CN213223519U - 按压清洗装置 - Google Patents

Abstract

本申请涉及一种按压清洗装置，当通过人工或者自动控制装置使得所述按压套筒沿着竖直方向运动时，所述导位块在水平方向的位置不变，所述清洗旋转架竖直方向的位置不变。而导位块位于所述螺纹槽内，因此导位块会沿着所述螺纹槽运动。又因为导位块和所述按压套筒相对固定。因此所述清洗旋转架会在所述导位块的带动下转动。清洗旋转架可以设置有清洗组件，清洗组件随着所述清洗旋转架旋转从而可以清洗位于所述清洗旋转架上方的待清洗物。所述待清洗物可以为均质器刀头。因此通过控制所述按压套筒在竖直方向移动即可以使得清洗旋转架快速清洗均质器刀头，无需人工清洗，大大提高了工作效率。

Description

按压清洗装置

技术领域

本申请涉及清洁领域，特别是涉及一种按压清洗装置。

背景技术

我国是农药和兽药使用大国，而最终农产品的农药残留和畜产品的兽药残留程度关系到百姓的食品健康安全。有效检测农药和兽药残留的前提是将待检测样品进行有效均质处理，而使用旋刃式刀头的全自动均质器正是有效提高均质效果的产品。通常，在进行完一个均质处理流程后，均质器刀头上会附着难以自然脱落的杂质，如果刀头直接进行下一个均质处理流程，则存在较大可能污染后续样品的问题。因此均质器刀头需要在进行完每一次均质处理后都进行清洗，这时通常需要人工将均质器刀头取下并对其进行清理，这都影响了工作效率。

发明内容

基于此，有必要针对上述问题，提供一种按压清洗装置。

一种按压清洗装置，包括：

清洗旋转架，包围形成容纳空间，所述清洗旋转架的内表面设置有螺纹槽；

定位柱，设置于所述容纳空间；

按压套筒，套设于所述定位柱，所述按压套筒在所述定位柱的轴线方向相对于所述清洗旋转架活动设置；以及

导位块，设置于所述按压套筒和所述螺纹槽之间，所述导位块嵌入所述螺纹槽时相对于所述按压套筒固定设置，所述按压套筒沿着所述定位柱的轴线运动时，通过所述导位块带动所述清洗旋转架旋转通过螺纹槽沿着所述定位柱轴线方向围绕所述按压套筒旋转。

在一个实施例中，还包括：

基座，设置于所述定位柱远离所述按压套筒的一端，用于固定所述定位柱；以及

第一弹性元件，一端抵接于所述基座，另一端抵接于所述按压套筒靠近所述基座的一端。

在一个实施例中，还包括：安装凹槽，设置于所述按压套筒的侧部，所述导位块设置于所述安装凹槽。

在一个实施例中，还包括：

第二弹性元件，设置于所述安装凹槽的内部和所述导位块之间，当所述按压清洗装置工作时，将所述导位块顶出所述安装凹槽，让所述导位块在所述螺纹槽内工作；

在一个实施例中，还包括：

止推轴承，套设于所述基座的外侧，并设置于所述清洗旋转架靠近所述基座的一端，所述旋转清洗架顺着所述止推轴承转动，止推轴承为所述旋转清洗架减少旋转阻力。

在一个实施例中，所述清洗旋转架的远离所述基座一端至少设置有一个清洗组件。

在一个实施例中，所述清洗组件包括支撑架，以及设置于所述支撑架两侧的第一清洗件和第二清洗件。

本申请实施例提供的按压清洗装置，当通过人工或者自动控制装置使得所述按压套筒沿着竖直方向运动时，所述导位块在水平方向的位置不变，所述清洗旋转架竖直方向的位置也不变。又因为导位块和所述按压套筒相对固定，因此所述清洗旋转架会在所述导位块的带动下转动。清洗旋转架可以设置有清洗组件，清洗组件随着所述清洗旋转架旋转从而可以清洗位于所述清洗旋转架上方的待清洗物。所述待清洗物可以为均质器刀头。因此通过控制所述按压套筒在竖直方向移动即可以使得清洗旋转架快速清洗均质器刀头，无需人工清洗，大大提高了工作效率。

附图说明

图1为本申请一个实施例提供的按压清洗装置剖面图；

附图标记：

按压清洗装置10，清洗旋转架100，容纳空间130，定位柱200，按压套筒300，按压套筒安装凹槽310，螺纹槽110，导位块410，第一方向，第二方向，基座610，弹性元件620，止推轴承630，清洗组件640，支撑架641，第一清洗件642，第二清洗件643，清洗池体650，安装槽660。

