CN214203638U - 镀膜载板 - Google Patents

Abstract

本申请实施例中提供了一种镀膜载板，属于太阳能电池加工夹具的技术领域，至少部分解决现有技术中存在的硅片在加工时与载板接触面积过大，致使太阳能电池量产效率较低的问题。包括载板本体，所述载板本体上设有用于放置硅片的凹槽，所述凹槽内安装有用于支撑所述硅片的支撑部，所述支撑部与硅片的接触面积小于所述硅片的面积。通过本申请的处理方案，提高了太阳能电池中硅片的加工率。

Description

镀膜载板

技术领域

本申请涉及太阳能电池硅片夹具的技术领域，尤其涉及一种镀膜载板。

背景技术

硅基太阳能电池经历了两个阶段：以晶体硅和多晶硅为代表的第一代太阳能电池和以非晶硅薄膜为代表的第二代太阳能电池。然而，传统的基于同质PN结(P是positive的缩写，N是negative的缩写，表明正荷子与负荷子起作用的特点)技术的硅基太阳能电池存在效率低、产品光衰严重等问题，异质结电池及其技术为解决上述问题应运而生。其特点是低温制造工艺：异质结电池所有制程的加工温度均低于250℃，避免了生产效率低而成本高的高温扩散制结的过程，而且低温工艺使得a-Si薄膜的光学带隙、沉积速率、吸收系数以及氢含量得到较精确的控制，也可避免因高温导致的热应力等不良影响。

相比传统太阳能电池，异质结电池工艺流程大大简化(见图1异质结电池工艺流程)，但对工艺的要求却更为严苛，如洁净度、真空度、温度控制、镀膜质量等，比现有的电池技术要求都要高一个量级。

现有技术的缺陷是：异质结电池结构的本质特征是钝化使电池获得一个良好的界面，从而避免载流子的复合，而钝化效果直接反映在少子寿命上，因此降低界面缺陷态密度，提高本征非晶硅薄层钝化后硅片少子寿命的工序是制备高效太阳能电池的前提和关键。由于非晶硅薄膜生长对表面质量要求很高，对清洗后的硅片而言，任何的物理接触均会对少子寿命产生不良影响，如何在镀膜前后保证硅片的表面洁净程度成为异质结电池制程的关键技术，硅片整面跟载板物理接触造成的不良影响无法消除，影响太阳能电池的使用效率，并且在载板上进行凹槽的设置成本较大。

发明内容

有鉴于此，本申请实施例提供一种镀膜载板，至少部分解决现有技术中存在的硅片在加工时与载板接触面积过大，致使太阳能电池量产效率较低的问题。

本实用新型提供一种镀膜载板，包括载板本体和支撑件，所述载板本体中开设有用于放置硅片的凹槽，所述载板本体邻近所述凹槽的边缘为用于支撑所述硅片的支撑部，所述支撑件活动设置于所述凹槽内且至少部分位于所述支撑部上方，所述支撑部和所述支撑件与硅片的接触面积小于所述硅片的面积。

在一个优选或可选的实施方式中，所述支撑部与所述支撑件结合为台阶状。

在一个优选或可选的实施方式中，在所述载板本体邻近所述凹槽的区域沿所述凹槽的边缘开设有条状的容置槽，所述支撑件在与所述支撑部接触的端部为条状搭扣，所述搭扣能置入所述容置槽以使得所述支撑件与所述支撑部连接。

在一个优选或可选的实施方式中，所述容置槽在靠近所述凹槽的内槽壁下沿形成卡槽，所述搭扣的下部形成突部，所述卡槽与所述突部的形状相适配，以使得所述支撑件与所述支撑部卡合。

