CN213537737U

CN213537737U - 一种镀膜玻璃

Info

Publication number: CN213537737U
Application number: CN202022182537.8U
Authority: CN
Inventors: 刘莹; 吕宜超; 王�琦
Original assignee: Shenzhen Csg Applied Technology Co ltd; CSG Holding Co Ltd
Current assignee: Shenzhen Csg Applied Technology Co ltd; CSG Holding Co Ltd
Priority date: 2020-09-28
Filing date: 2020-09-28
Publication date: 2021-06-25
Anticipated expiration: 2030-09-28

Abstract

本实用新型涉及一种镀膜玻璃，包括：玻璃基片；低辐射膜层，设置于所述玻璃基片上；以及高辐射膜层，设置于所述低辐射膜层远离所述玻璃基片的一面上；其中所述低辐射膜层的辐射率小于所述高辐射膜层的辐射率。其可以解决Low‑E镀膜玻璃由于镀膜面的低辐射率，在进行钢化时，膜面很难被辐射加热，导致上、下表面受热不均匀，造成变形甚至炸裂的问题。

Description

一种镀膜玻璃

技术领域

本实用新型涉及玻璃技术领域，尤其涉及到一种镀膜玻璃。

背景技术

Low-E(Low emissivity，低辐射)玻璃，即具有低辐射功能的镀膜玻璃，由于其在建筑门窗上显著的节能效果和丰富的可调节色调而越来越多的被应用于现代住宅、公共建筑中。

通常玻璃强化使用的是物理钢化的方式，它是将平板玻璃在加热炉中加热到接近玻璃的软化温度后，移出加热炉，用多头喷嘴将高压冷空气吹向玻璃的两面，使其迅速且均匀地冷却至室温，最终会形成内部受拉，外部受压的应力状态，以使得玻璃本体强度增大，也称为物理钢化玻璃。经这种方式强化过的玻璃一旦破碎，则会形成无数小块钝角碎片，这些小的碎片没有尖锐棱角，不易伤人。因此，钢化玻璃也是安全玻璃的一种，其应用非常广泛。

通常普通未镀膜的玻璃的上下两表面辐射率是一样的，通常是0.84左右，其吸热性能基本相同，在钢化加温时，上下表面吸热均衡，因此不容易发生变形，而Low-E镀膜玻璃例如双银玻璃(膜面辐射率0.03～0.08)，三银玻璃(膜面辐射率小于0.03)，由于其镀膜面的低辐射率、对红外辐射具有高反射特性，其在物理钢化时，膜面会将大量的热辐射反射出去，从而很难被辐射加热，下表面由于与辊道直接接触传导加热，受热更快，因此玻璃上、下表面受热不均匀，膨胀程度不一致，容易造成翘曲变形，甚至炸裂。因此，如何既能实现Low-E镀膜玻璃的低辐射功能，又能避免上、下表面的辐射率差异导致在钢化处理时上、下表面受热不均匀是当前亟待解决的问题。

发明内容

因此，本实用新型实施例提出一种镀膜玻璃，其可以解决Low-E镀膜玻璃钢化时上、下表面受热不均匀，造成变形甚至炸裂的问题。

具体的，本实用新型实施例提出一种镀膜玻璃，包括：玻璃基片；低辐射膜层，设置于所述玻璃基片上；以及高辐射膜层，设置于所述低辐射膜层远离所述玻璃基片的一面上；其中，所述低辐射膜层的辐射率小于所述高辐射膜层的辐射率和所述玻璃基片的辐射率。

在本实用新型的一个实施例中，所述高辐射膜层的辐射率大于0.3且小于等于0.99；所述高辐射膜层和所述玻璃基片的辐射率差值的绝对值小于所述低辐射膜层和所述玻璃基片的辐射率差值的绝对值。

在本实用新型的一个实施例中，所述低辐射膜层的辐射率范围为0.001～0.15，更优的为0.001～0.08，最优的为0.001～0.03。

在本实用新型的一个实施例中，所述高辐射膜层的厚度范围为5～500nm。

在本实用新型的一个实施例中，所述低辐射膜层包括功能层，还包括位于所述功能层与所述玻璃基片之间的介质层，及位于所述功能层与所述高辐射膜层之间的保护层，其中所述介质层与玻璃基片相邻，所述保护层与所述高辐射膜层相邻。

