CN204080099U

CN204080099U - 一种真空直流磁控溅镀膜机

Info

Publication number: CN204080099U
Application number: CN201420428583.3U
Authority: CN
Inventors: 韩建忠
Original assignee: ZHEJIANG LIDU NEW MATERIALS Co Ltd
Current assignee: ZHEJIANG LIDU NEW MATERIALS Co Ltd
Priority date: 2014-08-01
Filing date: 2014-08-01
Publication date: 2015-01-07
Anticipated expiration: 2024-08-01

Abstract

本实用新型公开一种沉积速率快，镀层附着力好，镀层细腻致密，表面光洁度高，且均匀性一致性良好的真空磁控溅镀膜机。一种真空直流磁控溅镀膜机，包括底座、支柱、镀膜室、气动截止阀、质量流量控制器、靶电机、宽量程电离规、气动光栏阀、气动充气阀、高阀、热偶规、油扩散泵、维持阀、维持泵、冷却水控制装置、电机及减速装置、加热电炉、机械泵；所述机械泵设有机械泵进气口、进气滤网、进气管、排气孔、排气阀、转子、弹簧、旋片、工作室、定子；所述镀膜室设有靶电机、补气管、室内加热装置、真空管、转架、衬板、圆柱靶；所述油扩散泵设有油扩散泵进气口、喷嘴、冷却水管、导流管、泵体、加热群、排气口。

Description

一种真空直流磁控溅镀膜机

技术领域

本实用新型涉及一种镀膜机，尤其涉及一种真空直流磁控溅镀膜机。

背景技术

真空镀膜机是全玻璃真空集热管生产中的重要设备之一，而直流磁控溅射镀膜机在目前太阳能行业中使用最为普遍，但因其真空系统阀门多、密封点多，在实际生产过程中能否快速检漏、确定漏点的精确位置，是直接影响膜层结构性能是否优良和生产效率的关键因素。

直流磁控溅射镀膜机应用于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材等行业。

实用新型内容

为解决上述问题，本实用新型提供一种沉积速率快，镀层附着力好，镀层细腻致密，表面光洁度高，且均匀性一致性良好的真空磁控溅镀膜机。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种真空直流磁控溅镀膜机包括底座、支柱、镀膜室、气动截止阀、质量流量控制器、靶电机、宽量程电离规、气动光栏阀、气动充气阀、高阀、热偶规、油扩散泵、维持阀、维持泵、冷却水控制装置、电机及减速装置、加热电炉、机械泵；所述机械泵设有机械泵进气口、进气滤网、进气管、排气孔、排气阀、转子、弹簧、旋片、工作室、定子；所述镀膜室设有靶电机、补气管、室内加热装置、真空管、转架、衬板、圆柱靶；所述油扩散泵设有油扩散泵进气口、喷嘴、冷却水管、导流管、泵体、加热群、排气口。

所述机械泵进气口、排气阀设于机械泵的顶端。

所述进气管周围包裹着进气滤网。

所述机械泵，当转子逆时针转动时，由进气口进入转子与定子之间的部分空间的气体分子将被刮片分割和压缩，直到压强增大到可以顶开出气口的气阀而被排出泵外；随着时间的延续，被抽容器中的压强将逐渐减小。

所述机械泵的抽真空极限为1.33×10^-1Pa，泵轴转速为450r/min，抽气速率为2L/s。

所述喷嘴、导流管设于油扩散泵中央。

所述加热群设于油扩散泵的底端。

所述油扩散泵，利用高速定向运动的油蒸气使气体分子获得定向移动的动能。

所述镀膜室室体采用前开门、立式圆筒形钢板结构，在镀膜室内及顶部中央均安装3个圆柱形磁控旋靶为阴极，圆筒室壁接地为阳极；圆柱靶及镀膜室构成一个同轴圆柱形磁控溅射系统，改善镀膜的质量，提高薄膜的附着力和多层镀膜能力。

所述镀膜室顶部及圆柱靶中心水平安装一个制有“V”形滚珠导轨的固定内齿圈，作为工件架公转盘的支撑轨道；公转盘也是一个内齿圈，直流控制电机减速后通过皮带轮与旋转密封轴相连，旋转密封轴上端的动力小齿轮与公转盘啮合；在公转盘的一个同心轴上，均匀分布着30根自转轴，自转轴下端的小齿轮与固定内齿圈啮合，每根自转轴上端套装一个被镀工件，电机的动力通过旋转密封轴传入真空室；小齿轮转动公转盘转动，并带动自转轴公转，自转轴小齿轮与吃撑轨道的固定内齿圈啮合而做自转运动，且自转转速是公转转速的16倍。

本实用新型的有益效果是：（1）一种真空直流磁控溅射镀膜机，沉积速率快，镀层附着力好，镀层细腻致密，表面光洁度高，且均匀性一致性良好；（2）实现镀膜工艺全自动化控制，装载量大，工作可靠，合格率高，生产成本低，绿色环保。

