CN213800274U - 清洗剂用防滴漏灌装设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型揭示了一种清洗剂用防滴漏灌装设备，包括灌装平台，垂直设置于灌装平台一侧的支架，所述支架上设置有灌装组件，所述灌装组件包括灌装主体及设置于所述灌装主体下的灌装头，所述灌装主体上方设置有驱动所述灌装主体进行上下移动的气缸，所述气缸通过连接件与所述支架连接。本实用新型的有益效果为：本方案的灌装设备可以很好的避免灌装后的清洗剂的滴漏，且可以根据灌装筒的高度按需调节灌装机主体高度。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种灌装设备，尤其涉及一种清洗剂用防滴漏灌装设备。
背景技术
液体灌装机原理通常分为常压灌装机、真空灌装机和压力灌装机，常压下，可根据液体的自身重量实行自流式灌装。其灌装是在高于大气压力下进行灌装，贮液缸内的压力高于瓶中的压力，靠压差流入瓶内。由于灌装物料的流体形态，导致现有的灌装设备在灌装完毕后，灌装头难免会有多余的物料滴漏，容易造成浪费，且现有的灌装设备高度限定，当针对不同高度的接料罐时常常由于无法调节高度而导致灌装出料时落料的准确性，从而产生不必要的物料浪费。
实用新型内容
鉴于现有技术存在上述缺陷，本实用新型的目的在于提供一种清洗剂用防滴漏灌装设备。
本实用新型的目的，将通过以下技术方案得以实现：
清洗剂用防滴漏灌装设备，包括灌装平台，垂直设置于灌装平台一侧的支架，所述支架上设置有灌装组件，所述灌装组件包括灌装主体及设置于所述灌装主体下的灌装头，所述灌装主体上方设置有驱动所述灌装主体进行上下移动的气缸，所述气缸通过连接件与所述支架连接。
优选地，所述气缸的气缸轴与所述灌装主体连接。
优选地，所述支架上还设置有防滴漏组件，所述防滴漏组件包括接料框、连接于所述接料框内的接料盒，所述接料框上端与所述支架通过第二连接组件连接，所述接料框通过第二连接件组件进行翻转运动。
优选地，所述防滴漏组件设置于所述灌装头下方，所述气缸带动所述灌装头运动驱动所述防滴漏组件进行翻转。
优选地，所述第二连接组件包括与所述支架连接的连接杆，所述接料框枢轴设置于所述连接杆上。
优选地，所述防滴漏组件与所述支架之间距离设置，且所述防滴漏组件的高度小于所述防滴漏组件至所述支架之间的距离。
优选地，所述接料盒与所述接料框卡扣连接。
优选地，所述接料盒与所述接料框螺纹连接。
优选地，所述灌装平台底部设置有移动滚轮。
优选地，所述灌装平台一侧设置有下料工位。
本实用新型的有益效果为：本方案的灌装设备可以很好的避免灌装后的清洗剂的滴漏，且可以根据灌装筒的高度按需调节灌装机主体高度。
以下便结合实施例附图，对本实用新型的具体实施方式作进一步的详述，以使本实用新型技术方案更易于理解、掌握。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
图2是本实用新型的防滴漏组件的结构示意图。
其中，1灌装平台，2支架，3气缸，4灌装主体，5灌装头，6防滴漏组件，61枢轴点，62连接杆，12下料工位，13控制系统。
具体实施方式
本实用新型揭示了一种清洗剂用防滴漏灌装设备，结合图1-图2所示，包括灌装平台1，垂直设置于灌装平台一侧的支架2。所述灌装平台由多个辊轮11并列设置构成。为了更好的移动以推动到所述灌装平台1底部设置有移动滚轮，为了协助下料，所述灌装平台1一侧设置有下料工位12。所述下料工位12同样采用多个辊轮并列构成，为下料便捷，所述下料工位的下料平台采用倾斜式。
所述支架2上设置有灌装组件，所述灌装组件包括灌装主体4及设置于所述灌装主体4下的灌装头5，所述灌装主体上方设置有驱动所述灌装主体进行上下移动的气缸3，所述气缸3通过连接件与所述支架2连接。所述气缸3的气缸轴与所述灌装主体连接，气缸3工作，气缸轴带动所述灌装组件进行上下移动，以配合灌装平台上接料装置的高度。
所述支架2上还设置有防滴漏组件6，所述防滴漏组件6包括接料框、连接于所述接料框内的接料盒。所述接料框与所述接料盒可以采用卡扣连接、螺纹连接或磁性连接。所述接料盒可以对滴落的料进行收集，同时，可以通过拆卸接料盒达到清洗的目的。当然，由于滴漏的量较少，也可以直接在所述接料框内粘结有吸料组件，例如海绵等。当然，所述防滴漏组件6还可以通过限位开关进行控制，当灌装头下行到与所述防滴漏组件6具有一定距离时，防滴漏组件6将给所述灌装头进行让位。