在本实用新型的一个实施例中，所述低辐射膜层包括的所述功能层的层数为1～5层，更优的为1～4层，最优的为2～3层，其中每一层所述低辐射功能层的厚度为1～50纳米，更优的为2～40纳米，最优的为3～30纳米。

在本实用新型的一个实施例中，所述高辐射膜层的厚度范围为0.01～100微米，更优的为1～50微米，最优的为5～30微米。

在本实用新型的一个实施例中，所述低辐射膜层包括：依次形成于所述玻璃基片的所述第二面上的第一介质层、第一种子层、第一功能层、第一保护层、第二介质层、第二保护层、第二功能层、第二保护层、第三介质层、第三种子层、第三功能层，及第三保护层，其中，所述第三保护层与所述高辐射膜层相邻，所述第一介质层与所述玻璃基片相邻。

在本实用新型的一个实施例中，所述玻璃基片的厚度范围为3～22毫米。

另外，本实用新型实施例提出又一种镀膜玻璃，包括：玻璃基片，包括相对的第一面和第二面；第一低辐射膜层，设置于所述玻璃基片的所述第一面上；第二低辐射膜层，设置于所述玻璃基片的所述第二面上；其中，所述第二低辐射膜层的辐射率范围为0.001～0.3，所述第一低辐射膜层的辐射率与所述第二低辐射膜层的辐射率相同。

由上可知，本申请上述技术特征可以具有如下有益效果：通过在镀膜玻璃的低辐射膜层远离玻璃基片的一面上设置高辐射膜层，其辐射率大于0.3且小于等于0.99，能够在钢化处理之前提升低辐射膜层侧的辐射率，避免镀膜玻璃由于相对两面的辐射率差异，在钢化处理时受热不均匀导致翘曲变形，甚至炸裂的问题；通过在玻璃的相对两面分别镀制第一低辐射膜层和第二低辐射膜层，也能避免镀膜玻璃的相对两面的辐射率差异导致在钢化处理时受热不均匀导致翘曲变形的问题。

通过以下参考附图的详细说明，本申请的其他方面的特征变得明显。但是应当知道，该附图仅仅为解释的目的设计，而不是作为本申请的范围的限定。还应当知道，除非另外指出，不必要依比例绘制附图，它们仅仅力图概念地说明此处描述的结构和流程。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。

在附图中：

图1为本实用新型的第一实施例的一种镀膜玻璃的结构示意图；

图2为本实用新型的第一实施例的一种低辐射膜层的结构示意图；

图3为本实用新型的第一实施例的又一种低辐射膜层的结构示意图；

图4为本实用新型的第一实施例的再一种低辐射膜层的结构示意图；

图5为本实用新型的第二实施例的一种镀膜玻璃的结构示意图。

附图标记说明

10：镀膜玻璃；11：玻璃基片；12：低辐射膜层；13：高辐射膜层；111：第一面；112：第二面；

121：第一介质层；122：第一种子层；123：第一功能层；124：第一保护层；125：第二介质层；126：第二种子层；127：第二功能层；128：第二保护层；129：第三介质层；1210：第三种子层；1211：第三功能层；1212：第三保护层；

20：镀膜玻璃；21：玻璃基片；22：第一低辐射膜层；23：第二低辐射膜层；211：第一面；212：第二面。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以互相组合。下面将参考附图并结合实施例来说明本申请。

为了使本领域普通技术人员更好地理解本申请的技术方案，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例，都应当属于本申请的保护范围。

需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等适用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应当理解这样使用的术语在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外。术语“包括”和“具有”以及它们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备所有的其它步骤或单元。

【第一实施例】

如图1所示，本申请实施例提出一种镀膜玻璃，镀膜玻璃10例如包括：玻璃基片11、低辐射膜层12和高辐射膜层13。其中，玻璃基片10包括第一面111和与第一面111相对的第二面112；低辐射膜层12设置于玻璃基片11的第二面112上；高辐射膜层13设置于低辐射膜层12远离玻璃基片11的一面上。

