CN214238750U - 一种釉料清除装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种釉料清除装置,它包括箱体,所述箱体内的底面上设置有支撑架,所述支撑架的中心设置有支撑轴,所述支撑轴的外部套设有套管,所述套管与支撑轴之间旋转连接,所述套管的顶端连接有转盘,所述转盘上表面的中心设置有凹槽,所述凹槽内旋转的连接有支撑底盘,所述支撑底盘的下表面固定连接在支撑轴的顶端,所述转盘的上表面凹槽的周围设置有摩擦垫,所述套管上靠近底端的位置固定有从动齿轮,所述从动齿轮上啮合连接有主动齿轮,所述主动齿轮设置在电机的输出轴上,所述箱体内支撑底盘的正上方设置有夹持盘,所述夹持盘的上表面通过调节机构A与箱体的顶端面之间进行连接;总的,本实用新型具有结构设计合理、省时省力、工作效率高的优点。
Description
技术领域
本实用新型属于陶瓷生产设备技术领域,具体涉及一种釉料清除装置。
背景技术
在陶瓷产品的生产过程中,需要对坯体上釉,不管是通过机器或手工进行上釉,上釉过程中,陶瓷产品的底面会粘存有釉料,在上釉完成后,需要将对陶瓷产品底面上的釉料去除,否则,存在的釉料在烧结后会粘到炭硅板上,将产品与炭硅板分离时容易出现缺口或断脚的情况;目前,通常采用的是人工除釉的方式,自行用刮板之类的工具进行有效清除,其需占用较多的劳动力、劳动强度大,且生产效率较低;因此,提供一种结构设计合理、省时省力、工作效率高的釉料清除装置是非常必要的。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了克服现有技术的不足,而提供一种结构设计合理、省时省力、工作效率高的釉料清除装置。
本实用新型的目的是这样实现的:一种釉料清除装置,它包括箱体,所述箱体内的底面上设置有支撑架,所述支撑架的中心设置有支撑轴,所述支撑轴的外部套设有套管,所述套管与支撑轴之间旋转连接,所述套管的顶端连接有转盘,所述转盘上表面的中心设置有凹槽,所述凹槽内旋转的连接有支撑底盘,所述支撑底盘的下表面固定连接在支撑轴的顶端,所述转盘的上表面凹槽的周围设置有摩擦垫,所述套管上靠近底端的位置固定有从动齿轮,所述从动齿轮上啮合连接有主动齿轮,所述主动齿轮设置在电机的输出轴上,所述箱体内支撑底盘的正上方设置有夹持盘,所述夹持盘的上表面通过调节机构A与箱体的顶端面之间进行连接。
所述调节机构A包括与箱体顶端面上固定的安装架之间旋转连接的调节螺杆A,所述调节螺杆A与滑动轴中心的螺纹孔A之间通过螺纹进行连接,且所述滑动轴与箱体之间滑动连接,通过手动或电动的方式旋转调节螺杆A,可以推动滑动轴及滑动轴上连接的夹持盘沿调节螺杆A的轴向方向垂直向上或向下移动,以实现对支撑底盘上瓷器的夹紧或松开。
所述滑动轴的外侧面采用正多边形结构,所述箱体顶端面的中心位置处设置有与滑动轴外侧面的截面形状相吻合的通孔,防止滑动轴相对于箱体顶端面之间旋转,保证夹持盘的上下移动。
所述支撑轴的底端通过调节机构B连接在箱体的底面上,通过调节机构B可以对支撑底盘的上表面及转盘的上表面之间的相对高度进行调整,以便于对不同底面形状的瓷器进行余釉清除。
所述调节机构B包括旋转的连接在箱体底面中心位置处的调节螺杆B,所述调节螺杆B的顶端与支撑轴中心的螺纹孔B之间通过螺纹进行连接,所述支撑轴的外侧面上靠近底端的位置处固定有导向板,所述导向板上滑动的连接有导向轴,所述导向轴的底端固定在箱体内的底面上,通过旋转调节螺杆B,可以带动支撑轴及支撑底盘沿支撑轴的轴向方向垂直向上或向下运动,从而达到调整支撑底盘相对于转盘的高度的目的。
所述摩擦垫是由均匀分布在转盘上表面的摩擦条组成,且所述摩擦条的延长线与转盘的旋转中心线相交,在转盘旋转的过程中,摩擦条上任意点的运动方向均与摩擦条本身的轴线方向基本垂直,保证摩擦条对瓷器地面余釉的清除效果。
所述摩擦条包括海绵条及固定在海绵条两侧的弹性橡胶片,所述海绵条及弹性橡胶片的底面与转盘的上表面固定连接,在转盘相对瓷器旋转的过程中,弹性橡胶片可以对瓷器底面的余釉进行刮除,弹性橡胶片之间的海绵条可以对瓷器底面进行擦拭,从而保证余釉清除效果。
