CN214278644U - 一种抗光凌空全息成像装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种抗光凌空全息成像装置，中央成像模块设置在框架中心，外围光线偏移模块包围中央成像模块且与框架连接；中央成像模块包括第一透明板，第一透明板的一侧设置有高光偏振膜，另一个设置有全息投影膜，高光偏振膜面向外围光线偏移模块的正面，全息投影膜面向外围光线偏移模块的背面；外围光线偏移模块为多个第二透明板，且位于正面和背面的第二透明板设置有减光材料。中央成像模块的外边缘通过框架隐藏，通过透明板的一侧设置有高光偏振膜，另一个设置有全息投影膜实现成像，通过在正面设置减光材料，降低成像空间亮度的同时提高外围透明板的反射光线，通过在背面设置减光材料，控制画面背景亮度。
Description
技术领域
本实用新型涉及全息投影技术领域，更具体的说是涉及一种抗光凌空全息成像装置。
背景技术
全息成像是指将二维的影像以三维的方式展出的一种成型形式。目前，受科技和成本限制，全息成像技术在普及和应用上存在不小的问题，但是因其相对较佳的影像展示效果和视觉冲击效果，其在展会、博物馆等的展览展示上得到使用。常见的全息成像大多需要建立于特定的场所，例如：一透明材质的四棱锥体。使用时，全息图像成型于四棱锥体内，为此其可称为金字塔全息成像装置。
但是，传统的全息成像技术的正面以及侧面不具备抗光能力，容易受到周围光线影响，无法在高照明度的环境中应用。
因此，如何不受周围光线影响，可以在高照明度的环境中使用是本领域技术人员亟需解决的问题。
实用新型内容
有鉴于此，本实用新型提供了一种抗光凌空全息成像装置，中央成像模块的外边缘通过框架隐藏，通过透明板的一侧设置有高光偏振摸，另一个设置有全息投影膜实现成像，通过在正面设置减光材料，降低成像空间亮度的同时提高外围透明板的反射光线，通过在背面设置减光材料，控制画面背景亮度。
为了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：
一种抗光凌空全息成像装置，包括：框架、中央成像模块、外围光线偏移模块；
所述中央成像模块设置在所述框架中心，所述外围光线偏移模块包围所述中央成像模块且与所述框架连接；
所述中央成像模块包括第一透明板，所述第一透明板的一侧设置有高光偏振摸，另一个设置有全息投影膜，所述高光偏振摸面向所述外围光线偏移模块的正面，所述全息投影膜面向所述外围光线偏移模块的背面；
所述外围光线偏移模块为多个第二透明板，且位于正面和背面的所述第二透明板设置有减光材料；
所述中央成像模块与所述外围光线偏移模块的背面之间设置有投影模块，所述投影模块与所述框架连接，所述投影模块的投影方向上设置有镜面反射模块，投影光线经所述镜面反射模块反射至中央成像模块上。
优选的，所述框架包括上底座与下底座，所述上底座与下底座均设置有凹槽，所述外围光线偏移模块的所述第二透明板与所述凹槽的内壁连接，所述中央成像模块与所述凹槽的底面连接。
优选的，所述第一透明板通过连接夹具与所述上底座和下底座的凹槽的底面连接。
优选的，所述全息投影膜的透明度为93％，所述高光偏振膜的透明度为90％。
优选的，所述外围光线偏移模块的正面设置的减光材料的透光率为89％，背面设置的减光材料的透光率为45％。
优选的，所述框架的下底座的凸台上，面向所述外围光线偏移模块的背面设置有光照模块。
优选的，所述减光材料设置在所述外围光线偏移模块的所述第二透明板的内表面。
经由上述的技术方案可知，与现有技术相比，本实用新型公开提供了一种抗光凌空全息成像装置，中央成像模块的外边缘通过框架隐藏，通过透明板的一侧设置有高光偏振摸，另一个设置有全息投影膜实现成像，通过在正面设置减光材料，降低成像空间亮度的同时提高外围透明板的反射光线，通过在背面设置减光材料，控制画面背景亮度。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1附图为本实用新型提供的装置侧视图。
图2附图为本实用新型提供的中央成像模块结构示意图。
图3附图为本实用新型提供的中央成像模块与框架的连接结构示意图。
图4附图为本实用新型提供的外围光纤偏移模块示意图。
其中，1为框架，2为中央成像模块，3为外围光线偏移模块，4为投影模块，5为镜面反射模块，6为光照模块，11为上底座，12为下底座，13为凹槽，21为第一透明板，22为高光偏振膜，23为全息投影膜，24为连接夹具，31为减光材料，32为第二透明板。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型实施例公开了一种抗光凌空全息成像装置，包括：框架1、中央成像模块2、外围光线偏移模块3；
中央成像模块2设置在框架中心，外围光线偏移模块2包围中央成像模块且与框架1连接；
中央成像模块2包括第一透明板21，第一透明板21的一侧设置有高光偏振摸22，另一个设置有全息投影膜23，高光偏振摸面22向外围光线偏移模块3的正面，全息投影膜面23向外围光线偏移模块3的背面；
外围光线偏移模块3为多个第二透明板32，且位于正面和背面的第二透明板32设置有减光材料31；