玻璃基片11例如为普通平板玻璃，主要材料为氧化硅、硅酸盐等，厚度范围例如为3～22mm。其表面辐射率为0.84左右。辐射率是指衡量物体表面以辐射的形式释放能量相对强弱的能力，物体的辐射率等于物体在一定温度下辐射的能量与同一温度下黑体辐射能量之比，黑体的辐射率等于1，其他物体的辐射率介于0和1之间。也就是说，物体辐射能量的能力越强，其辐射率越接近1；物体辐射能量的能力越弱，其辐射率越接近0。

低辐射膜层12例如为LOW-E玻璃(Low Emissivity Glass)上的镀膜层，该低辐射膜层12具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性，使LOW-E玻璃与普通玻璃及传统的建筑用镀膜玻璃相比，具有优异的隔热效果和良好的透光性。在本实施例中，该低辐射膜层12的辐射率范围例如为0.001～0.3。

举例而言，如图2所示，低辐射膜层12例如包括依次层叠设置于玻璃基片11的第二面112上的第一介质层121、第一种子层122、第一功能层123、第一保护层124。第一介质层121与玻璃基片11相邻，第一保护层124与高辐射膜层13相邻。其中，第一介质层121用于阻挡玻璃基板10中的钠在钢化过程中扩散到低辐射膜层12中，其材料例如包括氧化硅(SiO₂)、氮化硅(Si₃N₄)、氧化铝(Al₂O₃)、氮化铝(AlN)、氮氧化硅(SiON)或氮氧化铝(AlON)中的一种或多种。第一功能层123具有对可见光的高透过率，对远红外光的高反射率即低辐射率的特点，其材料例如包括铜(Cu)、铝(AL)、银(Ag)、金(Au)的单质或合金。第一种子层122具有光滑的特性，能使上面的膜层更均匀，提升第一功能层123的性能，其材料例如为复合材料，例如包括氧化锌(ZnO)、氧化铝(Al₂O₃)、氧化铅(NbO)、氧化钛(TiO₂)中的一种或多种。第一保护层124的材料例如为镍(Ni)、铬(Cr)、钼(Mo)、钛(Ti)、锌(Zn)、锡(Sn)、铝(Al)等材料的单质、合金、氮化物或氧化物中一种或多种，用于保护第一功能层123在钢化过程中免受氧气和其它污染物的侵袭。

值得一提的是，上述低辐射膜层12的结构为单功能层例如单银结构，在本申请的其它实施方式中，低辐射膜层12还可以为多功能层结构，例如双银结构，如图3所示，低辐射膜层12例如还包括依次形成于第一保护层124上的第二介质层125、第二种子层126、第二功能层127、第二保护层128。其中，第二保护层128与高辐射膜层13相邻，第二介质层125与第一保护层124相邻。

当然，在本申请的其它实施方式中，低辐射膜层12还可以为三银结构等，如图4所示，低辐射膜层12例如还包括依次形成于第二保护层128上的第三介质层129、第三种子层1210、第三功能层1211、第三保护层1212。其中，第三保护层1212与高辐射膜层13相邻，第三介质层129与第二保护层128相邻。

进一步地，第一介质层121、第二介质层125和第三介质层129的厚度范围为不大于100nm；第一种子层122、第二种子层和第三种子层1210的厚度范围为不大于30nm；第一保护层124、第二保护层128和第三保护层1212的厚度范围为不大于35nm。

此外，低辐射膜层12可以为现有的LOW-E玻璃的镀膜层，其各个膜层组合方式以及材料组成根据需求自由选择，本申请并不以此为限。在本申请的一个实施方式中，低辐射膜层12的所述功能层的层数例如为1～5层，为了达到较好的低辐射效果并控制成本，低辐射膜层12的所述功能层的层数更优的为1～4层，最优的为2～3层。

进一步地，在低辐射膜层12中，每一层所述功能层的厚度范围例如为1～50纳米，更优的为2～40纳米，最优的为3～30纳米。低辐射膜层12的辐射率范围例如为0.001～0.15，更优的为0.001～0.08，最优的为0.001～0.03。

进一步的，低辐射膜层12例如为单银结构的LOW-E玻璃的镀膜层，其辐射率一般为0.09～0.15；低辐射膜层12例如为双银结构，其辐射率一般为0.03～0.08；低辐射膜层12例如为三银结构，其辐射率一般小于0.03，而玻璃基片11的辐射率一般为0.84左右。由于低辐射膜层12的辐射率远低于玻璃基片11的辐射率，因此低辐射膜层12对红外辐射具有高反射特性，其在物理钢化时会将大量的热辐射反射出去，导致第二面112很难被辐射加热，第一面111由于与辊道直接接触传导加热，受热更快，因此玻璃基片11的第二面112和第一面111受热不均匀，膨胀程度不一致，容易造成翘曲变形，甚至炸裂。

