CN213289708U - 一种硅块磨抛设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种硅块磨抛设备，涉及硅块磨抛的技术领域，其技术方案要点是包括底座；滑台机构，其用于对硅块进行夹持；以及磨轮机构，其设置在底座顶部用于对硅块进行磨抛加工，滑台机构对硅块进行夹持，磨轮机构用于对夹持在滑台机构上的硅块进行磨抛操作，能够实现对小尺寸硅块的磨抛操作。

Description

一种硅块磨抛设备

技术领域

本实用新型涉及硅块磨抛的技术领域，更具体的说，它涉及一种硅块磨抛设备。

背景技术

硅棒在经过开方工序加工之后，会产生四块带有圆弧面的边皮料，为了对边皮料进行利用，对边皮料进行截断加工之后，会形成长方形的硅块，截断后的硅块，需要对硅块的四个侧面进行磨抛加工，并且需要在硅块的四个侧边处加工出倒角，现有的硅块磨抛设备大多适用于大体积的硅条的磨抛，无法灵活的对小体积的硅块进行磨抛加工，现在亟需一种适用于小体积硅块磨抛加工的硅块磨抛设备。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种硅块磨抛设备，其适用于对小体积硅块进行磨抛操作。

为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：一种硅块磨抛设备，包括底座；

滑台机构，其用于对硅块进行夹持；

以及磨轮机构，其设置在底座顶部用于对夹持在滑台机构上的硅块进行磨抛加工。

通过采用上述技术方案，滑台机构对硅块进行夹持，磨轮机构用于对夹持在滑台机构上的硅块进行磨抛操作，能够实现对小尺寸硅块的磨抛操作。

本实用新型进一步设置为：所述滑台机构包括箱体；

转盘，其转动连接在箱体上；

以及上转动组件，其用于将硅块压紧在转盘上，当硅块被压紧在转盘上时，上转动组件与硅块接触的部分能够跟随转盘一起转动。

通过采用上述技术方案，通过对硅块进行转动，能够将硅块需要进行加工的面对准磨轮机构，从而能够通过磨轮机构对硅块的不同面进行磨抛操作，还能够实现对硅块四个侧边的倒角操作。

本实用新型进一步设置为：所述滑台机构还包括压紧件，其用于推动上转动组件将硅块压紧在转盘上。

本实用新型进一步设置为：还包括上料传送带，其设置在底座上料一端，用于将未加工的硅块朝向靠近底座的方向输送；

以及上料组件，其设置在底座靠近上料端一侧，用于将上料传送带上的硅块送到滑台机构中；

滑台机构能够在底座的上料端和下料端之间进行滑动。

通过采用上述技术方案，将硅块依次放置在上料传送带上，上料传送带将硅块传送至靠近底座的位置，然后由上料组件将硅块从上料传送带转运到滑台机构中，无需人工进行硅块的转运。

本实用新型进一步设置为：还包括下料传送带，其设置在底座下料端，用于将磨抛结束的硅块送出；

以及下料组件，其设置在底座靠近下料端一侧，用于将滑台机构中磨抛结束的硅块送到下料传送带上。

通过采用上述技术方案，下料组件将滑台机构当中加工结束的硅块转运到下料传送带上，下料传送带将硅块送出，无需人工将滑台机构中加工结束的硅块送出。

本实用新型进一步设置为：所述上料组件和下料组件的结构相同，所述上料组件包括支撑架；

以及固定件，其能够在支撑架上沿滑台机构的滑动方向进行滑动，并且能够在支撑架上沿靠近和远离支撑架的方向进行滑动，固定件能够将硅块固定在固定件上。

通过采用上述技术方案，上料时，上料组件的固定件滑动至上料传送带一侧，然后固定件朝向靠近上料传送带的方向滑动，固定件滑动至上料传送带上方时，将要转移的硅块固定在固定件上，然后固定件朝向靠近支撑架的方向滑动，然后固定件滑动至滑台机构一侧，之后固定件朝向靠近滑台机构的方向滑动，固定件伸入滑台机构当中后，松开对硅块的固定，然后固定件朝向靠近支撑架方向滑动，完成上料过程；下料的时候，通过下料组件的固定件将硅块输送到下料传送带上。