附图说明

图1为一种真空直流磁控溅镀膜机的结构示意图。

图2为机械泵的结构示意图。

图3为机械泵工作过程示意图。

图4为油扩散泵的结构示意图。

图5为镀膜室的结构示意图。

图6为靶头的结构示意图。

图中，1、底座；2、支柱；3、镀膜室；4、气动截止阀；5、质量流量控制器；6、靶电机；7、宽量程电离规；8、气动光栏阀；9、气动充气阀；10、高阀；11、热偶规；12、油扩散泵；13、维持阀；14、维持泵；15、冷却水控制装置；16、电机及减速装置；17、加热电炉；18、机械泵；19、机械泵进气口；20、进气滤网；21、进气管；22、排气孔；23、排气阀；24、转子；25、弹簧；26、旋片；27、工作室；28、定子；29、油扩散泵进气口；30、喷嘴；31、冷却水管；32、导流管；33、泵体；34、加热群；35、排气口；36、靶电机；37、补气管；38、室内加热装置；39、真空管；40、转架；41、衬板；42、圆柱靶；A、体积。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明。

具体实施例一

请参照图1、图2、图3、图4、图5和图6，一种真空直流磁控溅镀膜机包括底座、支柱、镀膜室、气动截止阀、质量流量控制器、靶电机、宽量程电离规、气动光栏阀、气动充气阀、高阀、热偶规、油扩散泵、维持阀、维持泵、冷却水控制装置、电机及减速装置、加热电炉、机械泵；所述机械泵设有机械泵进气口、进气滤网、进气管、排气孔、排气阀、转子、弹簧、旋片、工作室、定子；所述镀膜室设有靶电机、补气管、室内加热装置、真空管、转架、衬板、圆柱靶；所述油扩散泵设有油扩散泵进气口、喷嘴、冷却水管、导流管、泵体、加热群、排气口。

请参照图1和图2，所述机械泵进气口、排气阀设于机械泵的顶端。

请参照图1和图2，所述进气管周围包裹着进气滤网。

请参照图1、图2和图3，所述机械泵，当转子逆时针转动时，由进气口进入转子与定子之间的部分空间的气体分子将被刮片分割和压缩，直到压强增大到可以顶开出气口的气阀而被排出泵外；随着时间的延续，被抽容器中的压强将逐渐减小。

请参照图1、图2和图3，所述机械泵的抽真空极限为1.33×10^-1Pa，泵轴转速为450r/min，抽气速率为2L/s。

请参照图1和图4，所述喷嘴、导流管设于油扩散泵中央。

请参照图1和图4，所述加热群设于油扩散泵的底端。

请参照图1和图4，所述油扩散泵，利用高速定向运动的油蒸气使气体分子获得定向移动的动能。

请参照图1、图5和图6，所述镀膜室室体采用前开门、立式圆筒形钢板结构，在镀膜室内及顶部中央均安装3个圆柱形磁控旋靶为阴极，圆筒室壁接地为阳极；圆柱靶及镀膜室构成一个同轴圆柱形磁控溅射系统，改善镀膜的质量，提高薄膜的附着力和多层镀膜能力。

请参照图1、图5和图6，所述镀膜室顶部及圆柱靶中心水平安装一个制有“V”形滚珠导轨的固定内齿圈，作为工件架公转盘的支撑轨道；公转盘也是一个内齿圈，直流控制电机减速后通过皮带轮与旋转密封轴相连，旋转密封轴上端的动力小齿轮与公转盘啮合；在公转盘的一个同心轴上，均匀分布着30根自转轴，自转轴下端的小齿轮与固定内齿圈啮合，每根自转轴上端套装一个被镀工件，电机的动力通过旋转密封轴传入真空室；小齿轮转动公转盘转动，并带动自转轴公转，自转轴小齿轮与吃撑轨道的固定内齿圈啮合而做自转运动，且自转转速是公转转速的16倍。

上面结合附图对本实用新型进行了示例性的描述，显然本实用新型的实现并不受上述方式的限制，只要采用了本实用新型技术方案进行的各种改进，或未经改进讲本实用新型的构思和技术方案应用于其他场合的，均在本实用新型的保护范围内。

Claims

1.一种真空直流磁控溅镀膜机，其特征在于：包括底座、支柱、镀膜室、气动截止阀、质量流量控制器、靶电机、宽量程电离规、气动光栏阀、气动充气阀、高阀、热偶规、油扩散泵、维持阀、维持泵、冷却水控制装置、电机及减速装置、加热电炉、机械泵；所述机械泵设有机械泵进气口、进气滤网、进气管、排气孔、排气阀、转子、弹簧、旋片、工作室、定子；所述镀膜室设有靶电机、补气管、室内加热装置、真空管、转架、衬板、圆柱靶；所述油扩散泵设有油扩散泵进气口、喷嘴、冷却水管、导流管、泵体、加热群、排气口；所述机械泵进气口、排气阀设于机械泵的顶端；所述进气管周围包裹着进气滤网；所述机械泵的抽真空极限为1.33×10^-1Pa，泵轴转速为450r/min，抽气速率为2L/s；所述喷嘴、导流管设于油扩散泵中央；所述加热群设于油扩散泵的底端；所述镀膜室室体采用前开门、立式圆筒形钢板结构，在镀膜室内及顶部中央均安装3个圆柱形磁控旋靶为阴极，圆筒室壁接地为阳极；圆柱靶及镀膜室构成一个同轴圆柱形磁控溅射系统。