具体实施方式

以下由特定的具体实施例说明本发明的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点及功效，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参见图1，本申请实施例提供一种按压清洗装置10。所述按压清洗装置10包括清洗旋转架100、定位柱200、按压套筒300和导位块410。所述清洗旋转架100包围形成容纳空间130。所述清洗旋转架100可以为筒状结构。所述容纳空间130可以为圆柱状空间。所述定位柱200设置于所述容纳空间130。所述定位柱200可以沿着竖直方向设置。所述按压套筒300套设于所述定位柱200。所述定位柱200限制所述按压套筒300只能相对于所述定位柱200的轴线方向直线运动，不能在垂直于所述定位柱200的轴线方向运动，也不能转动。所述清洗旋转架100可以相对于所述按压套筒300旋转。所述清洗旋转架100的内表面设置有螺纹槽110。所述螺纹槽110围绕所述清洗旋转架100的内表面设置。所述按压套筒300在所述清洗旋转架100内与所述清洗旋转架100的内壁间隔设置。所述按压套筒300在所述定位柱200的轴线方向相对于所述清洗旋转架100活动设置。即当按压套筒300在竖直方向运动时，所述清洗旋转架100在竖直方向的位置可以不变。

所述导位块410设置于所述按压套筒300和所述螺纹槽110之间。即所述导位块410可以在所述按压套筒300和所述螺纹槽110之间活动。所述导位块410可以嵌入所述螺纹槽110。两个所述螺纹槽110之间距离即可以为螺纹的螺距。所述导位块410嵌入所述螺纹槽110时相对于所述按压套筒300固定设置。当有外力按压所述按压套筒300沿着所述定位柱200的轴线朝向所述基座610运动时，所述导位块410相对于所述按压套筒300固定，并嵌入所述螺纹槽110中，所述导向块410向下运动过程中在所述螺纹槽110中相对于螺纹槽110转动，而所述导位块410固定设置在所述按压套筒300上，所述按压套筒300被所述定位柱200限制只能沿着所述定位柱200轴线方向直线运动，从而所述导位块410带动所述螺旋槽110带动所述清洗旋转架100沿着所述定位柱200的轴线方向进行旋转运动；当所述按压套筒300运动到其终止位置后，按压所述按压套筒300的外力停止作用于所述按压套筒300，所述弹性元件620的弹力使得所述按压套筒300沿所述定位柱200的轴线朝远离所述基座610的方向运动，同时所述清洗旋转架100沿反方向旋转。

可以理解，所述按压套筒300的轴线方向可以为竖直方向。所述导位块410的半径可以与所述螺纹槽110内壁弧面的半径相等，或者小于所述螺纹槽110内壁弧面的直径。当所述导位块410嵌入所述螺纹槽110后，所述导位块410可以通过机械结构的限制而相对于所述按压套筒300相对固定，同时相对于所述清洗旋转架100活动。

当通过人工或者自动控制装置使得所述按压套筒300沿着竖直方向运动时，所述导位块410跟随所述套筒300沿着竖直方向运动，所述清洗旋转架100竖直方向的位置不变。而因为所述导位块410和所述按压套筒300相对固定。因此所述清洗旋转架100会在所述导位块410的带动下转动。所述清洗旋转架100可以设置有清洗组件640，所述清洗组件640随着所述清洗旋转架100旋转从而可以清洗位于所述清洗旋转架100上方的待清洗物。所述待清洗物可以为均质器刀头。因此通过控制所述按压套筒300在竖直方向移动即可以使得清洗旋转架100快速清洗均质器刀头，无需人工清洗，大大提高了工作效率。

在一个实施例中，所述按压清洗装置10还包括基座610和弹性元件620。所述基座610设置于所述定位柱200远离所述按压套筒300的一端。所述基座610可以具有凹陷部，所述定位柱200的一端可以嵌入所述凹陷部。所述弹性元件620一端抵接于所述基座610，另一端抵接于所述按压套筒300靠近所述基座610的一端。所述弹性元件620可以为弹簧。因此，当所述按压套筒300竖直向所述基座610方向运动靠近所述基座610时，会压缩所述弹性元件620。当所述按压套筒300向下运动到极限位置后，会在所述弹性元件620反弹力的作用下竖直向远离所述基座610方向运动。

在一个实施例中，所述按压清洗装置10还包括止推轴承630。所述止推轴承630套设于所述基座610的外侧，所述止推轴承630的下圈可以通过过盈配合套设在所述基座610的外围。即所述止推轴承630和所述基座610过盈配合。所述止推轴承630设置于所述清洗旋转架100靠近所述基座610的一端。所述止推轴承630可以避免所述清洗旋转架100受到竖直向下的压力时向下运动。所述止推轴承630的上圈与所述清洗旋转架100的下端可以为过渡配合，便于所述清洗旋转架100旋转。所述止推轴承630为所述清洗旋转架100转动减少阻力，帮助所述清洗旋转架100旋转起来更为顺畅、润滑。