本实用新型进一步设置为：所述固定件还能够在支撑架上沿竖直方向进行滑动。

通过采用上述技术方案，固定件上下滑动，能够在上料传送带、下料传送带以及滑台机构支撑硅块处高度不同时仍然能够进行硅块转运。

本实用新型进一步设置为：还包括对中机构，其设置在底座顶部并且位于底座的上料端；

对中机构包括对中支架，其设置在底座上；

以及两对中板，两对中板能够在对中支架上沿相互靠近和相互远离的方向滑动。

通过采用上述技术方案，通过设置对中板，能够将硅块的位置进行定位，最终加工的硅块的尺寸更加精准。

本实用新型进一步设置为：还包括料仓机构，其用于对待加工的硅块进行储存；

所述料仓机构包括输送带，上料传送带两侧都设置有输送带，上料传送带两侧的输送带靠近上料传送带一侧能够同时向下传送；

以及置物板，其设置有两组，每组都包括若干置物板，两组置物板分别设置在上料传送带两侧的输送带的外侧；

两组置物板一一对应，相对应的两置物板位于输送带靠近上料传送带一侧时，两置物板的顶部相互平齐。

通过采用上述技术方案，位于输送带靠近上料传送带一侧的相对应的两置物板的顶部都放置一硅块进行储存，当相对应的两置物板跟随输送带运动至靠近上料传送带顶部的位置时，两置物板相互靠近的一侧向下翻转，并且硅块的底部与上料传送带的顶部接触，从而将硅块送到了上料传送带上。

本实用新型进一步设置为：还包括距离检测件，其设置在磨轮机构一侧，用于检测硅块待加工面与距离检测件之间的距离；

以及控制系统，其用于接收距离检测件检测的距离信息，根据距离信息确定磨抛加工的加工量，并根据加工量控制磨轮机构完成磨抛操作。

综上所述，本实用新型相比于现有技术具有以下有益效果：本实用新型滑台机构对硅块进行夹持，磨轮机构用于对夹持在滑台机构上的硅块进行磨抛操作，能够实现对小尺寸硅块的磨抛操作。

附图说明

图1为实施例的整体结构的示意图；

图2为实施例的料仓机构和上料传送带的示意图；

图3为图2的B部放大示意图；

图4为实施例的上料组件的示意图；

图5为实施例的滑台机构和对中机构的示意图；

图6为实施例的滑台机构的剖视图；

图7为图1的A部放大示意图。

图中：1、底座；2、料仓机构；21、料仓架；22、输送带；221、带体；222、转动辊；223、连接辊；23、置物板；24、连接板；25、同步组件；251、同步辊；252、齿轮；253、同步带；3、上料传送带；31、架体；4、上料组件；41、支撑架；42、固定件；5、下料组件；6、对中机构；61、对中支架；62、对中板；63、对中件；7、滑台机构；71、滑板；72、箱体；73、转盘；74、上转动组件；741、固定套；742、压紧杆；743、压紧板；75、压紧件；76、减速器；77、转轴；8、磨轮机构；81、磨轮架；82、磨轮；9、下料传送带。

具体实施方式

为了使本领域的人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合本实用新型的附图，对本实用新型的技术方案进行清楚、完整的描述，基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的其它类同实施例，都应当属于本申请保护的范围。此外，以下实施例中提到的方向用词，例如“上”“下”“左”“右”等仅是参考附图的方向，因此，使用的方向用词是用来说明而非限制本实用新型创造。