在一个优选或可选的实施方式中，所述支撑件采用高纯材料制成，所述高纯材料包括石墨、玻璃、石英、陶瓷中的至少一种。

在一个优选或可选的实施方式中，所述支撑部至少沿所述凹槽的两个边设置，和/或，每个所述支撑部的长度尺寸与其所在所述凹槽的边长相同。

在一个优选或可选的实施方式中，所述支撑件的高度与所述凹槽的深度相同。

在一个优选或可选的实施方式中，所述凹槽所在区域的底部设置有多个渗流孔，所述渗流孔以对称的方式设置。

在一个优选或可选的实施方式中，每一所述凹槽所在区域的所述渗流孔的数量为6个，所述渗流孔在所述凹槽内均匀分布。

在一个优选或可选的实施方式中，所述凹槽以四边形倒角的形状设置。

有益效果

该镀膜载板通过在载板本体上设置凹槽，并在凹槽内以可拆卸的方式安装有支撑部，支撑架在硅片的加工时能够制成硅片，减小硅片与载板的面积接触，提高硅片加工成品的效率，提高加工的灵活性，便于实际加工时的安装。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为现有技术中异质结太阳能电池的工艺流程的示意图；

图2为实用新型实施例中镀膜载板开设凹槽的俯视图；

图3为本实用新型实施例中镀膜载板中台阶结构支撑的示意图；

图4为本实用新型实施例中镀膜载板中台阶结构支撑以可拆卸方式设置的示意图；

其中：

1、载板本体；11、凹槽；111、渗流孔；12、支撑部；22、支撑件；13安装槽；12；凸起；121、卡槽；221、卡合部。

具体实施方式

下面结合附图对本申请实施例进行详细描述。

以下通过特定的具体实例说明本申请的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本申请的其他优点与功效。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。本申请还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本申请的精神下进行各种修饰或改变。需说明的是，在不冲突的情况下，以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

要说明的是，下文描述在所附权利要求书的范围内的实施例的各种方面。应显而易见，本文中所描述的方面可体现于广泛多种形式中，且本文中所描述的任何特定结构及/或功能仅为说明性的。基于本申请，所属领域的技术人员应了解，本文中所描述的一个方面可与任何其它方面独立地实施，且可以各种方式组合这些方面中的两者或两者以上。举例来说，可使用本文中所阐述的任何数目个方面来实施设备及/或实践方法。另外，可使用除了本文中所阐述的方面中的一或多者之外的其它结构及/或功能性实施此设备及/或实践此方法。

还需要说明的是，以下实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本申请的基本构想，图式中仅显示与本申请中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。

另外，在以下描述中，提供具体细节是为了便于透彻理解实例。然而，所属领域的技术人员将理解，可在没有这些特定细节的情况下实践所述方面。

本实用新型提供一种镀膜载板，如图1所示，所述载板本体1上设有用于放置硅片的凹槽11，所述凹槽11内安装有用于支撑所述硅片的支撑部12，所述支撑部12与硅片的接触面积小于所述硅片的面积。通过采用上述技术方案，电池片进入凹槽11后，支撑部12与电池片的边缘接触，支撑部12的一部分不在电池片下方，进一步减少载板接触到电池片底壁的面积，从而改善电池片容易受到沾污的问题，同时也减少载板对电池片的摩擦，从而改善电池片的线痕容易加重的问题，提高电池的效率。载板只跟硅片边缘小面积接触，减少硅片与载板的物理接触面积，但该方案在量产中需要重新定制石墨载板，阶梯型凹槽石墨制作周期长，成品率低、更换成本较高。

作为实用新型所提供的具体实施方式，如图3所示，所述镀膜载板还包括支撑件22，所述支撑部12设置于所述载板本体1或支撑件22上，所述支撑件22设置于所述凹槽11内。

通过采用上述技术方案，减少与电池片底壁接触的棱边和棱角，从而减少支撑块对电池片的摩擦，改善电池片的线痕容易加重的问题，提高电池的效率。支撑件22，例如，台阶结构工装夹具，该工装夹具可配合现有载板组装成阶梯型凹槽，减少硅片与载板的物理接触。