在低辐射膜层12远离玻璃基片11的一面还镀有高辐射膜层13，在本实施例的一个实施方式中，高辐射膜层13和玻璃基片11的辐射率差值的绝对值小于低辐射膜层12和玻璃基片的辐射率差值的绝对值。

如图1所示，高辐射膜层13的材料例如为半导体材料比如AZO(Aluminum ZinkOxide，铝锌氧化物)、ATO(Antimony Tin Oxide，锑锡氧化物)、ITO(Indium Tin Oxide，铟锡氧化物)、TZO(Titanium Zink Oxide，钛锌氧化物)中的一种。上述材料在钢化处理前具有高辐射率的特点，能够提升玻璃基片11的第二面112的辐射率，具体的，该高辐射膜层13的辐射率范围为0.3～0.9。优选的，高辐射膜层13的辐射率为0.84，与玻璃基片11的第一面111的表面辐射率相同，从而在钢化加温时使得第一面111和第二面112吸热平衡。高辐射膜层13的厚度范围例如为1～1000nm，为了更好地达到辐射率变化的效果，高辐射膜层13的厚度范围更优的为5～500纳米，最优的为10～300纳米。

同时，在玻璃基片11进行钢化处理时，上述高辐射膜层13的半导体材料比如AZO、ATO、ITO在经过高温加热处理后会发生氧化还原反应，其材料的晶体结构发生改变，表面辐射率会相应降低，导电性能增强。具体的，高温加热处理后高辐射膜层13的表面辐射率发生变化，例如降低至0.001～0.5之间，与低辐射膜层12的辐射率范围相近，为了达到更接近低辐射膜层12的辐射率的效果，高辐射膜层13钢化后的辐射率范围更优的为0.005～0.3，最优的为0.01～0.15。如此一来，高辐射膜层13在钢化处理后辐射率降低，避免了影响低辐射膜层的功能。

在本实施例的另一个实施方式中，高辐射膜层13的材料例如为碳或含碳的有机涂料，即石墨涂层，其辐射率最高可达0.98。由于碳材料的高吸热特性使玻璃基板10的第二面112在钢化处理时迅速被加热，达到第二面112和第一面111吸热平衡的目的，而且在空气流通的钢化炉中处理，可以使高辐射膜层13完全燃烧除去，露出原来的低辐射膜层12，使镀膜玻璃11再钢化处理后具备低辐射玻璃的特性，能够达到与前述实施方式相同的有益效果。

在本实施例的又一个实施方式中，高辐射膜层13的材料例如为有机聚合物涂料，具体的，其例如为PUA(聚氨酯丙烯酸酯)或者清漆，同样具有高辐射率的特性，设置于低辐射膜层12远离玻璃基片11的一面上，能够使镀膜玻璃10的镀膜层的表面辐射率升高，达到第二面112和第一面111吸热平衡的目的。当然，上述有机聚合物材料在镀膜玻璃11经过钢化处理过程中的高温加热处理后也能够被完全燃烧除去，露出原来的低辐射膜层12，使镀膜玻璃11在钢化处理后具备低辐射玻璃的特性，能够达到与前述实施方式相同的有益效果。

值得一提的是，在高辐射膜层13的材料为碳或含碳的有机涂料的实施方式中，以及高辐射膜层13的材料为PUA(聚氨酯丙烯酸酯)或者清漆的实施方式中，高辐射膜层13的厚度范围例如为0.01～100微米，为了达到更好的平衡辐射率的效果，高辐射膜层13的厚度范围更优的为1～50微米，最优的为5～30微米。

综上所述，本实用新型的第一实施例通过在镀膜玻璃的低辐射膜层远离玻璃基片的一面上设置高辐射膜层，其辐射率大于0.3且小于等于0.9，能够在钢化处理之前提升镀膜面的辐射率，避免镀膜玻璃由于相对两面的辐射率差异，在钢化处理时受热不均匀导致翘曲变形，甚至炸裂的问题，同时镀膜玻璃在钢化处理后高辐射膜层发生氧化还原反应，辐射率降低，或者在钢化过程中完全燃烧除去，能够达到现有的低辐射玻璃的降低远红外光辐射的效果。