下面结合附图和较佳的实施例对本实用新型作进一步说明。

实施例：一种硅块磨抛设备，参见附图1，包括底座1、设置在底座1顶部的用于对硅块进行磨抛的磨轮机构8、设置在底座1顶部并且能够在底座1上料端和下料端之间进行滑动的滑台机构7、设置在底座1上料端的上料传送带3、设置在底座1下料端的下料传送带9、设置在上料传送带3上料一端的料仓机构2、设置在底座1一侧靠近底座1上料端的上料组件4、设置在底座1一侧靠近底座1下料端的下料组件5以及设置在底座1顶部靠近上料端的对中机构6。

硅块存储在料仓机构2当中，上料的时候，料仓机构2当中的硅块间歇性的被送到上料传送带3上，由上料传送带3将硅块输送至靠近底座1的一端，然后上料组件4将硅块转运至滑台机构7上，对中机构6对滑台机构7上的硅块进行对中操作，然后滑台机构7带动硅块移动至磨轮机构8处，通过磨轮机构8对硅块进行磨抛加工，加工完毕之后，滑台机构7带动硅块移动至靠近下料传送带9的位置，下料组件5将加工完毕的硅块从滑台机构7上转运至下料传送带9上，下料传送带9将加工完毕的硅块送出。

底座1的上料端和下料端之间的连线水平设置，底座1的上料端和下料端分别位于底座1长度方向两端，滑台机构7在底座1上沿底座1的长度方向进行滑动；优选的，本实施例中，上料传送带3和下料传送带9顶部的传送方向与底座1的长度方向相互平行。

参见附图2和附图3，上料传送带3通过架体31对上料传送带3进行支撑，料仓机构2包括设置在上料传送带3两侧的两组输送带22以及两组置物板23，两组输送带22都包括至少一个输送带22，优选的，本实施例中，每一组输送带22包括两输送带22；输送带22包括两转动辊222以及绕设在两转动辊222外侧形成闭环的带体221；每一个输送带22的两转动辊222都沿竖直方向排布，转动辊222的轴线方向与上料传送带3顶部的传送方向相互平行，从而使得若干带体221靠近传送带一侧都竖直设置，并且带体221的宽度方向与上料传送带3的传送方向相互平行。两组置物板23都包括若干个置物板23，两组置物板23分别设置在两组输送带22的带体221上，每一个置物板23都同时固定在同一组输送带22的两带体221上；两组的若干置物板23一一对应，当相对应的两置物板23同时位于输送带22靠近上料传送带3一侧时，两置物板23的顶部相互平齐，此时相对应的两置物板23能够对同一块硅块进行支撑。

在输送带22靠近上料传送带3一侧的相对应的两置物板23的顶部都放置一块待加工的硅块，当相对应的两置物板23跟随输送带22运动至靠近上料传送带3顶部的位置时，两置物板23相互靠近的一侧向下翻转，并且硅块的底部与上料传送带3的顶部接触，从而将硅块送到了上料传送带3上。

置物板23与带体221之间的连接方式可以采用卡接或者螺栓连接的方式进行连接，优选的，本实施例中，通过螺栓连接的方式将置物板23固定连接在带体221上；每一个置物板23上都固定连接有用于与带体221进行连接的连接板24，连接板24与固定该置物板23的两带体221相互贴合并且通过螺栓固定连接在两带体221上；优选的，本实施例中，螺栓为沉头螺栓，连接板24靠近置物板23一侧开设有用于容纳沉头螺栓的螺栓头的沉孔，螺栓的螺杆穿过连接板24后与嵌入带体221当中的固定块螺纹连接在一起；连接板24与其中带体221之间的连接都通过至少一根螺栓完成，优选的，本实施例中通过一根螺栓完成。

当相对应的两置物板23位于输送带22靠近上料传送带3一侧时，两置物板23上的两连接板24位于置物板23顶部，并且两置物板23上的两连接板24相互靠近一侧之间的距离等于硅块的长度或宽度，优选的，本实施例中，两连接板24之间的距离等于硅块的宽度；通过限制两连接板24之间的距离，能够通过连接板24对放置在置物板23上的硅块进行限位。