所述接料框上端与所述支架2通过第二连接组件连接，所述接料框通过第二连接件组件进行翻转运动。所述第二连接组件包括与所述支架连接的连接杆，所述接料框枢轴设置于所述连接杆62上，可以沿着枢轴点61进行翻转。本实施例中，所述接料框的截面为梯形。
所述防滴漏组件设置于所述灌装头下方，所述气缸带动所述灌装头运动驱动所述防滴漏组件进行翻转。所述防滴漏组件与所述支架2之间距离设置，为了顺利的进行翻转为灌装头让位，所述防滴漏组件的高度h小于所述防滴漏组件至所述支架2之间的距离。同时，为更好的达到接料的目的，所述防滴漏组件的底部呈倾斜状态，具体的，所述防滴漏组件远端高于所述防滴漏组件近端。所述灌装头5的轴线延长线与所述防滴漏组件的远端相交。
所述设备还包括一控制系统13，所述控制系统与所述灌装主体及气缸等电性连接，以实现自动化灌装，其控制原理不属于本实用新型的保护重点，故在此不再赘述。
以下阐述下本实用新型的灌装实现流程：
将接料罐置于灌装主体下方的灌装平台1上，气缸3根据接料罐的高度进行灌装主体高度的调节，此时，气缸驱动所述灌装主体4带动灌装头5下压，灌装头5碰触到防滴漏组件6的远端，继续下行，防滴漏组件6绕枢轴点61进行翻转，当灌装头5到达所需灌装位置时，气缸停止运动，进行灌装动作。灌装完毕后，气缸3带动所述灌装头5向上复位，当灌装头5移动至防滴漏组件6上方时，防滴漏组件6翻转回起始位置，对灌装头5的滴漏料液进行接料。
本实用新型尚有多种实施方式，凡采用等同变换或者等效变换而形成的所有技术方案，均落在本实用新型的保护范围之内。
Claims (10)
1.清洗剂用防滴漏灌装设备，其特征在于：包括灌装平台，垂直设置于灌装平台一侧的支架，所述支架上设置有灌装组件，所述灌装组件包括灌装主体及设置于所述灌装主体下的灌装头，所述灌装主体上方设置有驱动所述灌装主体进行上下移动的气缸，所述气缸通过连接件与所述支架连接。
2.如权利要求1所述的清洗剂用防滴漏灌装设备，其特征在于：所述气缸的气缸轴与所述灌装主体连接。
3.如权利要求1所述的清洗剂用防滴漏灌装设备，其特征在于：所述支架上还设置有防滴漏组件，所述防滴漏组件包括接料框、连接于所述接料框内的接料盒，所述接料框上端与所述支架通过第二连接组件连接，所述接料框通过第二连接件组件进行翻转运动。
4.如权利要求3所述的清洗剂用防滴漏灌装设备，其特征在于：所述防滴漏组件设置于所述灌装头下方，所述气缸带动所述灌装头运动驱动所述防滴漏组件进行翻转。
5.如权利要求4所述的清洗剂用防滴漏灌装设备，其特征在于：所述第二连接组件包括与所述支架连接的连接杆，所述接料框枢轴设置于所述连接杆上。
6.如权利要求5所述的清洗剂用防滴漏灌装设备，其特征在于：所述防滴漏组件与所述支架之间距离设置，且所述防滴漏组件的高度小于所述防滴漏组件至所述支架之间的距离。
7.如权利要求3所述的清洗剂用防滴漏灌装设备，其特征在于：所述接料盒与所述接料框卡扣连接。
8.如权利要求3所述的清洗剂用防滴漏灌装设备，其特征在于：所述接料盒与所述接料框螺纹连接。
9.如权利要求1所述的清洗剂用防滴漏灌装设备，其特征在于：所述灌装平台底部设置有移动滚轮。
10.如权利要求1所述的清洗剂用防滴漏灌装设备，其特征在于：所述灌装平台一侧设置有下料工位。
Priority Applications (1)
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| CN213800274U true CN213800274U (zh) | 2021-07-27 |
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- 2020-11-30 CN CN202022816399.4U patent/CN213800274U/zh active Active
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