CN213557014U - 一种高纯偏铝酸钠反应釜 - Google Patents

一种高纯偏铝酸钠反应釜 Download PDF

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宗乾收
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Abstract

本实用新型公开了一种高纯偏铝酸钠反应釜,其技术方案要点是:包括釜体和固定底座,所述釜体设置在所述固定底座的上方,所述釜体的底部一侧焊接有固定块,所述固定底座的上表面一侧焊接有支撑板,所述支撑板的顶部与所述固定块铰接,所述固定底座的另一侧焊接有侧板,所述侧板的顶部安装有第一伺服电缸,所述釜体的外表面安装有滑轨,所述滑轨上滑动设置有滑块,所述滑块的顶部焊接有连接块;通过伺服电机带动转轴转动,转轴带动搅拌杆转动,使搅拌杆对原料进行搅拌混合,同时通过第二伺服电缸推动安装板移动,安装板带动伺服电机移动,使搅拌杆在搅拌的同时在釜体内上下移动,从而增加了搅拌效率,增加了混合的充分性。

Description

一种高纯偏铝酸钠反应釜
技术领域
本实用新型涉及高纯偏铝酸钠生产技术领域,特别涉及一种高纯偏铝酸钠反应釜。
背景技术
铝酸钠,又名偏铝酸钠,是一种常见化学物品,白色、无臭、无味,呈强碱性的固体。在土木工程,石油化工,水处理等多个方面有广泛应用。
在高纯偏铝酸钠生产时需要用到反应釜,需要将原料加入反应釜内进行混合,但是现有的高纯偏铝酸钠反应釜依旧存在着一些缺点,如:一、反应釜内部搅拌不够均匀,容易引起物料成分质量不均匀,物料易沉积在反应釜的内底部;二、在混合后,不方便将混合后的原料充分排放。
实用新型内容
针对背景技术中提到的问题,本实用新型的目的是提供一种高纯偏铝酸钠反应釜,以解决背景技术中提到的问题。
本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:
一种高纯偏铝酸钠反应釜,包括釜体和固定底座,所述釜体设置在所述固定底座的上方,所述釜体的底部一侧焊接有固定块,所述固定底座的上表面一侧焊接有支撑板,所述支撑板的顶部与所述固定块铰接,所述固定底座的另一侧焊接有侧板,所述侧板的顶部安装有第一伺服电缸,所述釜体的外表面安装有滑轨,所述滑轨上滑动设置有滑块,所述滑块的顶部焊接有连接块,所述第一伺服电缸的输出端与所述连接块铰接,所述釜体的顶部连通设置有进料管,所述进料管的顶部设置有漏斗,所述漏斗的底部插接在所述进料管内,所述釜体的顶部中间位置安装有第二伺服电缸,所述第二伺服电缸的输出端固定设置有安装板,所述安装板的下表面安装有伺服电机,所述伺服电机的输出端通过联轴器传动连接有转轴,所述转轴的圆周上焊接有搅拌杆,所述釜体的底部一侧连通设置有出料管,所述出料管上安装有阀门。
通过采用上述技术方案,通过伺服电机带动转轴转动,转轴带动搅拌杆转动,使搅拌杆对原料进行搅拌混合,同时通过第二伺服电缸推动安装板移动,安装板带动伺服电机移动,使搅拌杆在搅拌的同时在釜体内上下移动,从而增加了搅拌效率,增加了混合的充分性;通过第一伺服电缸推动连接块,使连接块带动滑块在滑轨上滑动,将推力作用到釜体上,使釜体的底部绕支撑板的顶部转动,能够使釜体发生倾斜,然后打开阀门,将或混合后的原料排出,从而保证了排料的充分性。
较佳的,所述固定底座的上表面焊接有垫板,所述垫板的顶部与所述釜体的下表面接触。
通过采用上述技术方案,垫板能够方便对釜体的底部进行支撑,增加釜体的稳定性。
较佳的,所述滑轨的底部设置有限位块,所述限位块焊接在所述釜体的外表面。
通过采用上述技术方案,限位块能够限制滑块的滑动范围,防止滑块与滑轨上滑出。
较佳的,所述釜体的顶部连通设置有进水管,所述进水管设置在所述出料管的同侧。
通过采用上述技术方案,进水管能够方便向釜体内部输送水,方便对釜体内部进行清洗。
较佳的,所述搅拌杆设置有六组,六组所述搅拌杆在所述转轴上设置有三层。
通过采用上述技术方案,六组搅拌杆能够增加搅拌效果。
较佳的,所述进料管的外侧焊接有定位杆,所述定位杆上螺纹连接有螺杆,所述漏斗的外表面开设有定位孔,所述螺杆的一端插接在所述定位孔内。
通过采用上述技术方案,通过转动螺杆,将螺杆的一端从定位孔内旋出,可以将漏斗的底部从进料管的顶部取出,从而方便对漏斗进行拆装清洗。
