孔的高度。
4.根据权利要求1所述的扩散炉清洗装置,其特征在于,所述支撑柱(3)的高度大于所述清洗槽(1)的高度,所述支架(4)与所述清洗槽(1)不接触。
5.根据权利要求1所述的扩散炉清洗装置,其特征在于,所述出水管位于所述清洗槽(1)的底部。
6.根据权利要求1所述的扩散炉清洗装置,其特征在于,所述进水管的高度低于所述喷水孔。
7.根据权利要求1所述的扩散炉清洗装置,其特征在于,所述超声波发生器发出的超声波频率大于1000Hz。
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- 2021-01-21 CN CN202120165784.9U patent/CN214488107U/zh active Active
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