为了实现同一组的两输送带22输送的同步性，可以采用一下几种方案：

第一、同一组的两输送带22顶部的两转动辊222通过与两转动辊222同轴的连接辊223连接在一起，同一组的两输送带22底部的两转动辊222通过与两转动辊222同轴的连接辊223连接在一起；

第二、同一组输送带22的两带体221共用两转动辊222；

优选的，本实施例中选用第一种方式实现同一组的两输送带22的同步传送。

架体31的顶部固定连接有用于对转动辊222进行支撑的料仓架21，转动辊222转动连接再料仓架21上，料仓架21上设置有用于带动两组输送带22同步传送的同步组件25，同步组件25包括两同步辊251、固定连接在两同步辊251上并且相互啮合的两齿轮252、固定连接在料仓架21上的用于带动其中一同步辊251转动的电机以及两同步带253；同步辊251转动连接在料仓架21上，同步辊251的轴线方向与转动辊222的轴线相互平行；每一根同步辊251与靠近该同步辊251的一组输送带22中的一转动辊222通过同步带253传动连接在一起，同步带253套设在该同步辊251与转动辊222外形成闭环。电机带动其中一同步辊251转动，就能够同时带动两组输送带22的带体221靠近上料传送带3一侧实现同步向下传送。

参见附图1和附图4，上料组件4与下料组件5的结构相同，本实施例中以上料组件4为例进行说明，上料组件4包括支撑架41以及设置在支撑架41上的固定件42，固定件42能够将硅块固定在固定件42上，固定件42可以为吸盘、夹爪或者其他能够对硅块进行拾取的器件，优选的，本实施例中，固定件42为吸盘。固定件42能够在支撑架41上沿滑台机构7的滑动方向进行滑动，固定件42能够在支撑架41上沿靠近和远离支撑架41的方向滑动，并且固定件42还能够在支撑架41上沿竖直方向滑动，固定件42每个方向的滑动都可以通过气缸、油缸、丝杆或者其他能够带动物体进行滑动的器件实现，优选的，本实施例中，通过滑台气缸带动固定件42沿滑台机构7的滑动方向进行滑动，通过气缸带动固定件42沿靠近和远离支撑架41的方向滑动，通过气缸带动固定件42沿竖直方向滑动。滑台气缸的滑台上固定连接有带动固定件42沿靠近和远离支撑架41的方向滑动的气缸，该气缸的活塞杆上固定连接有带动固定件42沿竖直方向滑动的气缸，固定件42固定连接在带动其沿竖直方向进行滑动的气缸的活塞杆上。

上料时，上料组件4的固定件42滑动至上料传送带3一侧，然后固定件42朝向靠近上料传送带3的方向滑动，固定件42滑动至上料传送带3上方时，将要转移的硅块吸附在固定件42上，支撑架41的方向滑动，然后固定件42滑动至滑台机构7一侧，之后固定件42朝向靠近滑台机构7的方向滑动，固定件42伸入滑台机构7当中后，松开对硅块的吸附，然后固定件42朝向靠近支撑架41方向滑动，完成上料过程；下料的时候，通过下料组件5的固定件42将硅块输送到下料传送带9上。

参见附图5和附图6，滑台机构7包括设置在底座1顶部的滑板71、固定连接在滑板71顶部的箱体72、转动连接在箱体72顶部的转盘73、用于将硅块压紧在转盘73上的上转动组件74以及用于带动上转动组件74对硅块进行压紧的压紧件75；箱体72当中设置有用于带动转盘73进行转动的电机，优选的，本实施例中，箱体72中的电机为伺服电机；转盘73的底部固定连接有与转盘73同轴的转轴77，转轴77转动连接在箱体72顶部，伺服电机通过减速器76与转轴77连接在一起并且通过减速器76带动转轴77进行转动。本实施例中，转盘73的轴线竖直设置，以使得硅块放置在转盘73顶部的时候不容易发生滑动，当然，在某些实施例中，转盘73的轴线方向设置为其他方向也可以，只需要保证被夹持在转盘73上的硅块的四个侧面以及四个侧边通过转盘73的转动后都能够被磨轮机构8加工到即可。