较佳的,所述螺杆的端部焊接有旋钮,所述旋钮设置在所述定位杆的外侧,且所述定位杆设置为L型杆。
通过采用上述技术方案,旋钮能够方便对螺杆进行转动。
综上所述,本实用新型主要具有以下有益效果:
第一、通过伺服电机带动转轴转动,转轴带动搅拌杆转动,使搅拌杆对原料进行搅拌混合,同时通过第二伺服电缸推动安装板移动,安装板带动伺服电机移动,使搅拌杆在搅拌的同时在釜体内上下移动,从而增加了搅拌效率,增加了混合的充分性;
第二、通过第一伺服电缸推动连接块,使连接块带动滑块在滑轨上滑动,将推力作用到釜体上,使釜体的底部绕支撑板的顶部转动,能够使釜体发生倾斜,然后打开阀门,将或混合后的原料排出,从而保证了排料的充分性。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图;
图2是本实用新型图1中的A处放大图;
图3是本实用新型图1中的B处放大图。
附图标记:1、釜体;2、固定底座;3、固定块;4、支撑板;5、侧板;6、第一伺服电缸;7、滑轨;8、滑块;9、连接块;10、进料管;11、漏斗;12、第二伺服电缸;13、安装板;14、伺服电机;15、转轴;16、搅拌杆;17、出料管;18、阀门;19、垫板;20、限位块;21、进水管;22、定位杆;23、螺杆;24、定位孔;25、旋钮。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
实施例1
参考图1-3,一种高纯偏铝酸钠反应釜,包括釜体1和固定底座2,所述釜体1设置在所述固定底座2的上方,所述釜体1的底部一侧焊接有固定块3,所述固定底座2的上表面一侧焊接有支撑板4,所述支撑板4的顶部与所述固定块3铰接,所述固定底座2的另一侧焊接有侧板5,所述侧板5的顶部安装有第一伺服电缸6,所述釜体1的外表面安装有滑轨7,所述滑轨7上滑动设置有滑块8,所述滑块8的顶部焊接有连接块9,所述第一伺服电缸6的输出端与所述连接块9铰接,所述釜体1的顶部连通设置有进料管10,所述进料管10的顶部设置有漏斗11,所述漏斗11的底部插接在所述进料管10内,所述釜体1的顶部中间位置安装有第二伺服电缸12,所述第二伺服电缸12的输出端固定设置有安装板13,所述安装板13的下表面安装有伺服电机14,所述伺服电机14的输出端通过联轴器传动连接有转轴15,所述转轴15的圆周上焊接有搅拌杆16,所述釜体1的底部一侧连通设置有出料管17,所述出料管17上安装有阀门18。
参考图1,所述固定底座2的上表面焊接有垫板19,所述垫板19的顶部与所述釜体1的下表面接触;垫板19能够方便对釜体1的底部进行支撑,增加釜体1的稳定性。
参考图2,所述滑轨7的底部设置有限位块20,所述限位块20焊接在所述釜体1的外表面;限位块20能够限制滑块8的滑动范围,防止滑块8与滑轨7上滑出。
参考图1,所述釜体1的顶部连通设置有进水管21,所述进水管21设置在所述出料管17的同侧;进水管21能够方便向釜体1内部输送水,方便对釜体1内部进行清洗。
参考图1,所述搅拌杆16设置有六组,六组所述搅拌杆16在所述转轴15上设置有三层;六组搅拌杆16能够增加搅拌效果。
参考图3,所述进料管10的外侧焊接有定位杆22,所述定位杆22上螺纹连接有螺杆23,所述漏斗11的外表面开设有定位孔24,所述螺杆23的一端插接在所述定位孔24内;通过转动螺杆23,将螺杆23的一端从定位孔24内旋出,可以将漏斗11的底部从进料管10的顶部取出,从而方便对漏斗11进行拆装清洗。
参考图3,所述螺杆23的端部焊接有旋钮25,所述旋钮25设置在所述定位杆22的外侧,且所述定位杆22设置为L型杆;旋钮25能够方便对螺杆23进行转动。
使用原理及优点:
本实用新型通过伺服电机14带动转轴15转动,转轴15带动搅拌杆16转动,使搅拌杆16对原料进行搅拌混合,同时通过第二伺服电缸12推动安装板13移动,安装板13带动伺服电机14移动,使搅拌杆16在搅拌的同时在釜体1内上下移动,从而增加了搅拌效率,增加了混合的充分性;通过第一伺服电缸6推动连接块9,使连接块9带动滑块8在滑轨7上滑动,将推力作用到釜体1上,使釜体1的底部绕支撑板4的顶部转动,能够使釜体1发生倾斜,然后打开阀门18,将或混合后的原料排出,从而保证了排料的充分性。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (7)

