CN214161744U - 一种激光光路与成像光路同轴独立调焦设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及激光加工技术领域,尤其涉及一种激光光路与成像光路同轴独立调焦设备,包括安装底板、调焦装置、聚焦镜头、45°反射成像镜片、工业相机、变倍镜头、激光光束和样品,所述调焦装置固定连接在安装底板正面的一侧,所述聚焦镜头设在调焦装置的底部,所述45°反射成像镜片设在聚焦镜头的底部,所述45°反射成像镜片由45°反射镜片和成像镜片组成。本实用新型激光光束通过高度调节装置上下移动聚焦镜头,激光光束透过45°反射成像镜片中的45°反射镜片后辐射到样品上,样品同时在成像光源的照明下,其反射光经过45°反射镜片,经过成像镜片后聚焦到工业相机,形成图像后供使用者实时观察激光辐射对样品产生的效果。
Description
技术领域
本实用新型涉及激光加工技术领域,具体为一种激光光路与成像光路同轴独立调焦设备。
背景技术
在利用脉冲激光制备材料表面的功能性结构过程中,激光会在极短的时间内辐射到材料表面,以引起材料表面发生气化、烧蚀、熔化和氧化等多种热力学过程。因此,系统地研究激光与物质相互作用过程中的瞬态变化,对于提高光电子和微电子器件的制造工艺水平具有非常重要的意义。
利用成像技术记录激光作用到材料表面所引起材料形貌学的变化是一种有效的方法,它可以在纳米精度的时间范围内直接观察高能激光在辐射到材料后所引起材料表面形貌学的瞬态演变过程,然而,现在成像系统不利于对激光光束的观察需要,为此,设计了一种激光光路与成像光路同轴独立调焦设备。
实用新型内容
针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种激光光路与成像光路同轴独立调焦设备,具备便于使用的优点,解决了现在成像系统不利于对激光光束的观察需要的问题。
为解决上述的技术问题,本实用新型提供如下技术方案:一种激光光路与成像光路同轴独立调焦设备,包括安装底板、调焦装置、聚焦镜头、45°反射成像镜片、工业相机、变倍镜头、激光光束和样品,所述调焦装置固定连接在安装底板正面的一侧,所述聚焦镜头设在调焦装置的底部,所述45°反射成像镜片设在聚焦镜头的底部,所述45°反射成像镜片由45°反射镜片和成像镜片组成,所述工业相机固定连接在安装底板正面的底部,所述变倍镜头转动连接在工业相机的输出端,所述样品设在45°反射成像镜片的底部,所述激光光束穿过聚焦镜头和45°反射成像镜片辐射到样品11上并在样品11上形成激光聚焦平面。
进一步地,所述调焦装置的一侧固定连接有高度调节装置,所述高度调节装置的输出端固定连接有支撑台,所述聚焦镜头固定连接在支撑台的中部。
进一步地,所述安装底板正面一侧的中部固定连接有调节架,所述45°反射成像镜片固定连接在调节架的侧面。
进一步地,所述安装底板正面底部的中部固定连接有固定座,所述工业相机固定连接在固定座的内部。
进一步地,所述安装底板底部的一侧固定连接有竖板,所述竖板正面的底部固定连接有支撑板,所述样品放置在支撑板的顶部。
进一步地,所述安装底板的一侧设有成像光源,所述成像光源与样品的位置相对应。
借由上述技术方案,本实用新型提供了一种激光光路与成像光路同轴独立调焦设备,至少具备以下有益效果:
1、该激光光路与成像光路同轴独立调焦设备,激光光束通过高度调节装置上下移动聚焦镜头,激光光束透过45°反射成像镜片中的45°反射镜片后辐射到样品上,样品同时在成像光源的照明下,其反射光经过45°反射镜片,经过成像镜片后聚焦到工业相机,形成图像后供使用者实时观察激光辐射对样品产生的效果。
2、该激光光路与成像光路同轴独立调焦设备,通过高度调节装置可调节聚焦镜头的高度可以独立优化激光光斑大小,但不影响样品的成像清晰度,样品在外部成像光源照射下产生的反射光,经过45°反射镜片后进入成像镜片,调节架可调节反射光进入成像镜片的位置和角度,从而优化工业相机对样品的成像效果。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解,构成本申请的一部分:
图1为本实用新型结构立体图;
图2为本实用新型结构正视图。