压紧件75可以为夹紧气缸、连杆机构、液压缸、丝杆以及能够带动物体进行摆动或滑动的其他器件，优选的，本实施例中，压紧件75为夹紧气缸，夹紧气缸通过摆臂的摆动，带动上转动组件74进行摆动，当上转动组件74向下摆动的时候，能够实现将硅块压紧在转盘73顶部，压紧件75固定连接在滑板71上。

上转动组件74包括固定在压紧气缸摆臂上的固定套741、转动连接在固定套741上的压紧杆742以及固定连接在压紧杆742背离摆臂一端的压紧板743，当压紧板743将硅块压紧在转盘73顶部的时候，压紧杆742与转盘73同轴，从而使得压紧板743在压紧硅块的时候，能够跟随转盘73一起进行转动。

滑板71在底座1顶部的滑动可以通过气缸、液压缸、丝杆以及其他能够带动物体往复滑动的器件实现，优选的，本实施例中，底座1通过转动连接在底座1上的丝杆带动其进行滑动，丝杆一端设置有带动丝杆转动的伺服电机，丝杆贯穿滑板71并且与滑板71螺纹连接在一起，滑板71的底部与底座1顶部相互接触或者底座1顶部设置有供滑板71滑动的滑轨，以防止滑板71滑动时跟随丝杆一起进行转动，优选的，本实施例中，底座1的顶部设置有供滑板71滑动的滑轨，滑板71的底部开设有供滑轨穿过的槽。

对中机构6包括固定连接在底座1顶部的对中支架61以及设置在对中支架61上的两对中板62，两对中板62能够在对中支架61上沿相互靠近和相互远离的方向滑动；两对中板62相互靠近的一侧相互平行并且与转盘73的轴线相互平行，当转盘73位于两对中板62之间的时候，转盘73的轴线与两对中板62之间的距离相等。当硅块被放置在转盘73顶部的时候，箱体72滑动，带动硅块运动至两对中板62之间，转盘73转动，使得硅块相对的两侧面与两对中板62相互靠近的一侧相互平行，然后两对中板62同步朝向相互靠近的方向滑动，对硅块进行对中，然后转盘73进行转动，进行另外两个侧面的对中，从而使得硅块竖直方向的中线与转盘73的轴线相互重合。

对中机构6还包括固定连接在对中板62上的对中件63，对中件63用于带动两对中板62同时朝向相互靠近或相互远离的方向滑动，优选的，本实施例中，对中件63为平行夹爪气缸，两对中板62分别固定连接在对中件63的两夹爪上。

参见附图1和附图7，磨轮机构8包括两磨轮架81以及设置在两磨轮架81相互靠近一侧的两磨轮82，磨轮架81上都设置有用于带动磨轮82进行转动的电机。两磨轮架81能够在底座1上沿相互靠近和远离的方向进行滑动，磨轮架81在底座1上的滑动结构与滑动板在底座1上的滑动结构相同，在此不做赘述。磨轮82的轴线与转盘73的轴线相互垂直，当转盘73滑动至两磨轮82之间的时候，转盘73位于两磨轮82之间的中间位置；磨轮架81的滑动方向与磨轮82的轴线方向相互平行。

在某些实施例中，磨轮架81的一侧设置有距离检测件，优选的距离检测件为光学距离传感器，其用于检测硅块侧面与距离检测件之间的距离，硅块磨抛设备还包括控制系统，控制系统用于接收距离检测件所检测的距离，根据检测的距离得到硅块侧面的加工量，根据加工量计算出设置有该距离检测件的磨轮架81上的磨轮82的进给量，然后控制系统控制磨轮架81带动磨轮82进行进给，提高磨抛加工的精准度。