1.一种高纯偏铝酸钠反应釜,包括釜体(1)和固定底座(2),其特征在于:所述釜体(1)设置在所述固定底座(2)的上方,所述釜体(1)的底部一侧焊接有固定块(3),所述固定底座(2)的上表面一侧焊接有支撑板(4),所述支撑板(4)的顶部与所述固定块(3)铰接,所述固定底座(2)的另一侧焊接有侧板(5),所述侧板(5)的顶部安装有第一伺服电缸(6),所述釜体(1)的外表面安装有滑轨(7),所述滑轨(7)上滑动设置有滑块(8),所述滑块(8)的顶部焊接有连接块(9),所述第一伺服电缸(6)的输出端与所述连接块(9)铰接,所述釜体(1)的顶部连通设置有进料管(10),所述进料管(10)的顶部设置有漏斗(11),所述漏斗(11)的底部插接在所述进料管(10)内,所述釜体(1)的顶部中间位置安装有第二伺服电缸(12),所述第二伺服电缸(12)的输出端固定设置有安装板(13),所述安装板(13)的下表面安装有伺服电机(14),所述伺服电机(14)的输出端通过联轴器传动连接有转轴(15),所述转轴(15)的圆周上焊接有搅拌杆(16),所述釜体(1)的底部一侧连通设置有出料管(17),所述出料管(17)上安装有阀门(18)。
2.根据权利要求1所述的一种高纯偏铝酸钠反应釜,其特征在于:所述固定底座(2)的上表面焊接有垫板(19),所述垫板(19)的顶部与所述釜体(1)的下表面接触。
3.根据权利要求1所述的一种高纯偏铝酸钠反应釜,其特征在于:所述滑轨(7)的底部设置有限位块(20),所述限位块(20)焊接在所述釜体(1)的外表面。
4.根据权利要求1所述的一种高纯偏铝酸钠反应釜,其特征在于:所述釜体(1)的顶部连通设置有进水管(21),所述进水管(21)设置在所述出料管(17)的同侧。
5.根据权利要求1所述的一种高纯偏铝酸钠反应釜,其特征在于:所述搅拌杆(16)设置有六组,六组所述搅拌杆(16)在所述转轴(15)上设置有三层。
6.根据权利要求1所述的一种高纯偏铝酸钠反应釜,其特征在于:所述进料管(10)的外侧焊接有定位杆(22),所述定位杆(22)上螺纹连接有螺杆(23),所述漏斗(11)的外表面开设有定位孔(24),所述螺杆(23)的一端插接在所述定位孔(24)内。
7.根据权利要求6所述的一种高纯偏铝酸钠反应釜,其特征在于:所述螺杆(23)的端部焊接有旋钮(25),所述旋钮(25)设置在所述定位杆(22)的外侧,且所述定位杆(22)设置为L型杆。
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