CN213660377U - 可调高度真空吸平台模块 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了可调高度真空吸平台模块，属于晶圆片加工设备技术领域，它包括真空吸附平台；位置调整部件，真空吸附平台分为上中下三层，该下层设有若干个相互平行且长度呈递增或递减的导气槽，真空吸附平台中层设有若干条与导气槽接通的面板导槽，面板导槽与导气槽覆盖住真空吸附平台的待吸附面，真空吸附平台上层均匀设有气孔，气孔将由面板导槽与导气槽接通构成气室与真空吸附平台表面接通，真空吸附平台上还设有用于连接负压发生装置的进气口和出气口。本实用新型提出了一种可调高度真空吸平台模块，其吸附作用面积分为若干个区间，不同区间相互组合形成多种规格，用以适应晶圆的加工要求。

Description

可调高度真空吸平台模块

技术领域

本实用新型涉及晶圆片加工设备技术领域，更具体地说，涉及可调高度真空吸平台模块。

背景技术

在公开号为CN1235270C的中国发明专利中，公开了一种切削机，其在阳螺纹轴上连接着电动马达，通过电动马达的正转及反转使滑动块沿着导轨朝向X轴方向移动。在滑动块上固定有圆筒状支承构件，在支承构件上以实质上垂直延伸的中心轴线为中心旋转自如地安装有吸附构件。在支承构件内配设有可用来使吸附构件旋转的电动马达的旋转驱动源。圆板状的吸附构件由像多孔性陶瓷的多孔性材料所形成。该专利中，吸附构件的吸附作用面积是固定的，只能吸附小于等于该吸附面积的晶圆。

在mini LED、micron LED制造领域中，待加工的晶圆大小规格不一，应用上述专利中的吸附构件，不能满足市场需求。

针对以上问题，本实用新型提出了一种可调高度真空吸平台模块，其吸附作用面积分为若干个区间，不同区间相互组合形成多种规格，用以适应晶圆的加工要求。

实用新型内容

本实用新型所采取的技术方案是：提供可调高度真空吸平台模块，包括：真空吸附平台；位置调整部件，用于在相互垂直的X轴和Y轴方向上移动所述真空吸附平台；其中，真空吸附平台分为上中下三层，该下层设有若干个相互平行且长度呈递增或递减的导气槽，真空吸附平台中层设有若干条与导气槽接通的面板导槽，面板导槽与导气槽覆盖住真空吸附平台的待吸附面，真空吸附平台上层均匀设有气孔，气孔将由面板导槽与导气槽接通构成气室与真空吸附平台表面接通，真空吸附平台上还设有用于连接负压发生装置的进气口和出气口。

采用以上结构后，不同长度的导气槽以及与其连接的面板导槽构成了若干个气室区间，由气室区间组合构成不同大小面积的真空吸附表面，用于吸附不同规格大小的晶圆。

作为优选，所述位置调整部件包括相互垂直堆叠的Y轴直线导轨和X轴直线导轨，Y轴直线导轨安装有第一伺服电机，第一伺服电机的输出轴连接有沿Y轴直线导轨线性方向设置的第一滚珠丝杆，X轴直线导轨与第一滚珠丝杆螺合，X轴直线导轨安装有第二伺服电机，第二伺服电机的输出轴连接有沿X轴直线导轨线性方向设置的第二滚珠丝杆，第一滚珠丝杆螺合有载板；位置调整部件能够在由X轴和Y轴构成的平面上自由移动真空吸附平台。

作为优选，所述X轴直线导轨底部设有与所述Y轴直线导轨滑动连接的滑动块，所述载板与Y轴直线导轨滑动连接。

作为优选，还包括高度调整部件，高度调整部件设置在所述位置调整部件的输出位置上，所述真空吸附平台安装在高度调整部件上。

作为优选，所述高度调整部件包括有底座和水平设置在底座上的旋转驱动精密丝杠，旋转驱动精密丝杠螺合有楔形块，底座上竖直滑动连接有横截面为直角三角形的上平台，上平台的斜面与楔形块表面贴合，上平台表面的水平面上安装有加大面板。

