CN213791907U - 一种大颗粒密胺粉研磨装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种大颗粒密胺粉研磨装置,包括支撑架,支撑架上设置有振动器、研磨机构;振动器位于研磨机构左侧,研磨机构设置有用于研磨大颗粒密胺粉的上磨盘及下磨盘,研磨机构上方设置有用于驱动上磨盘与下磨盘的动力装置;振动器通过连接臂与动力装置固定连接。
Description
技术领域
本实用新型涉及密胺粉研磨装置领域,尤其涉及一种大颗粒密胺粉研磨装置。
背景技术
密胺餐具又称仿瓷餐具,由密胺树脂粉加热加压压制成型,密胺餐具以其轻巧、美观、能耐低温、不易碎等性能,被用于餐饮业及儿童饮食业等。
密胺粉的应用生产大多是从粉末状开始的,初生产的密胺粉颗粒较大,不能满足密胺餐具的制作要求,需将大颗粒密胺粉研磨加工成粉末状,传统的大颗粒密胺粉研磨为人工研磨,效率低下,同时,随着人力成本越来越高,更突出了人工成本高昂。
实用新型内容
为了克服现有技术的缺陷,本实用新型所要解决的技术问题在于提出一种大颗粒密胺粉研磨装置,以解决上述问题。
为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:
本实用新型提供的一种大颗粒密胺粉研磨装置,包括支撑架,支撑架上设置有振动器、研磨机构;振动器位于研磨机构左侧,研磨机构设置有用于研磨大颗粒密胺粉的上磨盘及下磨盘,研磨机构上方设置有用于驱动上磨盘与下磨盘的动力装置;振动器通过连接臂与动力装置固定连接。
本实用新型优选地技术方案在于,研磨机构上端面设置有用于放置大颗粒密胺粉的研磨室,研磨室位于动力装置与上磨盘之间,研磨室内设置有用于将大颗粒密胺粉渗入上磨盘与下磨盘之间的第一漏孔。
本实用新型优选地技术方案在于,上磨盘与下磨盘外围设有出料环,出料环中设置有出料孔。
本实用新型优选地技术方案在于,研磨机构设置有接粉腔体,接粉腔体内设置有出粉口。
本实用新型优选地技术方案在于,接粉腔体外侧面设置有出粉管,出粉管与出粉口连通。
本实用新型的有益效果为:
本实用新型提供的一种大颗粒密胺粉研磨装置,在使用本装置时,操作人员将大颗粒密胺粉加入研磨机构上端面的研磨室内,启动振动器和动力装置,动力装置驱动上磨盘与下磨盘对从第一漏孔进入的大颗粒密胺粉进行研磨,振动器对本装置起到震动作用,加快大颗粒密胺粉从研磨室进入上磨盘与下磨盘的速度,研磨好的密胺粉细粉从出料环的出料孔排出进入接粉腔体,接着进入出粉口,研磨好的密胺粉细粉从出粉管排除,振动器可以加快密胺粉细粉的排出速度,通过以上的设置,避免了人工研磨大颗粒密胺粉带来的低效率,而且大大节省了人工成本。
附图说明
图1是本实用新型具体实施方式中提供的大颗粒密胺粉研磨装置结构示意图;
图2是本实用新型具体实施方式中提供的大颗粒密胺粉研磨装置的俯视结构示意图;
图中:
1、支撑架;2、振动器;3、研磨机构;4、上磨盘;5、下磨盘;6、动力装置;7、连接臂;8、研磨室;9、第一漏孔;10、出料环;11、出料孔;12、接粉腔体;13、出粉口;14、出粉管。
具体实施方式
下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。
本实施例中提供的一种大颗粒密胺粉研磨装置,包括支撑架1,支撑架1上设置有振动器2、研磨机构3;振动器2位于研磨机构3左侧,研磨机构3设置有用于研磨大颗粒密胺粉的上磨盘4及下磨盘5,研磨机构3上方设置有用于驱动上磨盘4与下磨盘5的动力装置6;振动器2通过连接臂7与动力装置6固定连接。
优选地,研磨机构3上端面设置有用于放置大颗粒密胺粉的研磨室8,研磨室8位于动力装置6与上磨盘4之间,研磨室8内设置有用于将大颗粒密胺粉渗入上磨盘4与下磨盘5之间的第一漏孔9。
优选地,上磨盘4与下磨盘5外围设有出料环10,出料环10中设置有出料孔11。
