CN214300327U - 一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶 - Google Patents
一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶 Download PDFInfo
- Publication number
- CN214300327U CN214300327U CN202022505954.1U CN202022505954U CN214300327U CN 214300327 U CN214300327 U CN 214300327U CN 202022505954 U CN202022505954 U CN 202022505954U CN 214300327 U CN214300327 U CN 214300327U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- target
- fixedly connected
- gear
- magnetron sputtering
- magnetic stripe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 title claims abstract description 23
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 claims description 11
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000003889 chemical engineering Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000001659 ion-beam spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本实用新型涉及磁控溅射镀膜设备技术领域，公开了一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，包括靶支架，所述靶支架的一侧上部设置连接有注水口，且靶支架的一侧下部固定连接有电机，所述靶支架的另一侧设置连接有靶腔，且靶支架的内部固定连接有靶旋转结构，所述靶腔的两侧固定连接有外齿轮，且靶腔的内部固定连接有靶材，所述注水口的一侧固定连接有进水管，所述进水管的一侧固定连接有冷却水管。本实用新型通过注水口、进水管、冷却水管、电机、转轴、第二齿轮、第一齿轮、靶旋转结构和靶腔，在电机的作用下，带动转轴的旋转，从而带动第二齿轮的旋转，使得第一齿轮受到第二齿轮旋转的力带动靶旋转结构的运转，便于工作人员的使用。
Description
技术领域
本实用新型涉及磁控溅射镀膜设备技术领域，具体是一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶。
背景技术
随着全球制造业高速发展，真空镀膜技术应用越来越广泛。从半导体集成电路、LED、显示器、触摸屏、太阳能光伏、化工、制药等行业的发展来看，对真空镀膜设备、技术、材料需求都在不断增加，真空镀膜机主要指一类需要在较高真空下进行的镀膜，镀膜种类分为多种，包括真空电阻加热蒸发、电子枪加热蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积、离子束溅射等多种，主要分成蒸发和溅射两种。因此，市场上出现了一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶被人们广泛使用。
目前市场上存在多种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，但是这些圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶使用起来多有不便，沉积速率低，且靶面刻蚀不均匀，不能满足人们对圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶的要求。因此，本领域技术人员提供了一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，以解决上述背景技术中提出的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：
一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，包括靶支架，所述靶支架的一侧上部设置连接有注水口，且靶支架的一侧下部固定连接有电机，所述靶支架的另一侧设置连接有靶腔，且靶支架的内部固定连接有靶旋转结构，所述靶腔的两侧固定连接有外齿轮，且靶腔的内部固定连接有靶材。
作为本实用新型再进一步的方案：所述注水口的一侧固定连接有进水管，所述进水管的一侧固定连接有冷却水管。
作为本实用新型再进一步的方案：所述冷却水管的外侧固定连接有极靴，所述极靴的外侧固定连接有若干个磁铁块。
作为本实用新型再进一步的方案：所述靶旋转结构的一侧固定连接有第一齿轮。
作为本实用新型再进一步的方案：所述电机一侧固定连接有转轴，所述转轴的一侧固定连接有第二齿轮。
作为本实用新型再进一步的方案：所述进水管与冷却水管之间固定连接有加固片。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