作为实用新型所提供的具体实施方式，所述支撑部12设置于所述载板本体1上，所述支撑部12与所述载板本体1形成台阶状。

作为实用新型所提供的具体实施方式，所述支撑部12设置于所述支撑件22上，所述支撑部12与所述支撑件22形成台阶状。

作为实用新型所提供的具体实施方式，所述支撑部12至少沿所述凹槽11的两个边设置，和/或，每个所述支撑部12的长度尺寸与其所在凹槽11的边长相同。

作为实用新型所提供的具体实施方式，所述凹槽11所围成的区域为圆形。

作为实用新型所提供的具体实施方式，所述凹槽11区域的底部设置有多个渗流孔111。

作为实用新型所提供的具体实施方式，所述渗流孔111以对称的方式设置。

作为实用新型所提供的具体实施方式，所述渗流孔111的数量为6个。

作为实用新型所提供的具体实施方式，所述凹槽11以四边形结构设置。通过采用上述技术方案，支撑板上方存在未倾斜的凹槽11内壁，这部分竖直的内壁可以对电池片形成限位，减少电池片沿倾斜面滑出凹槽11的情况，提高电池片在凹槽11中的稳定性。

将原石墨载板上的凹槽处放置定制好的本工装夹具，材料可选用高纯陶瓷材料，为阶梯型框架，安装前后见下图：

图2为原石墨载板，中间填充部分为凹槽，深度为0.1-10mm，凹槽尺寸为硅片尺寸158-160mm；量产为多个该凹槽的阵列结构，图2为示意图；将清洗后的洁净硅片放置在凹槽内，洁净硅片底部接触石墨载板，在制程中硅片与整个石墨载板凹槽，承载硅片区域物理接触，会带来接触污染，降低少子寿命，进而影响光电转换效率。

图3为在原石墨载板上加装本实用新型的支撑部或支撑件，组装后制程中硅片与区域安装支撑件后，夹具接触硅片物理接触，接触面积大幅度降低，且接触的硅片边缘在工序也会有部分遮挡，最大幅度降低了物理接触对少子寿命的不良影响，进而提高异质结电池的光电转换效率。

如图4所示，近邻凹槽11位置在载板本体1上开设安装槽13，并在竖直方向上形成与凹槽11相邻的凸起12，凸起12背向凹槽11的一侧设置卡槽121。支撑件22一端以台阶结构设置，另一端设置有弧形结构卡合部221，卡合部221与卡槽121能够卡合，将支撑件22安装在安装槽13内。

以上所述，仅为本申请的具体实施方式，但本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此，本申请的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种镀膜载板，其特征在于，包括载板本体和支撑件，所述载板本体中开设有用于放置硅片的凹槽，所述载板本体邻近所述凹槽的边缘为用于支撑所述硅片的支撑部，所述支撑件活动设置于所述凹槽内且至少部分位于所述支撑部上方，所述支撑部和所述支撑件与硅片的接触面积小于所述硅片的面积。

2.根据权利要求1所述的镀膜载板，其特征在于，所述支撑部与所述支撑件结合为台阶状。

3.根据权利要求1所述的镀膜载板，其特征在于，在所述载板本体邻近所述凹槽的区域沿所述凹槽的边缘开设有条状的容置槽，所述支撑件在与所述支撑部接触的端部为条状搭扣，所述搭扣能置入所述容置槽以使得所述支撑件与所述支撑部连接。

4.根据权利要求3所述的镀膜载板，其特征在于，所述容置槽在靠近所述凹槽的内槽壁下沿形成卡槽，所述搭扣的下部形成突部，所述卡槽与所述突部的形状相适配，以使得所述支撑件与所述支撑部卡合。

5.根据权利要求1所述的镀膜载板，其特征在于，所述支撑件采用高纯材料制成，所述高纯材料包括石墨、玻璃、石英、陶瓷中的至少一种。

6.根据权利要求1-5任一项所述的镀膜载板，其特征在于，所述支撑部至少沿所述凹槽的两个边设置，和/或，每个所述支撑部的长度尺寸与其所在所述凹槽的边长相同。

7.根据权利要求1-5任一项所述的镀膜载板，其特征在于，所述支撑件的高度与所述凹槽的深度相同。

8.根据权利要求1-5任一项所述的镀膜载板，其特征在于，所述凹槽所在区域的底部设置有多个渗流孔，所述渗流孔以对称的方式设置。

9.根据权利要求8所述的镀膜载板，其特征在于，每一所述凹槽所在区域的所述渗流孔的数量为6个，所述渗流孔在所述凹槽内均匀分布。

10.根据权利要求1-5任一项所述的镀膜载板，其特征在于，所述凹槽以四边形倒角的形状设置。

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