CN213286767U - 一种立式强紊流除铵反应装置 - Google Patents
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Abstract
本申请涉及一种立式强紊流除铵反应装置，包括反应槽（7）、设在反应槽（7）上部的折流槽（8）和次氯酸钠液滴加装置（4），以及设在反应槽（7）下部并与其内部相连通的压缩空气供应源（1）和设在反应槽（7）内的立式搅拌机（3），立式搅拌机（3）的搅拌部所处位置与压缩空气进入反应槽（7）内的流动范围配合叠加。工作时经过压缩空气的充分曝气和搅拌部的充分搅拌，能够使次氯酸钠液与盐水充分反应，以充分除去反应产生的一氯胺，同时也可以除去一部分过量的次氯酸钠。本申请进一步增设了隔板（6），其能够降低盐水流速，延长反应时间，增强了次氯酸钠与胺的充分反应效果。
Description
技术领域
本申请涉及氯碱工业除铵技术领域，尤其涉及一种立式强紊流除铵反应装置。
背景技术
氯碱工业是典型的盐化工工业，工业盐的质量直接影响铵(胺)含量，一般来说：海盐铵含量小于矿盐铵含量，海卤的铵含量小于矿卤的铵含量。当然这也是相对而论，具体含量受工业盐(卤)产地、制备工艺的影响。
除去盐水中铵盐的传统工艺是：首先将化盐池中的化盐水用蒸汽预热，使待处理的盐水温度达到55℃以上，然后将粗盐水打入折流槽，在折流槽的入口处安装次氯酸钠液滴加装置，然后根据粗盐水的流量和盐水中铵根离子的含量，手工调节次氯酸钠液的滴加量，使之发生反应以除去铵根离子。这种方案存在如下缺点：次氯酸钠液与盐水的反应不够完全，利用率不高，有时会出现除铵不彻底的情况；此外，手工操作控制氯酸钠液滴加量存在误差，严重过量滴加会导致设备被腐蚀，滴加不足又会导致除铵不彻底。
发明内容
本申请所要解决的技术问题是提供一种立式强紊流除铵反应装置，其能够使次氯酸钠液与盐水充分反应、除铵彻底。
为解决上述问题，本申请提供了一种立式强紊流除铵反应装置，包括反应槽、设在所述反应槽上部的折流槽和次氯酸钠液滴加装置，该装置还包括设在所述反应槽下部并与其内部相连通的压缩空气供应源和设在所述反应槽内的立式搅拌机，所述立式搅拌机的搅拌部所处位置与压缩空气进入所述反应槽内的流动范围配合叠加。
优选的，所述反应槽内部设有隔板，所述隔板顶部与所述反应槽顶部内壁无缝连接、底部距离所述反应槽底部内壁一段距离，所述折流槽、所述立式搅拌机的搅拌部和所述压缩空气供应源在所述反应槽下部的进气口位于所述隔板的同一侧，所述反应槽的盐水出口位于所述隔板的另一侧，所述隔板的底部低于所述搅拌部的位置。
优选的，所述次氯酸钠液滴加装置为质量流量计。
本申请与现有技术相比具有以下优点：
本申请中，增设了压缩空气供应源和立式搅拌机，工作时经过压缩空气的充分曝气和搅拌部的充分搅拌，能够使次氯酸钠液与盐水充分反应，能够充分除去反应产生的一氯胺，同时也可以除去一部分过量的次氯酸钠。本申请进一步增设了隔板，其能够降低盐水流速，延长反应时间，增强了次氯酸钠与胺的充分反应效果。
附图说明
下面结合附图对本申请的具体实施方式作进一步详细的说明。
图1本申请实施例提供的立式强紊流除铵反应装置的结构示意图。
图中：1—压缩空气供应源，2—化盐池，3—立式搅拌机，4—次氯酸钠液滴加装置，5—盐水出口，6—隔板，7—反应槽，8—折流槽。
具体实施方式
参考图1，本申请实施例提供了一种立式强紊流除铵反应装置，包括反应槽7、设在反应槽7上部的折流槽8和次氯酸钠液滴加装置4，以及设在反应槽7下部并与其内部相连通的压缩空气供应源1和设在反应槽7内的立式搅拌机3，立式搅拌机3的搅拌部所处位置与压缩空气进入反应槽7内的流动范围配合叠加。
其中，次氯酸钠液滴加装置4采用质量流量计，对次氯酸钠液进行精确定量滴加，有效防止了手工操作带来的误差，既避免了因严重过量滴加导致设备被腐蚀，又避免了因滴加不足导致除铵不彻底。
反应槽7内部设有隔板6，隔板6顶部与反应槽7顶部内壁无缝连接、底部距离反应槽7底部内壁一段距离，折流槽8、立式搅拌机3的搅拌部和压缩空气供应源1在反应槽7下部的进气口位于隔板6的同一侧，反应槽7的盐水出口5位于隔板6的另一侧，隔板6的底部低于搅拌部的位置。
工作时，从化盐池2溢流出的粗盐水进入折流槽8，次氯酸钠液通过质量流量计从储罐精确打入折流槽8，粗盐水和次氯酸钠液经充分反应后自流进入反应槽7，在反应槽7底部设置了压缩空气，开启压缩空气经过充分曝气，加上立式搅拌机3搅拌部的搅拌，使得两种反应溶液充分接触反应，以充分除去反应产生的一氯胺，同时也可以除去一部分过量的次氯酸钠（未反应的次氯酸钠进入后续精制盐水中可以继续与盐水中的有机物反应）。
以上对本申请所提供的技术方案进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的结构及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以对本申请进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本申请权利要求的保护范围内。
Claims (3)
1.一种立式强紊流除铵反应装置，包括反应槽（7）、设在所述反应槽（7）上部的折流槽（8）和次氯酸钠液滴加装置（4），其特征在于，该装置还包括设在所述反应槽（7）下部并与其内部相连通的压缩空气供应源（1）和设在所述反应槽（7）内的立式搅拌机（3），所述立式搅拌机（3）的搅拌部所处位置与压缩空气进入所述反应槽（7）内的流动范围配合叠加。
2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述反应槽（7）内部设有隔板（6），所述隔板（6）顶部与所述反应槽（7）顶部内壁无缝连接、底部距离所述反应槽（7）底部内壁一段距离，所述折流槽（8）、所述立式搅拌机（3）的搅拌部和所述压缩空气供应源（1）在所述反应槽（7）下部的进气口位于所述隔板（6）的同一侧，所述反应槽（7）的盐水出口（5）位于所述隔板（6）的另一侧，所述隔板（6）的底部低于所述搅拌部的位置。
3.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述次氯酸钠液滴加装置（4）为质量流量计。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202021957775.5U CN213286767U (zh) | 2020-09-09 | 2020-09-09 | 一种立式强紊流除铵反应装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN213286767U true CN213286767U (zh) | 2021-05-28 |
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ID=76031356
Family Applications (1)
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| CN202021957775.5U Active CN213286767U (zh) | 2020-09-09 | 2020-09-09 | 一种立式强紊流除铵反应装置 |
Country Status (1)
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|---|---|
| CN (1) | CN213286767U (zh) |
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2020
- 2020-09-09 CN CN202021957775.5U patent/CN213286767U/zh active Active
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