该硅块磨抛设备在进行使用时的工作原理如下：将硅块放置在料仓机构2当中进行存储，每次上料，两组输送带22的带体221靠近上料传送带3的一侧都向下传送，使得处于最下方的硅块落到上料传送带3顶部，上料传送带3将硅块输送到靠近底座1上料端的位置，然后通过上料组件4的固定件42将硅块输送到转盘73上，由于硅块在料仓机构2中的放置方向的限制，使得硅块落在转盘73上时，硅块的其中两侧面就与两对中板62相互靠近的一侧相互平齐，方便进行对中操作。对中结束之后，带动硅块移动至两磨轮82之间，通过磨轮82分别对四个侧面进行磨抛加工，并且对四个侧边加工出倒角；之后硅块移动至底座1靠近下料端的位置，由下料组件5中的固定件42带动硅块移动至下料传送带9上，并且通过下料传送带9被送出。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (9)

1.一种硅块磨抛设备，其特征在于：包括底座；

滑台机构，其用于对硅块进行夹持；

以及磨轮机构，其设置在底座顶部用于对夹持在滑台机构上的硅块进行磨抛加工；

所述滑台机构包括箱体；

转盘，其转动连接在箱体上；

以及上转动组件，其用于将硅块压紧在转盘上，当硅块被压紧在转盘上时，上转动组件与硅块接触的部分能够跟随转盘一起转动。

2.根据权利要求1所述的一种硅块磨抛设备，其特征在于：所述滑台机构还包括压紧件，其用于推动上转动组件将硅块压紧在转盘上。

3.根据权利要求1所述的一种硅块磨抛设备，其特征在于：还包括上料传送带，其设置在底座上料一端，用于将未加工的硅块朝向靠近底座的方向输送；

以及上料组件，其设置在底座靠近上料端一侧，用于将上料传送带上的硅块送到滑台机构中；

滑台机构能够在底座的上料端和下料端之间进行滑动。

4.根据权利要求3所述的一种硅块磨抛设备，其特征在于：还包括下料传送带，其设置在底座下料端，用于将磨抛结束的硅块送出；

以及下料组件，其设置在底座靠近下料端一侧，用于将滑台机构中磨抛结束的硅块送到下料传送带上。

5.根据权利要求4所述的一种硅块磨抛设备，其特征在于：所述上料组件和下料组件的结构相同，所述上料组件包括支撑架；

以及固定件，其能够在支撑架上沿滑台机构的滑动方向进行滑动，并且能够在支撑架上沿靠近和远离支撑架的方向进行滑动，固定件能够将硅块固定在固定件上。

6.根据权利要求5所述的一种硅块磨抛设备，其特征在于：所述固定件还能够在支撑架上沿竖直方向进行滑动。

7.根据权利要求3所述的一种硅块磨抛设备，其特征在于：还包括对中机构，其设置在底座顶部并且位于底座的上料端；

对中机构包括对中支架，其设置在底座上；

以及两对中板，两对中板能够在对中支架上沿相互靠近和相互远离的方向滑动。

8.根据权利要求3所述的一种硅块磨抛设备，其特征在于：还包括料仓机构，其用于对待加工的硅块进行储存；

所述料仓机构包括输送带，上料传送带两侧都设置有输送带，上料传送带两侧的输送带靠近上料传送带一侧能够同时向下传送；

以及置物板，其设置有两组，每组都包括若干置物板，两组置物板分别设置在上料传送带两侧的输送带的外侧；

两组置物板一一对应，相对应的两置物板位于输送带靠近上料传送带一侧时，两置物板的顶部相互平齐。

9.根据权利要求1所述的一种硅块磨抛设备，其特征在于：还包括距离检测件，其设置在磨轮机构一侧，用于检测硅块待加工面与距离检测件之间的距离；

以及控制系统，其用于接收距离检测件检测的距离信息，根据距离信息确定磨抛加工的加工量，并根据加工量控制磨轮机构完成磨抛操作。

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