CN214193458U - 一种用于半导体的化学退镀液收集装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种用于半导体的化学退镀液收集装置，包括箱体，所述箱体顶部一体成型有进液口，所述进液口外壁固定连接有进液管，所述进液管一端安装有两通接头，所述进液管外壁安装有第一截止阀，所述两通接头一侧安装有泵体，所述泵体的输入端安装有橡胶软管，所述橡胶软管端部安装有陶瓷配重块，所述箱体内腔顶部固定连接有隔板，所述进液管末端贯穿隔板，所述隔板表面边缘处对称开设有通孔，所述箱体底部中心处安装有排液管，所述箱体内腔底部环设有弧形板。本实用新型通过退镀液面上升至进液口处时，同时在隔板边缘处设置通孔，可保持隔板下方空腔气压的平衡，通过隔板可有效的阻挡退镀液飞溅，避免对工作人员造成伤害。

Description

一种用于半导体的化学退镀液收集装置

技术领域

本实用新型涉及化工技术领域，具体为一种用于半导体的化学退镀液收集装置。

背景技术

化工是“化学工艺”、“化学工业”、“化学工程”等的简称。凡运用化学方法改变物质组成、结构或合成新物质的技术，都属于化学生产技术，也就是化学工艺，所得产品被称为化学品或化工产品。

退镀液，就是能够将各种镀在工件表面上的一层特殊金属或金属物质镀层，通过浸泡、加温、超声波、电解等方式有效去除，而对工件底材无溶解、无腐蚀、不变色的化学液体。

现有的用于半导体的化学退镀液收集装置主要存在以下缺点：

现有的半导体的化学退镀液收集装置在使用时，收集的退镀液容易飞溅，容易对工作人员造成伤害，同时在收集退镀液时，需要人工手持收集管，操作十分的不方便。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于半导体的化学退镀液收集装置，避免在退镀液收集时飞溅，以解决上述背景技术中提出的问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供如下技术方案：一种用于半导体的化学退镀液收集装置，包括箱体，所述箱体顶部一体成型有进液口，所述进液口外壁固定连接有进液管，所述进液管一端安装有两通接头，所述进液管外壁安装有第一截止阀，所述两通接头一侧安装有泵体，所述泵体的输入端安装有橡胶软管，所述橡胶软管端部安装有陶瓷配重块，所述箱体内腔顶部固定连接有隔板，所述进液管末端贯穿隔板，所述隔板表面边缘处对称开设有通孔，所述箱体底部中心处安装有排液管，所述箱体内腔底部环设有弧形板。

进一步的，所述箱体外壁镶嵌有观察窗，且所述观察窗表面设有刻度，通过设置观察窗，方便贯穿箱体内侧退镀液注入量。

进一步的，所述泵体的输出端与两通接头导通连接，所述陶瓷配重块呈环形结构设置，通过陶瓷配重块中空部分与橡胶软管端头处导通连接，有利于橡胶软管对退镀液进行抽取。

进一步的，所述进液口顶端可拆卸连接有盖板，所述盖板下表面环设有凸台，所述凸台外壁镶嵌有密封胶圈，通过凸台与进液口顶端相嵌合，并通过密封胶圈与进液口顶口内壁相贴合，有利于提高盖板与进液口处的密封效果，防止杂质进入到箱体内侧。

进一步的，所述箱体下方安装有底板，所述底板下方对称安装有万向轮，方便对箱体移动，降低了搬运时的劳动强度。

进一步的，所述排液管贯穿底板，且排液管末端凸出于底板边缘处，所述排液管末端安装有第二截止阀，通过打开第二截止阀、方便将箱体内部收集的退镀液排出。

与现有技术相比，本实用新型所达到的有益效果是：

1、本实用新型通过将陶瓷配重块放置在退镀槽中，在重力的作用下，陶瓷配重块会沉入至退镀槽底部，不需要人工手持橡胶软管，方便对退镀液收集，通过泵体接通电源后，利用橡胶软管将退镀槽中的退镀液抽入至进液管中，然后通过进液管将退镀液输送至箱体中，通过箱体内腔顶部设置有隔板，而且进液管末端贯穿隔板，当退镀液面上升至进液口处时，同时在隔板边缘处设置通孔，可保持隔板下方空腔气压的平衡，通过隔板可有效的阻挡退镀液飞溅，避免对工作人员造成伤害。

2、本实用新型通过排液管贯穿底板，且排液管末端凸出于底板边缘处，并通过箱体内腔底部环设有弧形板，对箱体内部的退镀液起到很好的导流作用，可有效的防止退镀液残留在箱体内部，通过打开第二截止阀、方便将箱体内部收集的退镀液排出。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1是本实用新型的整体结构示意图；

图2是本实用新型的箱体内部结构示意图；

图3是本实用新型的盖板剖面结构示意图；

图中：1、箱体；101、进液口；102、观察窗；2、进液管；201、两通接头；202、第一截止阀；3、泵体；301、橡胶软管；302、陶瓷配重块；4、盖板；401、凸台；402、密封胶圈；5、底板；501、万向轮；6、隔板；601、通孔；7、排液管；701、弧形板；702、第二截止阀。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-3，本实用新型提供技术方案：一种用于半导体的化学退镀液收集装置，包括箱体1，所述箱体1顶部一体成型有进液口101，所述进液口101外壁固定连接有进液管2，所述进液管2一端安装有两通接头201，所述进液管2外壁安装有第一截止阀202，所述两通接头201一侧安装有泵体3，所述泵体3的输入端安装有橡胶软管301，所述橡胶软管301端部安装有陶瓷配重块302，所述箱体1内腔顶部固定连接有隔板6，所述进液管2末端贯穿隔板6，所述隔板6表面边缘处对称开设有通孔601，所述箱体1底部中心处安装有排液管7，所述箱体1内腔底部环设有弧形板701。