图中:1、安装底板;2、调焦装置;3、支撑台;4、聚焦镜头;5、调节架;6、45°反射成像镜片;7、工业相机;8、变倍镜头;9、固定座;10、激光光束;11、样品;12、激光聚焦平面;13、竖板;14、支撑板;15、高度调节装置。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-2,一种激光光路与成像光路同轴独立调焦设备,包括安装底板1、调焦装置2、聚焦镜头4、45°反射成像镜片6、工业相机7、变倍镜头8、激光光束10和样品11,调焦装置2固定连接在安装底板1正面的一侧,聚焦镜头4设在调焦装置2的底部,45°反射成像镜片6设在聚焦镜头4的底部,45°反射成像镜片6由45°反射镜片和成像镜片组成,工业相机7固定连接在安装底板1正面的底部,变倍镜头8转动连接在工业相机7的输出端,样品11设在45°反射成像镜片6的底部,激光光束10穿过聚焦镜头4和45°反射成像镜片6辐射到样品11上并在样品11上形成激光聚焦平面12,激光光束10通过高度调节装置15上下移动聚焦镜头4,激光光束10透过45°反射成像镜片6中的45°反射镜片后辐射到样品11上,样品11同时在成像光源的照明下,其反射光经过45°反射镜片,经过成像镜片后聚焦到工业相机7,形成图像后供使用者实时观察激光辐射对样品11产生的效果。
调焦装置2的一侧固定连接有高度调节装置15,高度调节装置15的输出端固定连接有支撑台3,聚焦镜头4固定连接在支撑台3的中部,通过高度调节装置15可调节聚焦镜头4的高度可以独立优化激光光斑大小,但不影响样品11的成像清晰度,安装底板1正面一侧的中部固定连接有调节架5,45°反射成像镜片6固定连接在调节架5的侧面,安装底板1正面底部的中部固定连接有固定座9,工业相机7固定连接在固定座9的内部,安装底板1底部的一侧固定连接有竖板13,竖板13正面的底部固定连接有支撑板14,样品11放置在支撑板14的顶部,样品11在外部成像光源照射下产生的反射光,经过45°反射镜片后进入成像镜片,调节架5可调节反射光进入成像镜片的位置和角度,从而优化工业相机7对样品11的成像效果,安装底板1的一侧设有成像光源,成像光源与样品11的位置相对应。
在使用时,激光光束10通过高度调节装置15上下移动聚焦镜头4,激光光束10透过45°反射成像镜片6中的45°反射镜片后辐射到样品11上,样品11同时在成像光源的照明下,其反射光经过45°反射镜片,经过成像镜片后聚焦到工业相机7,形成图像后供使用者实时观察激光辐射对样品11产生的效果,通过高度调节装置15可调节聚焦镜头4的高度可以独立优化激光光斑大小,但不影响样品11的成像清晰度,样品11在外部成像光源照射下产生的反射光,经过45°反射镜片后进入成像镜片,调节架5可调节反射光进入成像镜片的位置和角度,从而优化工业相机7对样品11的成像效果。
需要说明的是,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.一种激光光路与成像光路同轴独立调焦设备,包括安装底板(1)、调焦装置(2)、聚焦镜头(4)、45°反射成像镜片(6)、工业相机(7)、变倍镜头(8)、激光光束(10)和样品(11),其特征在于:所述调焦装置(2)固定连接在安装底板(1)正面的一侧,所述聚焦镜头(4)设在调焦装置(2)的底部,所述45°反射成像镜片(6)设在聚焦镜头(4)的底部,所述45°反射成像镜片(6)由45°反射镜片和成像镜片组成,所述工业相机(7)固定连接在安装底板(1)正面的底部,所述变倍镜头(8)转动连接在工业相机(7)的输出端,所述样品(11)设在45°反射成像镜片(6)的底部,所述激光光束(10)穿过聚焦镜头(4)和45°反射成像镜片(6)辐射到样品(11)上并在样品(11)上形成激光聚焦平面(12)。
2.根据权利要求1所述的一种激光光路与成像光路同轴独立调焦设备,其特征在于:所述调焦装置(2)的一侧固定连接有高度调节装置(15),所述高度调节装置(15)的输出端固定连接有支撑台(3),所述聚焦镜头(4)固定连接在支撑台(3)的中部。
3.根据权利要求1所述的一种激光光路与成像光路同轴独立调焦设备,其特征在于:所述安装底板(1)正面一侧的中部固定连接有调节架(5),所述45°反射成像镜片(6)固定连接在调节架(5)的侧面。
4.根据权利要求1所述的一种激光光路与成像光路同轴独立调焦设备,其特征在于:所述安装底板(1)正面底部的中部固定连接有固定座(9),所述工业相机(7)固定连接在固定座(9)的内部。
5.根据权利要求1所述的一种激光光路与成像光路同轴独立调焦设备,其特征在于:所述安装底板(1)底部的一侧固定连接有竖板(13),所述竖板(13)正面的底部固定连接有支撑板(14),所述样品(11)放置在支撑板(14)的顶部。
6.根据权利要求1所述的一种激光光路与成像光路同轴独立调焦设备,其特征在于:所述安装底板(1)的一侧设有成像光源,所述成像光源与样品(11)的位置相对应。
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