CN214441391U - 一种生产用冷水水洗装置 - Google Patents
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Abstract
一种生产用冷水水洗装置,它属于化工水洗离心技术领域,包括机架,机架上设有水洗筒,水洗筒内同轴设有搅拌轴,水洗筒的筒壁内设有环形的中空腔一,中空腔一内设有半导体制冷片一,半导体制冷片一连接有控制器,水洗筒的内壁的中部还设有水温传感器,水温传感器与控制器连接;搅拌轴的一端连接有驱动搅拌轴转动的驱动组件,搅拌轴的另一端与水洗筒的底部转动连接,搅拌轴与水洗筒连接的端部设有放置孔,放置孔内设有半导体制冷片二,半导体制冷片二固定设于水洗筒的底部,半导体制冷片二与控制器连接。通过半导体制冷片一等结构的设置,能够确保水洗筒内的水温不会升高,避免了水温升高后产品溶于水,提高了成品的提取率。
Description
技术领域
本实用新型涉及化工水洗离心技术领域,具体涉及一种生产用冷水水洗装置。
背景技术
在1,2-苯并异噻唑啉-3-酮的生产流程中,主要包括氯化取代、铵解、精馏、缩合、环合、粗品离心水洗、共沸脱溶剂、成品离心水洗等工序。
1,2-苯并异噻唑啉-3-酮简称BIT,是一种白色结晶粉末,溶于热水和部分有机溶剂,熔点154-158℃,分子式是C7H5NOS。它是一种常见的异噻唑啉酮类杀菌剂,主要应用于工业杀菌、防腐、防酶剂。具有突出的抑制霉菌(真菌、细菌),藻类等微生物在有机介质中的滋生作用,解决了微生物滋生引起的有机产品发霉、发酵、变质、破乳、发臭、等一系列问题。因此,目前人们将BIT广泛用于乳胶制品,水溶性树脂,涂料(乳胶漆),丙烯酸,聚合物。聚氨制品,照相洗液,造纸,油墨,皮革,润滑油等产品中。
在粗品离心水洗和成品离心水洗工序中,均需要对物料进行一次或多次的离心和水洗的操作。在水洗过程中,因刚生产出来的BIT温度较高,易导致水温升高;而BIT又易溶于水,降低了产品的提取质量和效率。
实用新型内容
针对现有技术所存在的上述缺点,本实用新型公开了一种生产用冷水水洗装置,能够确保水洗筒内的水温不会升高,避免了水温升高后产品溶于水,提高了成品的提取率。
为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案如下:
一种生产用冷水水洗装置,包括机架,所述机架上设有水洗筒,所述水洗筒的顶部设有进料口和注水管,所述水洗筒的底部设有出料口,所述水洗筒内同轴设有搅拌轴,所述搅拌轴上设有若干搅拌齿,所述水洗筒的筒壁内设有环形的中空腔一,所述中空腔一内设有半导体制冷片一,所述半导体制冷片一连接有控制器,所述水洗筒的内壁的中部还设有水温传感器,所述水温传感器与所述控制器连接;
所述搅拌轴的一端连接有驱动所述搅拌轴转动的驱动组件,所述搅拌轴的另一端与所述水洗筒的底部转动连接,所述搅拌轴与所述水洗筒连接的端部设有放置孔,所述放置孔内设有半导体制冷片二,所述半导体制冷片二固定设于所述水洗筒的底部,所述半导体制冷片二与所述控制器连接;
所述出料口处设有过滤壳体,所述过滤壳体内设有可拆卸的过滤塞;
所述水洗筒底部的一侧设有振动器,所述振动器设于所述机架上。
优选的,所述搅拌轴上设有制冷片出口,所述制冷片出口设于所述水洗筒的上方。
优选的,所述半导体制冷片一的数量设为多个,多个所述半导体制冷片一绕所述水洗筒均匀设于中空腔一内。
优选的,所述中空腔一的外壁设为保温层。
优选的,所述驱动组件设为电机。
优选的,所述搅拌齿的端面设有刷毛。
本实用新型的有益效果表现在:
1.本实用新型通过把半导体制冷片一设置在水洗筒的筒壁内,随着搅拌轴的搅动,可以对水洗筒内的水温进行整体降温;通过把半导体制冷片二设置在搅拌轴内,可以辅助对位于水洗筒底部和围绕搅拌轴周围的水溶液进行降温,确保了水洗筒内的水温不会升高,避免了水温升高后产品溶于水,有效的提高了BIT成品的提取率。
2.本实用新型提供的水温传感器、控制器等结构,实时检测水洗筒内的水温,在水温超过设定温度后,传递信息给控制器,半导体制冷片一和半导体制冷片二开始工作,对水洗筒进行降温,以避免水温升高后影响BIT成品的提取率。
附图说明
构成本申请的一部分附图用来提供对本申请的进一步理解,使得本申请的其它特征、目的和优点变得更明显。本申请的示意性实施例附图及其说明用于解释本申请,并不构成对本申请的不当限定。在附图中:
图1为本实用新型一种生产用冷水水洗装置的示意图。
图中:1-机架、2-水洗筒、3-搅拌轴、4-半导体制冷片一、5-半导体制冷片二、6-水温传感器、7-过滤塞。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本申请方案,下面将结合附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述。
如图1所示,本实用新型包括机架1,机架1上设有水洗筒2,水洗筒2的顶部设有进料口和注水管,水洗筒2的底部设有出料口,水洗筒2内同轴设有搅拌轴3,搅拌轴3上设有若干搅拌齿,水洗筒2的筒壁内设有环形的中空腔一,中空腔一内设有半导体制冷片一4,半导体制冷片一4连接有控制器;水洗筒2的内壁的中部还设有水温传感器6,水温传感器6与控制器连接;以便于实时检测水洗筒2内的水温,以免水温升高后影响成品的提取率。
搅拌轴3的一端连接有驱动搅拌轴3转动的驱动组件,驱动组件设为电机,以便于给装置提供动力;搅拌轴3的另一端与水洗筒2的底部转动连接,搅拌轴3与水洗筒2的连接处设有密封套,以防止物料和水进入连接处;搅拌轴3与水洗筒2连接的端部设有放置孔,放置孔内设有半导体制冷片二5,半导体制冷片二5固定设于水洗筒2的底部并穿过水洗筒2的底部连接电源,半导体制冷片二5与控制器连接,以便于辅助调节水洗筒2内的温度;放置孔的顶部可设置限位槽,以便于辅助固定半导体制冷片二5。