中央成像模块2与外围光线偏移模块3的背面之间设置有投影模块4，投影模块4与框架1连接，投影模块4的投影方向上设置有镜面反射模块5，投影光线经镜面反射模块5反射至中央成像模块2上。
为进一步优化上述技术方案，框架1包括上底座11与下底座12，上底座11与下底座12均设置有凹槽13，外围光线偏移模块3的第二透明板32与凹槽13的内壁连接，中央成像模块2与凹槽13的底面连接。
为进一步优化上述技术方案，所第一透明板21通过连接夹具24与上底座和下底座的凹槽13的底面连接。
为进一步优化上述技术方案，所全息投影膜23的透明度为93％，高光偏振膜22的透明度为90％。
为进一步优化上述技术方案，所外围光线偏移模块3的正面设置的减光材料的透光率为89％，背面设置的减光材料的透光率为45％。
为进一步优化上述技术方案，所框架1的下底座12的凸台上，面向外围光线偏移模块3的背面设置有光照模块6。
为进一步优化上述技术方案，所减光材料31设置在外围光线偏移模块3的第二透明板32的内表面。
外围光线偏移模块3的两个侧面同样设置有减光材料，减光材料的透光率为45％。
底部设置的投影模块发射光线，经镜面反射模块反射后照射到中央成像模块上，在中央成像模块的中央区域成像，框架遮挡观看者的部分视线，隐藏中央成像模块两端的连接结构，背面使用高透明度(93％)的背投全息反射膜，正面使用90％的高光偏振膜(利用光学衍射降低成像幕的反光和反射)组成成像幕。底部用镜子反射32k的高功率投影成像，投影画面亮度在1500lux，外围光学偏移模块由一圈360度耐力板作为透明结构的基础。正面使用透光率89％的减光材料，利用外围的低透光率降低成像空间亮度的同时提高外围透明板的反射光线。背面通过外围射灯，提高外围膜的侧面反射光，从而加强整体成像空间的视觉体验，降低中央成像幕的可视性。背面表面使用透光率45％的减光材料，控制画面背景亮度。
外围整体利用结构受力件，组成视觉角度的控制，保证凌空成像的效果不会穿帮。顶部由吸收散射材料控制穿过中央成像幕的画面散射光线，通过控制其反射度，人为控制成像区域的光亮度和光衰。底部空间放置投影仪以及镜面反射系统，外部通过物理结构隐藏整个投影以及画面光斑。
本装置的优点在于：中央成像模块的外边缘通过框架隐藏，通过透明板的一侧设置有高光偏振摸，另一个设置有全息投影膜实现成像，通过在正面设置减光材料，降低成像空间亮度的同时提高外围透明板的反射光线，通过在背面设置减光材料，控制画面背景亮度。解决了传统的全息成像技术的正面以及侧面不具备抗光能力，容易受到周围光线影响，无法在高照明度的环境中应用的问题。
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置而言，由于其与实施例公开的方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
Claims (7)
1.一种抗光凌空全息成像装置，其特征在于，包括：框架(1)、中央成像模块(2)、外围光线偏移模块(3)；
所述中央成像模块(2)设置在所述框架中心，所述外围光线偏移模块(3)包围所述中央成像模块且与所述框架(1)连接；
所述中央成像模块(2)包括第一透明板(21)，所述第一透明板(21)的一侧设置有高光偏振膜(22)，另一个设置有全息投影膜(23)，所述高光偏振膜(22)面向所述外围光线偏移模块(3)的正面，所述全息投影膜(23)面向所述外围光线偏移模块(3)的背面；
所述外围光线偏移模块(3)为多个第二透明板(32)，且位于正面和背面的所述第二透明板(32)设置有减光材料(31)；
所述中央成像模块(2)与所述外围光线偏移模块(3)的背面之间设置有投影模块(4)，所述投影模块(4)与所述框架(1)连接，所述投影模块(4)的投影方向上设置有镜面反射模块(5)，投影光线经所述镜面反射模块(5)反射至中央成像模块(2)上。
2.根据权利要求1所述的一种抗光凌空全息成像装置，其特征在于，所述框架(1)包括上底座(11)与下底座(12)，所述上底座(11)与下底座(12)均设置有凹槽(13)，所述外围光线偏移模块(3)的所述第二透明板(32)与所述凹槽(13)的内壁连接，所述中央成像模块(2)与所述凹槽(13)的底面连接。
3.根据权利要求2所述的一种抗光凌空全息成像装置，其特征在于，所述第一透明板(21)通过连接夹具(24)与所述上底座和下底座的凹槽(13) 的底面连接。
4.根据权利要求1所述的一种抗光凌空全息成像装置，其特征在于，所述全息投影膜(23)的透明度为93％，所述高光偏振膜(22)的透明度为90％。
5.根据权利要求1所述的一种抗光凌空全息成像装置，其特征在于，所述外围光线偏移模块(3)的正面设置的减光材料的透光率为89％，背面设置的减光材料的透光率为45％。
6.根据权利要求2所述的一种抗光凌空全息成像装置，其特征在于，所述框架(1)的下底座(12)的凸台上，面向所述外围光线偏移模块(3)的背面设置有光照模块(6)。
7.根据权利要求1所述的一种抗光凌空全息成像装置，其特征在于，所述减光材料(31)设置在所述外围光线偏移模块(3)的所述第二透明板(32)的内表面。
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