CN213835592U - 一种半遮蔽式电镀槽 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及电镀技术领域，尤其涉及一种半遮蔽式电镀槽。其包括底槽，底槽包括底板和围板，底板和围板之间形成下容置空间，底板上设有用于电镀的槽体，槽体的上端开口，槽体的左右两侧中部分别设有用于料带穿过的缺口，所述槽体的下端设有进液口，还包括用于将下容置空间的液体泵入槽体的液体泵，液体泵的出液口通过管道与所述进液口连接；槽体的后侧内壁设有用于容置金属的容置体，所述槽体的前侧中部设有遮板，所述遮板的前后宽度为槽体内部空间的前后宽度一半。通过在电镀槽内设置遮板，以及仅仅在电镀槽一侧设置阳极金属，从而使得端子的一侧发生电镀很少，达到减少无效电镀，节省成本。

Description

一种半遮蔽式电镀槽

技术领域

本实用新型涉及电镀技术领域，尤其涉及一种半遮蔽式电镀槽。

背景技术

目前电子接口的端子在使用时，绝大多数只是用一侧；而为了提高端子的性能，如耐磨性、耐腐蚀性等，一般采用电镀的方式，即在端子的表面采用电镀方式，镀上多层电镀层；在进行电镀时，一般采用料带的方式进行连续电镀，料带在途径各种电镀槽时，与其内部的电镀液发生化学反应；然而在电镀时，料带基本完全浸入电镀槽，因此在电镀时，料带的两侧都会电镀，即端子的两侧面都会进行电镀作业；由于在使用时，端子仅仅使用一侧，而电镀由于工艺的要求则需要进行两面电镀，从而导致无效电镀较多，造成浪费。

发明内容

本实用新型的目的在于解决现有技术的不足，提供一种半遮蔽式电镀槽，该电镀槽能减少电镀浪费。

本实用新型为实现上述目的采用的技术方案为：

一种半遮蔽式电镀槽，其包括底槽，底槽包括底板和围板，底板和围板之间形成下容置空间，底板上设有用于电镀的槽体，槽体的上端开口，槽体的左右两侧中部分别设有用于料带穿过的缺口，所述槽体的下端设有进液口，还包括用于将下容置空间的液体泵入槽体的液体泵，液体泵的出液口通过管道与所述进液口连接；槽体的后侧内壁设有用于容置金属的容置体，所述槽体的前侧中部设有遮板，所述遮板的前后宽度为槽体内部空间的前后宽度一半。

进一步的，所述底板在槽体的后侧设有两个升降机构，所述升降机构包括立柱，立柱的前侧中部设有容置槽，立柱的上端连接有盖板，盖板设有穿孔并通过轴承连接有丝杆，所述丝杆的上端穿过盖板连接有旋钮，丝杆螺纹连接有螺母块，螺母块连接有延伸块，延伸块的一端位于槽体的上方并连接有中间块，中间块的下端伸入槽体，两块中间块分别位于容置体的两侧并与容置体连接。

进一步地，所述容置体的上端开口，容置体的后侧壁设有导向块，导向块的上端中部设有与阳极相配合的导向槽。

进一步地，所述容置体的侧壁设有多个穿孔。

进一步地，所述容置体的后侧中部连接有网格板。

本实用新型的有益效果为：通过在电镀槽内设置遮板，以及仅仅在电镀槽一侧设置阳极金属，从而使得端子的一侧发生电镀很少，达到减少无效电镀，节省成本。

附图说明

图1为本实用新型的一种示意图。

图2为本实用新型的另一视角示意图。

附图标记：

1——底槽；2——升降机构；3——液体泵；4——管道；5——网格板；6——遮板；7——缺口；8——槽体； 10——中间块；11——围板；12——底板；17——导向块；18——阳极；19——容置体；21——旋钮；22——立柱；23——盖板；24——丝杆；25——延伸块。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步的说明。

实施例：参见图1、2。

一种半遮蔽式电镀槽，其包括底槽1，底槽1包括底板12和围板11，底板12和围板11之间形成下容置空间，底板12上设有用于电镀的槽体8，槽体8的上端开口，槽体8的左右两侧中部分别设有用于料带穿过的缺口7，所述槽体8的下端设有进液口，还包括用于将下容置空间的液体泵入槽体8的液体泵3，液体泵3的出液口通过管道4与所述进液口连接；槽体8的后侧内壁设有用于容置金属的容置体19，所述槽体8的前侧中部设有遮板6，所述遮板6的前后宽度为槽体8内部空间的前后宽度一半。