【第二实施例】

如图4所示，本实用新型的第二实施例提出一种镀膜玻璃，镀膜玻璃20例如包括：玻璃基片21、第一低辐射膜层22和第二低辐射膜层23。玻璃基片21包括相对的第一面211和第二面212；第一低辐射膜层22设置于玻璃基片20的第一面211上；第二低辐射膜层23设置于玻璃基片21的第二面212上。其中，第二低辐射膜层23的辐射率范围为0.001～0.3，第一低辐射膜层22的辐射率与第二低辐射膜层23的辐射率相同。

具体的，第一低辐射膜层22和第二低辐射膜层23例如与前述第一实施例中所述的低辐射膜层12的结构和材料相同，低辐射膜层12的具体描述如第一实施例所述，在此不再赘述。值得一提的是，第一低辐射膜层22和第二低辐射膜层23可以为现有的LOW-E玻璃的镀膜层，其各个膜层组合方式以及材料组成根据需求自由选择，本申请并不以此为限。

综上所述，本实用新型的第二实施例通过在玻璃的相对两面分别镀制第一低辐射膜层和第二低辐射膜层，也能避免镀膜玻璃的相对两面的辐射率差异导致在钢化处理时受热不均匀导致翘曲变形的问题。

此外，可以理解的是，前述各个实施例仅为本申请的示例性说明，在技术特征不冲突、结构不矛盾、不违背本申请的发明目的前提下，各个实施例的技术方案可以任意组合、搭配使用。

最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本申请的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的精神和范围。

Claims

1.一种镀膜玻璃，其特征在于，包括：

玻璃基片；

低辐射膜层，设置于所述玻璃基片上；以及

高辐射膜层，设置于所述低辐射膜层远离所述玻璃基片的一面上；

其中，所述低辐射膜层的辐射率小于所述高辐射膜层的辐射率和所述玻璃基片的辐射率。

2.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述高辐射膜层的辐射率大于0.3且小于等于0.99；所述高辐射膜层和所述玻璃基片的辐射率差值的绝对值小于所述低辐射膜层和所述玻璃基片的辐射率差值的绝对值。

3.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述低辐射膜层的辐射率范围为0.001～0.15。

4.根据权利要求3所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述低辐射膜层的辐射率范围为0.001～0.08。

5.根据权利要求4所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述低辐射膜层的辐射率范围为0.001～0.03。

6.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述高辐射膜层的厚度范围为1～1000纳米。

7.根据权利要求6所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述高辐射膜层的厚度范围为5～500纳米。

8.根据权利要求7所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述高辐射膜层的厚度范围为10～300纳米。

9.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述低辐射膜层包括功能层，还包括位于所述功能层与所述玻璃基片之间的介质层，及位于所述功能层与所述高辐射膜层之间的保护层，其中所述介质层与玻璃基片相邻，所述保护层与所述高辐射膜层相邻。

10.根据权利要求9所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述低辐射膜层包括的所述功能层的层数为1～5层，其中每一层所述功能层的厚度为1～50纳米。

11.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述高辐射膜层的厚度范围为0.01～100微米。

12.根据权利要求11所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述高辐射膜层的厚度范围为1～50微米。

13.根据权利要求12所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述高辐射膜层的厚度范围为5～30微米。

14.根据权利要求10所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述低辐射膜层包括：依次形成于所述玻璃基片上的第一介质层、第一种子层、第一功能层、第一保护层、第二介质层、第二种子层、第二功能层、第二保护层、第三介质层、第三种子层及第三保护层，其中，所述第三保护层与所述高辐射膜层相邻，所述第一介质层与所述玻璃基片相邻。

15.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述玻璃基片的厚度范围为3～22毫米。

16.一种镀膜玻璃，其特征在于，包括：

玻璃基片，包括相对的第一面和第二面；

第一低辐射膜层，设置于所述玻璃基片的所述第一面上；

第二低辐射膜层，设置于所述玻璃基片的所述第二面上；

其中，所述第二低辐射膜层的辐射率范围为0.001～0.3，所述第一低辐射膜层的辐射率与所述第二低辐射膜层的辐射率相同。