出料口处设有过滤壳体,过滤壳体内设有可拆卸的过滤塞7,以便于过滤塞7的拆卸更换,并在需要时拆下流出成品;同时方便清洗BIT后的污水排出。
水洗筒2底部的一侧设有振动器,振动器设于机架1上,以便于对水洗筒2施加外力使其振动,提高污水的流出速度,同时可以在拔掉过滤塞7时,加快成品的流出速度。
搅拌轴3上设有制冷片出口,制冷片出口设于水洗筒2的上方。
半导体制冷片一4的数量设为多个,多个半导体制冷片一4绕水洗筒2均匀设于中空腔一内。
中空腔一的外壁设为保温层,以确保水洗筒2内的水温均匀。
搅拌齿的端面设有刷毛,以便于快速刷洗BIT,使被清洗干净。
使用时,把刚生产出的1,2-苯并异噻唑啉-3-酮从进料口放入水洗筒2内,冷水通过注水管进入;搅拌轴3搅拌混合液,搅拌齿上的刷毛清洗BIT,因刚生产出的BIT的温度较高,在水中搅拌后,会使水温升高,为避免此问题发生,水温传感器6实时检测水温,在水温升高后,半导体制冷片一4和半导体制冷片二5均开始工作,对水洗筒2内的水进行降温,以防止BIT溶于水,以此提高了成品的提取率;待清洗过后的首批水通过过滤塞7流出;再从注水管注入冷水,再次搅拌清洗,可反复多次清洗;待清洗干净后,拔下过滤塞7,使混合液进入离心机进行分离BIT。
以上内容仅仅是对本实用新型的结构所作的举例和说明,所属本技术领域的技术人员对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代,只要不偏离实用新型的结构或者超越本权利要求书所定义的范围,均应属于本实用新型的保护范围。
Claims (6)
1.一种生产用冷水水洗装置,包括机架,所述机架上设有水洗筒,所述水洗筒的顶部设有进料口和注水管,所述水洗筒的底部设有出料口,所述水洗筒内同轴设有搅拌轴,所述搅拌轴上设有若干搅拌齿,其特征在于,所述水洗筒的筒壁内设有环形的中空腔一,所述中空腔一内设有半导体制冷片一,所述半导体制冷片一连接有控制器,所述水洗筒的内壁的中部还设有水温传感器,所述水温传感器与所述控制器连接;
所述搅拌轴的一端连接有驱动所述搅拌轴转动的驱动组件,所述搅拌轴的另一端与所述水洗筒的底部转动连接,所述搅拌轴与所述水洗筒连接的端部设有放置孔,所述放置孔内设有半导体制冷片二,所述半导体制冷片二固定设于所述水洗筒的底部,所述半导体制冷片二与所述控制器连接;
所述出料口处设有过滤壳体,所述过滤壳体内设有可拆卸的过滤塞;
所述水洗筒底部的一侧设有振动器,所述振动器设于所述机架上。
2.根据权利要求1所述的一种生产用冷水水洗装置,其特征在于,所述搅拌轴上设有制冷片出口,所述制冷片出口设于所述水洗筒的上方。
3.根据权利要求1所述的一种生产用冷水水洗装置,其特征在于,所述半导体制冷片一的数量设为多个,多个所述半导体制冷片一绕所述水洗筒均匀设于中空腔一内。
4.根据权利要求1所述的一种生产用冷水水洗装置,其特征在于,所述中空腔一的外壁设为保温层。
5.根据权利要求1所述的一种生产用冷水水洗装置,其特征在于,所述驱动组件设为电机。
6.根据权利要求1所述的一种生产用冷水水洗装置,其特征在于,所述搅拌齿的端面设有刷毛。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN202023350763.9U CN214441391U (zh) | 2020-12-31 | 2020-12-31 | 一种生产用冷水水洗装置 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN202023350763.9U CN214441391U (zh) | 2020-12-31 | 2020-12-31 | 一种生产用冷水水洗装置 |
Publications (1)
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ID=78110687
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CN202023350763.9U Active CN214441391U (zh) | 2020-12-31 | 2020-12-31 | 一种生产用冷水水洗装置 |
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CN (1) | CN214441391U (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI830499B (zh) * | 2021-11-30 | 2024-01-21 | 大陸商北京北方華創微電子裝備有限公司 | 晶圓清洗設備中清洗液溫度的控制裝置及晶圓清洗設備 |
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2020
- 2020-12-31 CN CN202023350763.9U patent/CN214441391U/zh active Active
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TWI830499B (zh) * | 2021-11-30 | 2024-01-21 | 大陸商北京北方華創微電子裝備有限公司 | 晶圓清洗設備中清洗液溫度的控制裝置及晶圓清洗設備 |
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