1、通过注水口、进水管、冷却水管、电机、转轴、第二齿轮、第一齿轮、靶旋转结构和靶腔，靶旋转结构的一侧设置有第一齿轮，第一齿轮与第二齿轮进行卡接，在电机的作用下，带动转轴的旋转，从而带动第二齿轮的旋转，使得第一齿轮受到第二齿轮旋转的力带动靶旋转结构的运转，从而带动靶腔的运转，将冷却水从注水口注入，通过进水管流入冷却水管内部，从而对靶腔内部进行降温冷却，方便了工作人员的使用。
2、通过靶材、磁铁块和极靴，靶腔相对于磁铁块转动，磁铁块安装在极靴上与靶管同心，磁力线从N极出发，穿过靶管，再回到极靴，这样就在靶管圆柱面上形成了封闭的磁力线长环形跑道，由于靶管是相对于同心磁铁块匀速转动，所以靶管表面形成了均匀的刻蚀区，磁铁块采用N极和S极磁铁，使得磁力可以两两抵消，减弱磁强度，当刻蚀不均、沉积速率、溅射效率不理想的时候，可以通过增减磁铁块数量来弥补此缺陷，提高该装置的实用性，方便了工作人员的使用。
附图说明
图1为一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶的结构示意图；
图2为一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶的剖面图；
图3为一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶中靶腔的剖面图。
图中：1、靶支架；2、靶旋转结构；3、靶腔；4、外齿轮；5、靶材；6、第一齿轮；7、注水口；8、电机；9、转轴；10、第二齿轮；11、进水管；12、加固片；13、冷却水管；14、磁铁块；15、极靴。
具体实施方式
请参阅图1～3，本实用新型实施例中，一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，包括靶支架1，靶支架1的一侧上部设置连接有注水口7，且靶支架1的一侧下部固定连接有电机8，靶支架1的另一侧设置连接有靶腔3，且靶支架1的内部固定连接有靶旋转结构2，靶腔3的两侧固定连接有外齿轮4，且靶腔3的内部固定连接有靶材5，靶旋转结构2的一侧固定连接有第一齿轮6，电机8一侧固定连接有转轴9，转轴9的一侧固定连接有第二齿轮10。
在图2中：注水口7的一侧固定连接有进水管11，进水管11的一侧固定连接有冷却水管13，进水管11与冷却水管13之间固定连接有加固片12，将冷却水从注水口7注入，通过进水管11流入冷却水管13内部，从而对靶腔3内部进行降温冷却。
在图3中：冷却水管13的外侧固定连接有极靴15，极靴15的外侧固定连接有若干个磁铁块14，靶腔3相对于磁铁块14转动，磁铁块14安装在极靴15上与靶管同心，磁力线从N极出发，穿过靶管，再回到极靴15，这样就在靶管圆柱面上形成了封闭的磁力线长环形跑道，由于靶管是相对于同心磁铁块14匀速转动，所以靶管表面形成了均匀的刻蚀区。
本实用新型的工作原理是：靶旋转结构2的一侧设置有第一齿轮6，第一齿轮6与第二齿轮10进行卡接，在电机8的作用下，带动转轴9的旋转，从而带动第二齿轮10的旋转，使得第一齿轮6受到第二齿轮10旋转的力带动靶旋转结构2的运转，从而带动靶腔3的运转，将冷却水从注水口7注入，通过进水管11流入冷却水管13内部，从而对靶腔3内部进行降温冷却，靶腔3相对于磁铁块14转动，磁铁块14安装在极靴15上与靶管同心，磁力线从N极出发，穿过靶管，再回到极靴15，这样就在靶管圆柱面上形成了封闭的磁力线长环形跑道，由于靶管是相对于同心磁铁块14匀速转动，所以靶管表面形成了均匀的刻蚀区，磁铁块14采用N极和S极磁铁，使得磁力可以两两抵消，减弱磁强度，当刻蚀不均、沉积速率、溅射效率不理想的时候，可以通过增减磁铁块14数量来弥补此缺陷，提高该装置的实用性，方便了工作人员的使用。
以上所述的，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，包括靶支架(1)，其特征在于，所述靶支架(1)的一侧上部设置连接有注水口(7)，且靶支架(1)的一侧下部固定连接有电机(8)，所述靶支架(1)的另一侧设置连接有靶腔(3)，且靶支架(1)的内部固定连接有靶旋转结构(2)，所述靶腔(3)的两侧固定连接有外齿轮(4)，且靶腔(3)的内部固定连接有靶材(5)。
2.根据权利要求1所述的一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，其特征在于，所述注水口(7)的一侧固定连接有进水管(11)，所述进水管(11)的一侧固定连接有冷却水管(13)。
3.根据权利要求2所述的一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，其特征在于，所述冷却水管(13)的外侧固定连接有极靴(15)，所述极靴(15)的外侧固定连接有若干个磁铁块(14)。
4.根据权利要求1所述的一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，其特征在于，所述靶旋转结构(2)的一侧固定连接有第一齿轮(6)。
5.根据权利要求1所述的一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，其特征在于，所述电机(8)一侧固定连接有转轴(9)，所述转轴(9)的一侧固定连接有第二齿轮(10)。