所述的支撑底盘的上表面和夹持盘的下表面上分别固定有缓冲垫,对支撑底盘与夹持盘之间固定的瓷器进行保护。
本实用新型的有益效果:
1、本实用新型在使用时,由电机通过齿轮传动带动转盘及摩擦垫相对于固定瓷器的支撑底盘旋转,通过摩擦垫与瓷器底面之间的相对运动对瓷器底面上的余釉进行清除,余釉清除过程中,无需人为的手动翻转瓷器及对瓷器底面的余釉进行手动清除,与现有技术相比,不仅省时省力、工作效率高,而且可大大减少瓷器的磕碰损坏;
2、本实用新型中,摩擦垫是由由均匀分布在转盘上表面的摩擦条组成,且所述摩擦条的延长线与转盘的旋转中心线相交,摩擦条包括海绵条及固定在海绵条两侧的弹性橡胶片,所述海绵条及弹性橡胶片的底面与转盘的上表面固定连接,在转盘相对瓷器旋转的过程中,弹性橡胶片可以对瓷器底面的余釉进行刮除,弹性橡胶片之间的海绵条可以对瓷器底面进行擦拭,其余釉清除效果好;
3、本实用新型通过调剂机构B可以对支撑底盘的上表面及转盘的上表面之间的相对高度进行调整,以便于对不同底面形状的瓷器进行余釉清除,通用性强。
附图说明
图1是本实用新型一种釉料清除装置的结构示意图。
图2是本实用新型一种釉料清除装置中转盘的俯视结构示意图。
图中:1、箱体 2、支撑底盘 3、凹槽 4、转盘 5、支撑轴 6、支撑架 7、主动齿轮 8、套管 9、螺纹孔B 10、调节螺杆B 11、导向轴 12、导向板 13、从动齿轮 14、摩擦垫 15、缓冲垫 16、夹持盘 17、滑动轴 18、通孔 19、螺纹孔A 20、安装架 21、调节螺杆A 22、弹性橡胶片 23、海绵条。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做进一步的说明。
实施例1
如图1和图2所示,一种釉料清除装置,它包括箱体1,所述箱体1内的底面上设置有支撑架6,所述支撑架6的中心设置有支撑轴5,支撑轴5的顶端与支撑底盘2的下表面固定连接,所述箱体1内支撑底盘2的正上方设置有夹持盘16,所述夹持盘16的上表面通过调节机构A与箱体1的顶端面之间进行连接,其使用时,将施釉完成的瓷器放置在支撑底盘2上,并通过调节机构A调整夹持盘16相对于支撑底盘2的位置,从而将瓷器夹紧;所述支撑轴5的外部套设有套管8,所述套管8与支撑轴5之间旋转连接,所述套管8的顶端连接有转盘4,所述转盘4上表面的中心设置有凹槽3,所述支撑底盘2设置在凹槽3内且转盘4与支撑底盘2之间旋转连接,所述套管8上靠近底端的位置固定有从动齿轮13,所述从动齿轮13上啮合连接有主动齿轮7,所述主动齿轮7设置在电机的输出轴上,电机通过齿轮传动可以带动支撑轴5外部的套管8及转盘4相对于支撑底盘2旋转,所述转盘4的上表面凹槽3的周围设置有摩擦垫14,在转盘4相对于支撑底盘2旋转的过程中,转盘4上表面的摩擦垫14与瓷器的底面不断相对运动,通过摩擦垫14可以将瓷器底面上的余釉清除;本实用新型无需人为的手动翻转瓷器以对瓷器底面的余釉进行清除,省时省力、大大提高了工作效率。
实施例2
如图1和图2所示,一种釉料清除装置,它包括箱体1,所述箱体1内的底面上设置有支撑架6,所述支撑架6的中心设置有支撑轴5,支撑轴5的顶端与支撑底盘2的下表面固定连接,所述箱体1内支撑底盘2的正上方设置有夹持盘16,所述夹持盘16的上表面通过调节机构A与箱体1的顶端面之间进行连接,所述调节机构A包括与箱体1顶端面上固定的安装架20之间旋转连接的调节螺杆A21,所述调节螺杆A21与滑动轴17中心的螺纹孔A19之间通过螺纹进行连接,所述滑动轴17的外侧面采用正多边形结构,所述箱体1顶端面的中心位置处设置有与滑动轴17外侧面的截面形状相吻合的通孔18,所述滑动轴17与通孔18之间滑动连接,在使用时,将施釉完成的瓷器放置在支撑底盘2上,通过手动或电动的方式旋转调节螺杆A21,可以推动滑动轴17及滑动轴17上连接的夹持盘16沿调节螺杆A21的轴向方向垂直向上或向下移动,以实现对支撑底盘2上瓷器的夹紧或松开;所述的支撑底盘2的上表面和夹持盘16的下表面上分别固定有缓冲垫15,对支撑底盘2与夹持盘16之间固定的瓷器进行保护;所述支撑轴5的外部套设有套管