作为优选，所述楔形块与所述底座沿所述旋转驱动精密丝杠平行方向滑动连接。

作为优选，所述底座侧壁表面上设有高度刻度尺，所述加大面板上设有与高度刻度尺配合的指示针。

作为优选，所述导气槽的数量为五个，单条导气槽与与其接通的面板导槽构成一个气室区间，长度最短的导气槽构成了一个矩形区间，其位于所述真空吸附平台的四角中任一一角。

作为优选，所述真空吸附平台上的五个气室区间包括一个矩形区间和4个L形区间，L形区间端部宽度相等。

作为优选，还包括电缆链条，用于所述位置调整部件在X轴和Y轴方向上的电连接。

作为优选，包括：真空吸附平台；位置调整部件，用于在相互垂直的X轴和Y轴的方向上移动所述真空吸附平台；其中，真空吸附平台分为上下两层，该下层设有若干个相互平行且长度呈递增或递减的导气槽，下层还设有若干条与导气槽接通的面板导槽，面板导槽与导气槽覆盖住真空吸附平台的待吸附面，真空吸附平台上层均匀设有气孔，气孔将由面板导槽与导气槽接通构成气室与真空吸附平台表面接通，真空吸附平台上还设有用于连接负压发生装置的进气口和出气口。

本实用新型与现有技术相比，具有以下优点：

1、本实用新型中，真空吸附平台在安装在位置调整部件作用端，位置调整部件可以由相互垂直的X轴和Y轴构成的平面上自由移动，且位置调整部件上的X轴和Y轴均是通过驱动电机驱动滚珠丝杆转动，进而驱动真空吸附平台在该方向的精确移动。

2、本实用新型中真空吸附平台的待吸附面由若干个区间组成，长度最短的导气槽构成了一个矩形区间，余下的区间与该矩阵区间组成新的矩形的待吸附面。现有的真空吸附平台主要为圆形，用于对晶圆进行加工处理，而本实用新型中的待吸附面为矩形，适用于LED等面板加工领域，其规格兼容性好，大面积和大行程的定位精准。

3、本实用新型中，应用了高度调整部件，高度调整部件中的上平台与底座侧壁滑动连接，通过旋转驱动精密丝杠驱动楔形块沿丝杆方向移动，楔形块带动高度调整部件上下移动。

附图说明

图1为本实用新型整体的结构示意图；

图2为本实用新型总共位置调整部件的结构示意图；

图3为本实用新型中高度调整部件的爆炸图；

图4为本实用新型中高度调整部件的结构图；

图5为本实用新型中真空吸附平台底表面的结构示意图；

图6为本实用新型中真空吸附平台上表面的结构示意图。

图中标号说明：

其中1、位置调整部件；11、Y轴直线导轨；12、第一伺服电机；13、第一滚珠丝杆；14、X轴直线导轨；15、第二伺服电机；16、第二滚珠丝杆；17、载板；2、高度调整部件；21、底座；22、旋钮驱动精密丝杠；23、楔形块；24、上平台；25、加大面板；26、高度刻度尺；3、真空吸附平台；31、底板；32、导气槽；34、面板导槽；4、电缆链条。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

本说明书中的负压发生装置是指真空发生器、真空泵等能够产生负压的设备，该设备的输入输出气道连接本说明书中进气口和出气口，此为现有技术，故不多加赘述。

本说明书中的旋转驱动精密丝杠是指丝杠上至少有一端设有连接驱动转轴驱动的齿轮，旋转驱动精密丝杠的两端与底座21之间转动连接，此为现有技术，故不多加赘述。但是现有技术中丝杠中的移动端为螺帽，本实用新型中的移动端为与旋转驱动精密丝杠螺合的楔形块23。

本实用新型中，真空吸附平台3的吸附作用面积随实际应用而改动，优选的，真空吸附平台3的吸附作用面积不小于20㎜*20㎜，更优选的，真空吸附平台3的吸附作用面积不小于20㎜*20㎜-600㎜*600㎜。

实施例1

如图1所示，本实用新型包括有位置调整部件1、安装在位置调整部件1作用端上的高度调整部件2以及安装在高度调整部件2作用端上的真空吸附平台3。在一些示例中，位置调整部件1的X轴和Y轴上均设有电缆链条4，电缆链条4内的电缆电连接位置调整部件1中的驱动件。

如图2所示，位置调整部件1包括Y轴直线导轨11和堆砌在Y轴直线导轨11上的X轴直线导轨14，Y轴直线导轨11的线性方向与X轴直线导轨14的线性方向之间的夹角为直角。现以Y轴直线导轨11的线性方向称为Y轴，X轴直线导轨14的线性方向称为X轴。Y轴直线导轨11两侧设有向上凸起的导轨，Y轴直线导轨11的一端设有第一伺服电机12，第一伺服电机12的输出端朝向Y轴直线导轨11的另一端。第一伺服电机12的输出端连接有第一滚珠丝杆13，第一滚珠丝杆13沿Y轴直线导轨11的线性方向设置。X轴直线导轨14底部并排设有两个滑动块，X轴直线导轨14通过滑动块与Y轴直线导轨11滑动连接。X轴直线导轨14的底部设有阴螺纹孔，与第一滚珠丝杆13上的阳螺纹螺合，通过驱动第一滚珠丝杆13转动的方式，驱动X轴直线导轨14沿第一滚珠丝杆13移动。同理，在X轴直线导轨14两侧设有向上凸起的导轨，X轴直线导轨14的一端设有第二伺服电机15，第二伺服电机15的输出端朝向X轴直线导轨14的另一端。第二伺服电机15的输出端连接有第二滚珠丝杆16，第二滚珠丝杆16沿X轴直线导轨14的线性方向设置，位置调整部件1作用端与第二滚珠丝杆16螺合。