6.根据权利要求2所述的一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，其特征在于，所述进水管(11)与冷却水管(13)之间固定连接有加固片(12)。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202022505954.1U CN214300327U (zh) | 2020-11-03 | 2020-11-03 | 一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202022505954.1U CN214300327U (zh) | 2020-11-03 | 2020-11-03 | 一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN214300327U true CN214300327U (zh) | 2021-09-28 |
Family
ID=77840917
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202022505954.1U Active CN214300327U (zh) | 2020-11-03 | 2020-11-03 | 一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN214300327U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114481072A (zh) * | 2022-02-16 | 2022-05-13 | 青岛科技大学 | 一种旋转式中间预热磁控溅射靶装置 |
-
2020
- 2020-11-03 CN CN202022505954.1U patent/CN214300327U/zh active Active
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114481072A (zh) * | 2022-02-16 | 2022-05-13 | 青岛科技大学 | 一种旋转式中间预热磁控溅射靶装置 |
| CN114481072B (zh) * | 2022-02-16 | 2023-10-13 | 青岛科技大学 | 一种旋转式中间预热磁控溅射靶装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN214300327U (zh) | 一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶 | |
| CN107523855B (zh) | 双阳极电镀装置 | |
| CN108914081A (zh) | 一种磁控溅射镀膜生产线 | |
| CN104109841A (zh) | 磁控溅射倾斜沉积镀膜装置 | |
| CN101126152B (zh) | 柱状磁控溅射器 | |
| CN103839641A (zh) | 一种钕铁硼稀土永磁器件的混合镀膜设备及制造方法 | |
| CN110420586A (zh) | 一种可均匀搅拌且具有升降功能的搅拌桶 | |
| JP4070326B2 (ja) | 非接触撹拌装置 | |
| CN204174270U (zh) | 一种直接水冷的矩形平面靶结构 | |
| CN208632638U (zh) | 一种行星式三级齿轮传动刀片夹具装置 | |
| CN109129921B (zh) | 混凝土料加工设备 | |
| CN103924200B (zh) | 一种薄膜沉积装置 | |
| CN105624611A (zh) | 一种旋转式有机材料蒸发装置 | |
| CN206486586U (zh) | 镀膜机蒸发源系统 | |
| CN204080099U (zh) | 一种真空直流磁控溅镀膜机 | |
| CN216192674U (zh) | 一种两级翻转粉体表面磁控溅射沉积涂层装置 | |
| CN211367711U (zh) | 一种管状磁控溅射源、磁控溅射单元及镀膜系统 | |
| CN209893925U (zh) | 一种永磁同步电机直驱的回转窑 | |
| CN106676491A (zh) | 圆柱面磁控溅射装置 | |
| CN208667834U (zh) | 磁控溅射/微波表面波沉积系统 | |
| CN206706235U (zh) | 一种金刚石表面镀镍装置 | |
| CN204779789U (zh) | 旋转式圆柱形磁控靶 | |
| CN106947950B (zh) | 一种利用率高的靶材系统及其使用方法 | |
| CN205046192U (zh) | 一种新型免维护高效靶材机构 | |
| CN214327867U (zh) | 一种旋转靶镀膜装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CP03 | Change of name, title or address | ||
| CP03 | Change of name, title or address |
Address after: 233500 Jingliu Road, Economic Development Zone, Letu Town, Mengcheng County, Bozhou City, Anhui Province Patentee after: Anhui Fanfeng New Energy Technology Co.,Ltd. Address before: 201507 Room 305, building 2, No. 3877, Tingwei Road, Jinshan Industrial Zone, Jinshan District, Shanghai Patentee before: Shanghai Fanfeng Vacuum Technology Co.,Ltd. |