通过将陶瓷配重块302放置在退镀槽中，在重力的作用下，陶瓷配重块302会沉入至退镀槽底部，不需要人工手持橡胶软管301，方便对退镀液收集，通过泵体3接通电源后，利用橡胶软管301将退镀槽中的退镀液抽入至进液管2中，然后通过进液管2将退镀液输送至箱体1中，通过箱体1内腔顶部设置有隔板6，而且进液管2末端贯穿隔板6，当退镀液面上升至进液口101处时，同时在隔板6边缘处设置通孔601，可保持隔板6下方空腔气压的平衡，通过隔板6可有效的阻挡退镀液飞溅，避免对工作人员造成伤害。

进一步的，所述箱体1外壁镶嵌有观察窗102，且所述观察窗102表面设有刻度，通过设置观察窗102，方便贯穿箱体1内侧退镀液注入量。

进一步的，所述泵体3的输出端与两通接头201导通连接，所述陶瓷配重块302呈环形结构设置，通过陶瓷配重块302中空部分与橡胶软管301端头处导通连接，有利于橡胶软管301对退镀液进行抽取。

进一步的，所述进液口101顶端可拆卸连接有盖板4，所述盖板4下表面环设有凸台401，所述凸台401外壁镶嵌有密封胶圈402，通过凸台401与进液口101顶端相嵌合，并通过密封胶圈402与进液口101顶口内壁相贴合，有利于提高盖板4与进液口101处的密封效果，防止杂质进入到箱体1内侧。

进一步的，所述箱体1下方安装有底板5，所述底板5下方对称安装有万向轮501，方便对箱体1移动，降低了搬运时的劳动强度。

进一步的，所述排液管7贯穿底板5，且排液管7末端凸出于底板5边缘处，所述排液管7末端安装有第二截止阀702，通过打开第二截止阀702、方便将箱体1内部收集的退镀液排出。

本实用新型的工作原理：通过将陶瓷配重块302放置在退镀槽中，在重力的作用下，陶瓷配重块302会沉入至退镀槽底部，不需要人工手持橡胶软管301，方便对退镀液收集，通过泵体3接通电源后，利用橡胶软管301将退镀槽中的退镀液抽入至进液管2中，然后通过进液管2将退镀液输送至箱体1中，通过箱体1内腔顶部设置有隔板6，而且进液管2末端贯穿隔板6，当退镀液面上升至进液口101处时，同时在隔板6边缘处设置通孔601，可保持隔板6下方空腔气压的平衡，通过隔板6可有效的阻挡退镀液飞溅，避免对工作人员造成伤害，箱体1外壁镶嵌有观察窗102，且观察窗102表面设有刻度，通过设置观察窗102，方便贯穿箱体1内侧退镀液注入量，泵体3的输出端与两通接头201导通连接，陶瓷配重块302呈环形结构设置，通过陶瓷配重块302中空部分与橡胶软管301端头处导通连接，有利于橡胶软管301对退镀液进行抽取，进液口101顶端可拆卸连接有盖板4，盖板4下表面环设有凸台401，凸台401外壁镶嵌有密封胶圈402，通过凸台401与进液口101顶端相嵌合，并通过密封胶圈402与进液口101顶口内壁相贴合，有利于提高盖板4与进液口101处的密封效果，防止杂质进入到箱体1内侧，箱体1下方安装有底板5，底板5下方对称安装有万向轮501，方便对箱体1移动，降低了搬运时的劳动强度，排液管7贯穿底板5，且排液管7末端凸出于底板5边缘处，排液管7末端安装有第二截止阀702，通过打开第二截止阀702、方便将箱体1内部收集的退镀液排出。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种用于半导体的化学退镀液收集装置，其特征在于：包括箱体（1），所述箱体（1）顶部一体成型有进液口（101），所述进液口（101）外壁固定连接有进液管（2），所述进液管（2）一端安装有两通接头（201），所述进液管（2）外壁安装有第一截止阀（202），所述两通接头（201）一侧安装有泵体（3），所述泵体（3）的输入端安装有橡胶软管（301），所述橡胶软管（301）端部安装有陶瓷配重块（302），所述箱体（1）内腔顶部固定连接有隔板（6），所述进液管（2）末端贯穿隔板（6），所述隔板（6）表面边缘处对称开设有通孔（601），所述箱体（1）底部中心处安装有排液管（7），所述箱体（1）内腔底部环设有弧形板（701）。

2.根据权利要求1所述的一种用于半导体的化学退镀液收集装置，其特征在于：所述箱体（1）外壁镶嵌有观察窗（102），且所述观察窗（102）表面设有刻度。

3.根据权利要求1所述的一种用于半导体的化学退镀液收集装置，其特征在于：所述泵体（3）的输出端与两通接头（201）导通连接，所述陶瓷配重块（302）呈环形结构设置。

4.根据权利要求1所述的一种用于半导体的化学退镀液收集装置，其特征在于：所述进液口（101）顶端可拆卸连接有盖板（4），所述盖板（4）下表面环设有凸台（401），所述凸台（401）外壁镶嵌有密封胶圈（402）。

5.根据权利要求1所述的一种用于半导体的化学退镀液收集装置，其特征在于：所述箱体（1）下方安装有底板（5），所述底板（5）下方对称安装有万向轮（501）。

6.根据权利要求5所述的一种用于半导体的化学退镀液收集装置，其特征在于：所述排液管（7）贯穿底板（5），且排液管（7）末端凸出于底板（5）边缘处，所述排液管（7）末端安装有第二截止阀（702）。

Images