在一些示例中，位置调整部件1作用端为载板17，高度调整部件2安装在载板17上，载板17的底部与X轴直线导轨14上的导轨滑动连接，载板17的底部还与第二滚珠丝杆16螺合，通过驱动第二滚珠丝杆16转动的方式，驱动载板17沿第二滚珠丝杆16移动。

在一些示例中，位置调整部件1作用端为载板17，真空吸附平台3直接安装在载板17上。

如图3所示，高度调整部件2包括底座21、旋钮驱动精密丝杠22和上平台24，底座21包括一基板以及对称设置在基板边沿的两块侧板组成，旋钮驱动精密丝杠22与两块侧板连接而使其中部悬空；在一些示例中，临靠旋钮驱动精密丝杠22驱动端的侧板面积大于另一侧侧板；在一些示例中，面积较大的侧板边沿与基板之间设有加强板。在旋钮驱动精密丝杠22中部螺合有楔形块23，楔形块23与基板沿旋钮驱动精密丝杠22的线性方向滑动连接。上平台24沿旋钮驱动精密丝杠22线性方向的两侧截面为直角三角形，直角三角形中的一条直角边所在的平面与底座21上的基板平面平行，直角三角形中的另一条直角边所在的平面与底座21上的侧板竖直滑动连接。直角三角形中的斜面朝下，楔形块23上设有与上平台24斜面贴合的平面，通过沿旋钮驱动精密丝杠22的线性方向移动楔形块23，上下顶起上平台24。在一些示例中，上平台24上安装有一个面积大于上平台24表面面积的加大面板25，真空吸附平台3安装在加大面板25上。

在一些示例中，真空吸附平台3直接安装在上平台24上表面上。

如图4所示，在一些示例中，在底座21中侧板表面上竖直设有高度刻度尺26，加大面板25上设有与高度刻度尺26配合的指示针。

在一些示例中，与高度刻度尺26配合的指示针安装在真空吸附平台3的底部。

如图5所示，为方便描述，图5中的导气槽32的方向为称为第一方向，位于真空吸附平台3平面内的与第一方向垂直的方向为第二方向。真空吸附平台3分为三层，其中最底层内平行设有五条导气槽32，导气槽32的长度朝向第二方向中的一个方向呈等差分布。最短的导气槽32临靠真空吸附平台3的边沿。结合图6所示，在真空吸附平台3的中层设有面板导槽34，面板导槽34沿第一方向设置，且与导气槽32接通形成气室。面板导槽34与导气槽32覆盖住真空吸附平台3的待吸附面，真空吸附平台3上层均匀设有气孔，气孔将由面板导槽34与导气槽32接通构成气室与真空吸附平台3表面接通。单条面板导槽34只能接通一个导气槽32，五条导气槽32将待吸附面分割为五个吸附区间，其中长度最短的导气槽32构成了一个矩形区间，余下四个L形区间与该矩阵区间组成新的矩形的待吸附面，五个区间可以组成五个大小不同的矩形待吸附面。

结合图4所示，在一些示例中，真空吸附平台3安装在底板31上，底板31安装在加大面板25上，底板31用来增加真空吸附平台3承重的结构强度。在真空吸附平台3四条侧边中的两条侧边分别设有用于连接负压发生装置的进气口和出气口。

实施例2

本实施例不同于实施例1之处在于，本实施例中用于连接负压发生装置的进气口和出气口设置在真空吸附平台3四条侧边中的一条侧边中。

实施例3

本实施例不同于实施例1之处在于，本实施例中真空吸附平台3分为两层，其底层内平行设有五条导气槽32，导气槽32的长度朝向第二方向中的一个方向呈等差分布。最短的导气槽32临靠真空吸附平台3的边沿。结合图6所示，在真空吸附平台3的底层内还设有面板导槽34，面板导槽34沿第一方向设置，且与导气槽32接通形成气室。面板导槽34与导气槽32覆盖住真空吸附平台3的待吸附面，真空吸附平台3上层均匀设有气孔，气孔将由面板导槽34与导气槽32接通构成气室与真空吸附平台3表面接通。单条面板导槽34只能接通一个导气槽32，五条导气槽32将待吸附面分割为五个吸附区间，其中长度最短的导气槽32构成了一个矩形区间，余下四个L形区间与该矩阵区间组成新的矩形的待吸附面，五个区间可以组成五个大小不同的矩形待吸附面。