8,所述套管8与支撑轴5之间旋转连接,所述套管8的顶端连接有转盘4,所述转盘4上表面的中心设置有凹槽3,所述支撑底盘2设置在凹槽3内且转盘4与支撑底盘2之间旋转连接,所述套管8上靠近底端的位置固定有从动齿轮13,所述从动齿轮13上啮合连接有主动齿轮7,所述主动齿轮7设置在电机的输出轴上,电机通过齿轮传动可以带动支撑轴5外部的套管8及转盘4相对于支撑底盘2旋转,所述转盘4的上表面凹槽3的周围设置有摩擦垫14,在转盘4相对于支撑底盘2旋转的过程中,转盘4上表面的摩擦垫14与瓷器的底面不断相对运动,通过摩擦垫14可以将瓷器底面上的余釉清除;所述摩擦垫15是由均匀分布在转盘4上表面的摩擦条组成,且所述摩擦条的延长线与转盘4的旋转中心线相交,在转盘4旋转的过程中,摩擦条上任意点的运动方向均与摩擦条本身的轴线方向基本垂直,保证摩擦条对瓷器地面余釉的清除效果;所述摩擦条包括海绵条23及固定在海绵条23两侧的弹性橡胶片22,所述海绵条23及弹性橡胶片22的底面与转盘4的上表面固定连接,在转盘4相对瓷器旋转的过程中,弹性橡胶片22可以对瓷器底面的余釉进行刮除,弹性橡胶片22之间的海绵条23可以对瓷器底面进行擦拭,从而保证余釉清除效果;所述支撑轴5的底端通过调节机构B连接在箱体1的底面上,所述调节机构B包括旋转的连接在箱体1底面中心位置处的调节螺杆B10,所述调节螺杆B10的顶端与支撑轴中心的螺纹孔B9之间通过螺纹进行连接,所述支撑轴5的外侧面上靠近底端的位置处固定有导向板12,所述导向板12上滑动的连接有导向轴11,所述导向轴11的底端固定在箱体1内的底面上,通过旋转调节螺杆B,可以带动支撑轴及支撑底盘沿支撑轴的轴向方向垂直向上或向下运动,以对支撑底盘3的上表面及转盘4的上表面之间的相对高度进行调整,以便于对不同底面形状的瓷器进行余釉清除;本实用新型无需人为的手动翻转瓷器以对瓷器底面的余釉进行清除,省时省力、大大提高了工作效率。
Claims (8)
1.一种釉料清除装置,它包括箱体,其特征在于:所述箱体内的底面上设置有支撑架,所述支撑架的中心设置有支撑轴,所述支撑轴的外部套设有套管,所述套管与支撑轴之间旋转连接,所述套管的顶端连接有转盘,所述转盘上表面的中心设置有凹槽,所述凹槽内旋转的连接有支撑底盘,所述支撑底盘的下表面固定连接在支撑轴的顶端,所述转盘的上表面凹槽的周围设置有摩擦垫,所述套管上靠近底端的位置固定有从动齿轮,所述从动齿轮上啮合连接有主动齿轮,所述主动齿轮设置在电机的输出轴上,所述箱体内支撑底盘的正上方设置有夹持盘,所述夹持盘的上表面通过调节机构A与箱体的顶端面之间进行连接。
2.根据权利要求1所述的釉料清除装置,其特征在于:所述调节机构A包括与箱体顶端面上固定的安装架之间旋转连接的调节螺杆A,所述调节螺杆A与滑动轴中心的螺纹孔A之间通过螺纹进行连接,且所述滑动轴与箱体之间滑动连接。
3.根据权利要求2所述的釉料清除装置,其特征在于:所述滑动轴的外侧面采用正多边形结构,所述箱体顶端面的中心位置处设置有与滑动轴外侧面的截面形状相吻合的通孔。
4.根据权利要求1所述的釉料清除装置,其特征在于:所述支撑轴的底端通过调节机构B连接在箱体的底面上。
5.根据权利要求4所述的釉料清除装置,其特征在于:所述调节机构B包括旋转的连接在箱体底面中心位置处的调节螺杆B,所述调节螺杆B的顶端与支撑轴中心的螺纹孔B之间通过螺纹进行连接,所述支撑轴的外侧面上靠近底端的位置处固定有导向板,所述导向板上滑动的连接有导向轴,所述导向轴的底端固定在箱体内的底面上。
6.根据权利要求1所述的釉料清除装置,其特征在于:所述摩擦垫是由均匀分布在转盘上表面的摩擦条组成,且所述摩擦条的延长线与转盘的旋转中心线相交。
7.根据权利要求6所述的釉料清除装置,其特征在于:所述摩擦条包括海绵条及固定在海绵条两侧的弹性橡胶片,所述海绵条及弹性橡胶片的底面与转盘的上表面固定连接。
8.根据权利要求1所述的釉料清除装置,其特征在于:所述的支撑底盘的上表面和夹持盘的下表面上分别固定有缓冲垫。
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