本技术方案工作时，料带从槽体8两侧的缺口7穿过并浸入槽体8的电镀液内；槽体8的电镀液从缺口7流出浸入下容置空间，再通过液体泵3重新泵入槽体8内；在电镀时，容置体19内填充有用于电镀的金属，且金属会与电源的阳极18连接，由于阳极18设置在槽体8的后侧壁，而遮板6设置在前侧，因此槽体8内的液体流动主要以后侧为主，同时阳极金属设置在后侧，使得电镀化学反应也集中在料带的后侧。从而达到料带的前侧电镀量很少，减少无效电镀，降低成本。

进一步的，所述底板12在槽体8的后侧设有两个升降机构2，所述升降机构2包括立柱22，立柱22的前侧中部设有容置槽，立柱22的上端连接有盖板23，盖板23设有穿孔并通过轴承连接有丝杆24，所述丝杆24的上端穿过盖板23连接有旋钮21，丝杆24螺纹连接有螺母块，螺母块连接有延伸块25，延伸块25的一端位于槽体8的上方并连接有中间块10，中间块10的下端伸入槽体8，两块中间块10分别位于容置体19的两侧并与容置体19连接。

设置升降机构2后，可以对容置体19进行高度调整，即可以对阳极金属的高度进行调整；在电镀时，料带与阳极金属的距离之间影响到电镀化学反应的强度，离阳极金属越远，电镀化学反应的强度越低；通过调整阳极金属对高度来调整料带到阳极金属的距离。在调整时，只需要通过旋转旋钮21即可，旋钮21旋转并带动丝杆24旋转，同时螺母块、容置体19上下移动，进而达到对阳极金属的移动。

进一步地，所述容置体19的上端开口，容置体19的后侧壁设有导向块17，导向块17的上端中部设有与阳极相配合的导向槽。

在实际应用中，电源阳极需要一直与容置体19内的金属电连接；由于容置体19可进行上下调整，为避免电源阳极推力，本技术方案在容置体19内设置导向块17，阳极插入导向块17的导向槽，导向块17与阳极配合连接。

进一步地，所述容置体19的侧壁设有多个穿孔。

设置穿孔，方便电镀液与金属接触。

进一步地，所述容置体19的后侧中部连接有网格板5。

设置网格板5和遮板6后，容置体19内空间基本被分为上、下两部；下部分空间的液体在泵体的作用下有较大的流动现象，而上部分空间的液体与下部分空间的液体隔开，上部分空间的液体则保持平稳，从而保持电镀平稳进行，避免或减少电镀不均匀的情况出现。

本实用新型作了详细地说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的实质和范围。

Claims (5)

1.一种半遮蔽式电镀槽，其包括底槽，底槽包括底板和围板，底板和围板之间形成下容置空间，底板上设有用于电镀的槽体，槽体的上端开口，槽体的左右两侧中部分别设有用于料带穿过的缺口，所述槽体的下端设有进液口，还包括用于将下容置空间的液体泵入槽体的液体泵，液体泵的出液口通过管道与所述进液口连接；槽体的后侧内壁设有用于容置金属的容置体，其特征在于：所述槽体的前侧中部设有遮板，所述遮板的前后宽度为槽体内部空间的前后宽度一半。

2.根据权利要求1所述的一种半遮蔽式电镀槽，其特征在于：所述底板在槽体的后侧设有两个升降机构，所述升降机构包括立柱，立柱的前侧中部设有容置槽，立柱的上端连接有盖板，盖板设有穿孔并通过轴承连接有丝杆，所述丝杆的上端穿过盖板连接有旋钮，丝杆螺纹连接有螺母块，螺母块连接有延伸块，延伸块的一端位于槽体的上方并连接有中间块，中间块的下端伸入槽体，两块中间块分别位于容置体的两侧并与容置体连接。

3.根据权利要求2所述的一种半遮蔽式电镀槽，其特征在于：所述容置体的上端开口，容置体的后侧壁设有导向块，导向块的上端中部设有与阳极相配合的导向槽。

4.根据权利要求2所述的一种半遮蔽式电镀槽，其特征在于：所述容置体的侧壁设有多个穿孔。

5.根据权利要求1所述的一种半遮蔽式电镀槽，其特征在于：所述容置体的后侧中部连接有网格板。

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