通过控制不同矩阵区间的进气口和出气口的开闭合，来控制待吸附区间的面积大小。负压发生装置作用于由面板导槽34与导气槽32接通构成气室，放置在真空吸附平台3表面上的物料受气孔吸附而固定住，此为现有技术，故不多加赘述。

以上就本实用新型较佳的实施例作了说明，但不能理解为是对权利要求的限制。本实用新型不仅局限于以上实施例，其具体结构允许有变化，凡在本实用新型独立要求的保护范围内所作的各种变化均在本实用新型的保护范围内。

Claims (11)

1.可调高度真空吸平台模块，其特征在于，包括：

真空吸附平台；

位置调整部件，用于在相互垂直的X轴和Y轴方向上移动所述真空吸附平台；

其中，真空吸附平台分为上中下三层，该下层设有若干个相互平行且长度呈递增或递减的导气槽，真空吸附平台中层设有若干条与导气槽接通的面板导槽，面板导槽与导气槽覆盖住真空吸附平台的待吸附面，真空吸附平台上层均匀设有气孔，气孔将由面板导槽与导气槽接通构成气室与真空吸附平台表面接通，真空吸附平台上还设有用于连接负压发生装置的进气口和出气口。

2.根据权利要求1所述的可调高度真空吸平台模块，其特征在于：所述位置调整部件包括相互垂直堆叠的Y轴直线导轨和X轴直线导轨，Y轴直线导轨安装有第一伺服电机，第一伺服电机的输出轴连接有沿Y轴直线导轨线性方向设置的第一滚珠丝杆，X轴直线导轨与第一滚珠丝杆螺合，X轴直线导轨安装有第二伺服电机，第二伺服电机的输出轴连接有沿X轴直线导轨线性方向设置的第二滚珠丝杆，第一滚珠丝杆螺合有载板。

3.根据权利要求2所述的可调高度真空吸平台模块，其特征在于：所述X轴直线导轨底部设有与所述Y轴直线导轨滑动连接的滑动块，所述载板与Y轴直线导轨滑动连接。

4.根据权利要求1-3任一所述的可调高度真空吸平台模块，其特征在于：还包括高度调整部件，高度调整部件设置在所述位置调整部件的输出位置上，所述真空吸附平台安装在高度调整部件上。

5.根据权利要求4所述的可调高度真空吸平台模块，其特征在于：所述高度调整部件包括有底座和水平设置在底座上的旋转驱动精密丝杠，旋转驱动精密丝杠螺合有楔形块，底座上竖直滑动连接有横截面为直角三角形的上平台，上平台的斜面与楔形块表面贴合，上平台表面的水平面上安装有加大面板。

6.根据权利要求5所述的可调高度真空吸平台模块，其特征在于：所述楔形块与所述底座沿所述旋转驱动精密丝杠平行方向滑动连接。

7.根据权利要求5所述的可调高度真空吸平台模块，其特征在于：所述底座侧壁表面上设有高度刻度尺，所述加大面板上设有与高度刻度尺配合的指示针。

8.根据权利要求1所述的可调高度真空吸平台模块，其特征在于：所述导气槽的数量为五个，单条导气槽与其接通的面板导槽构成一个气室区间，长度最短的导气槽构成了一个矩形区间，其位于所述真空吸附平台的四角中任一一角。

9.根据权利要求8所述的可调高度真空吸平台模块，其特征在于：所述真空吸附平台上的五个气室区间包括一个矩形区间和4个L形区间，L形区间端部宽度相等。

10.根据权利要求1所述的可调高度真空吸平台模块，其特征在于：还包括电缆链条，用于所述位置调整部件在X轴和Y轴方向上的电连接。

11.可调高度真空吸平台模块，包括：

真空吸附平台；

位置调整部件，用于在相互垂直的X轴和Y轴的方向上移动所述真空吸附平台；

其中，真空吸附平台分为上下两层，该下层设有若干个相互平行且长度呈递增或递减的导气槽，下层还设有若干条与导气槽接通的面板导槽，面板导槽与导气槽覆盖住真空吸附平台的待吸附面，真空吸附平台上层均匀设有气孔，气孔将由面板导槽与导气槽接通构成气室与真空吸附平台表面接通，真空吸附平台上还设有用于连接负压发生装置的进气口和出气口。

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