在一个实施例中，所述清洗旋转架100的顶部至少设置有一个清洗组件640。所述清洗组件640可以设置在清洗旋转架100非中心的位置。因此所述清洗旋转架100旋转时可以带动所述清洗组件640旋转。进而清洗组件640可以清洗在所述清洗旋转架100上方的待清洗物。所述清洗组件640可以包括毛刷等清洗件。

在一个实施例中，所述清洗组件640包括支撑架641，以及设置于所述支撑架641两侧的第一清洗件642和第二清洗件643。即所述支撑架641的相对的两个表面可以分别设置第一清洗件642和第二清洗件643。所述第一清洗件642可以朝向所述清洗旋转架100的中心方向，所述第二清洗件643可以背离所述清洗旋转架100的中心方向。在一个实施例中，可以将所述按压清洗装置10放入圆柱形容器中。所述清洗旋转架100旋转时，所述第一清洗件642可以清洗位于所述清洗旋转架100的中心上方的均质器刀头，而所述第二清洗件643可以清洗所述圆柱形容器的内壁，加快了清洗效率。

在一个实施例中，所述按压清洗装置10还包括清洗池体650。所述清洗池体650底部设置有安装槽660，所述基座610设置于所述安装槽660，所述止推轴承630围绕所述安装槽660的边缘设置。即所述止推轴承630的两个表面分别与所述安装槽660的边和所述清洗旋转架100靠近所述基座610的一端的表面接触，起到止推的作用。

在一个实施例中，所述按压套筒300设置有安装凹槽310。所述导位块410安装于所述安装凹槽310。所述安装凹槽310朝向所述清洗旋转架100设置。所述导位块410的部分可以嵌入所述安装凹槽310。所述导位块410相对于所述按压套筒300固定设置，此时所述导位块410嵌入所述螺纹槽110。因此，当所述按压套筒300沿着竖直方向上下运动时，所述螺纹槽110会通过所述导位块410带动所述清洗旋转架100旋转。

在一个实施例中，当所述按压套筒300沿着竖直方向向所述基座610方向运动时，所述清洗旋转架100在所述导位块410的带动下可以顺时针运动。当所述按压套筒300沿着竖直方向远离所述基座610方向运动时，所述清洗旋转架100在所述导位块410的带动下可以逆时针运动。

需要说明的是，附图中的实施方案仅为本申请比较有代表性的实施例，本领域技术人员容易理解，本申请的保护范围不仅仅限定在附图中实施方式所限定的范围内，对附图中实施方式的组合、变形、变化均落在本申请的保护范围内。以上所揭露的仅为本申请几种较佳实施例而已，当然不能以此来限定本申请之权利范围，因此依本申请权利要求所作的等同变化，仍属本申请所涵盖范围。

Claims (7)

1.一种按压清洗装置，其特征在于，包括：

清洗旋转架(100)，包围形成容纳空间(130)；所述清洗旋转架(100)的内表面设置有螺纹槽(110)；定位柱(200)，设置于所述容纳空间(130)；

按压套筒(300)，套设于所述定位柱(200)，所述按压套筒(300)在所述定位柱(200)的轴线方向相对于所述清洗旋转架(100)活动设置；以及

导位块(410)，设置于所述按压套筒(300)和所述螺纹槽(110)之间，所述按压套筒(300)沿着所述定位柱(200)的轴线运动时，所述导位块(410)通过所述螺纹槽(110)带动所述清洗旋转架(100)旋转。

2.如权利要求1所述的按压清洗装置，其特征在于，还包括：

基座(610)，设置于所述定位柱(200)远离所述按压套筒(300)的一端；以及

第一弹性元件(620)，一端抵接于所述基座(610)，另一端抵接于所述按压套筒(300)靠近所述基座(610)的一端。

3.如权利要求2所述的按压清洗装置，其特征在于，还包括：

安装凹槽(310)，设置于所述按压套筒(300)的侧部，所述导位块(410)设置于所述安装凹槽(310)。

4.如权利要求3所述的按压清洗装置，其特征在于，还包括：

第二弹性元件(420)，设置于所述安装凹槽(310)的内部和所述导位块(410)之间。

5.如权利要求2所述的按压清洗装置，其特征在于，还包括：

止推轴承(630)，套设于所述基座(610)的外侧，并设置于所述清洗旋转架(100)靠近所述基座(610)的一端。

6.如权利要求2所述的按压清洗装置，其特征在于，所述清洗旋转架(100)的远离所述基座(610)一端至少设置有一个清洗组件(640)。

7.如权利要求6所述的按压清洗装置，其特征在于，所述清洗组件(640)包括支撑架(641)，以及设置于所述支撑架(641)两侧的第一清洗件(642)和第二清洗件(643)。

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