优选地,研磨机构3设置有接粉腔体12,接粉腔体12内设置有出粉口13。
优选地,接粉腔体12外侧面设置有出粉管14,出粉管14与出粉口13连通。
工作原理,在使用本装置时,操作人员将大颗粒密胺粉加入研磨机构3上端面的研磨室8内,启动振动器2和动力装置6,动力装置6驱动上磨盘4与下磨盘5对从第一漏孔9进入的大颗粒密胺粉进行研磨,振动器2对本装置起到震动作用,加快大颗粒密胺粉从研磨室8进入上磨盘4与下磨盘5的速度,研磨好的密胺粉细粉从出料环10的出料孔11排出进入接粉腔体12,接着进入出粉口13,研磨好的密胺粉细粉从出粉管14排除,振动器2可以加快密胺粉细粉的排出速度,通过以上的设置,避免了人工研磨大颗粒密胺粉带来的低效率,而且大大节省了人工成本。
本实用新型是通过优选实施例进行描述的,本领域技术人员知悉,在不脱离本实用新型的精神和范围的情况下,可以对这些特征和实施例进行各种改变或等效替换。本实用新型不受此处所公开的具体实施例的限制,其他落入本申请的权利要求内的实施例都属于本实用新型保护的范围。
Claims (5)
1.一种大颗粒密胺粉研磨装置,包括支撑架(1),其特征在于:
所述支撑架(1)上设置有振动器(2)、研磨机构(3);
所述振动器(2)位于所述研磨机构(3)左侧,所述研磨机构(3)设置有用于研磨大颗粒密胺粉的上磨盘(4)及下磨盘(5),所述研磨机构(3)上方设置有用于驱动所述上磨盘(4)与所述下磨盘(5)的动力装置(6);
所述振动器(2)通过连接臂(7)与所述动力装置(6)固定连接。
2.根据权利要求1所述的大颗粒密胺粉研磨装置,其特征在于:
所述研磨机构(3)上端面设置有用于放置大颗粒密胺粉的研磨室(8),所述研磨室(8)位于所述动力装置(6)与所述上磨盘(4)之间,所述研磨室(8)内设置有用于将大颗粒密胺粉渗入所述上磨盘(4)与所述下磨盘(5)之间的第一漏孔(9)。
3.根据权利要求2所述的大颗粒密胺粉研磨装置,其特征在于:
所述上磨盘(4)与所述下磨盘(5)外围设有出料环(10),所述出料环(10)中设置有出料孔(11)。
4.根据权利要求3所述的大颗粒密胺粉研磨装置,其特征在于:
所述研磨机构(3)设置有接粉腔体(12),所述接粉腔体(12)内设置有出粉口(13)。
5.根据权利要求4所述的大颗粒密胺粉研磨装置,其特征在于:
所述接粉腔体(12)外侧面设置有出粉管(14),所述出粉管(14)与所述出粉口(13)连通。
Priority Applications (1)
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CN202022613714.3U CN213791907U (zh) | 2020-11-12 | 2020-11-12 | 一种大颗粒密胺粉研磨装置 |
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CN213791907U true CN213791907U (zh) | 2021-07-27 |
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CN202022613714.3U Active CN213791907U (zh) | 2020-11-12 | 2020-11-12 | 一种大颗粒密胺粉研磨装置 |
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- 2020-11-12 CN CN202022613714.3U patent/CN213791907U/zh active Active
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