CN213173182U - 一种新型地砖 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种新型地砖,属于地砖领域,一种新型地砖,包括砖体,所述砖体包括互相嵌合的上基体和下基体,所述上基体交叉分布有若干排水槽,所述排水槽的截面为等腰梯形,且等腰梯形的两腰沿着高度方向变宽,所述排水槽靠近上基体边缘的位置对称开设有凹台,且凹台上设有排水沟槽,所述下基体内开设有连通排水沟槽的排水腔,本实用新型通过上基体上分布的排水槽将污泥和脏污与积水分隔开,使积水能够通过凹台进入排水沟槽,并下渗到下基体的排水腔内进行排水,防止地砖堵塞影响排水效果。
Description
技术领域
本实用新型公开一种地砖,尤其是涉及一种新型地砖。
背景技术
地砖是一种地面装饰材料,也叫地板砖,用黏土烧制而成,规格多种、质坚、耐压耐磨、能防潮,有的经上釉处理,具有装饰作用,多用于公共建筑和民用建筑的地面,由于城市化建设加速,地砖需要多次拆除,并挖除水泥地板以铺设线缆、管道等设施,需要使用环保可再生的材料,以方便在拆除后能够再次进行利用,节约资源。
现有地砖大多通过材料的配比使成型的砖体内形成大量的微小孔隙,使砖面上的积水通过孔隙渗入地下排水设施,但是孔隙容易被污泥等杂物堵塞,导致砖面上的积水无法及时排走,影响城市美观和路面安全。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决上述的问题而提供一种新型地砖。
为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:一种新型地砖,包括砖体,所述砖体包括互相嵌合的上基体和下基体,所述上基体交叉分布有若干排水槽,所述排水槽的截面为等腰梯形,且等腰梯形的两腰沿着高度方向变宽,所述排水槽靠近上基体边缘的位置对称开设有凹台,且凹台上设有排水沟槽,所述下基体内开设有连通排水沟槽的排水腔。
通过采用上述技术方案,通过上基体上分布的排水槽将污泥和脏污与积水分隔开,使积水能够通过凹台进入排水沟槽,并下渗到下基体的排水腔内进行排水,防止地砖堵塞影响排水效果。
作为优选,所述凹台的形状为半弧形,且排水沟槽的开口呈椭圆形,所述凹台之间的排水槽侧壁开设有U型通道,以连通凹台。
通过采用上述技术方案,通过U型通道来连通其它凹台,当某一个凹台的排水沟槽在堵塞时能够通过U型通道进入到其它的凹台的排水沟槽内进行排水。
作为优选,所述排水槽由上基体边缘两侧向交叉处汇集,且呈由高向低趋势,所述排水槽的侧壁沿高度方向对称设有斜台。
通过采用上述技术方案,通过排水槽使积水能够向砖体的中心汇集,并且通过斜台对泥沙等脏污进行阻挡沉积。
作为优选,所述排水腔对应排水槽的交叉处设有下渗通道,所述下渗通道设有若干下渗孔。
通过采用上述技术方案,通过下渗通道使得进入排水腔内积水会沿着下渗孔进入到下基体内。
作为优选,所述排水腔设有若干蜂窝状的凹槽,且凹槽沿着下渗通道环绕分布。
通过采用上述技术方案,蜂窝状的空间结构密合度高、使用材料少、容纳空间大,并且结构强度高,在减少地砖的耗材同时,能够容纳更多积水通过,加速排水效率,并且结构稳定。
作为优选,所述上基体远离排水槽的一侧开设有若干沉孔,且沉孔的内壁为斜面,所述下基体设有若干与沉孔配合的圆台。
通过采用上述技术方案,上基体和下基体在拼镶时,圆台内壁随着上基体与下基体靠近时,圆台沿着斜面抬升而使上基体和下基体嵌紧。
作为优选,所述砖体的四周沿高度方向开设有半圆竖直槽。
通过采用上述技术方案,半圆竖直槽使得不同砖体在拼接时形成完整的圆形竖直槽,方便填充粘合剂。
作为优选,所述上基体表面涂覆有防滑剂。
通过采用上述技术方案,通过防滑剂中的高分子水性聚合物渗入地砖的毛细管道中,通过与地砖的化学作用,使该管道增宽,产生物理吸盘的效果,增强地砖的防滑效果。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
其一,通过上基体上分布的排水槽将污泥和脏污与积水分隔开,使积水能够通过凹台进入排水沟槽,并下渗到下基体的排水腔内进行排水,防止地砖堵塞影响排水效果;
其二,通过U型通道来连通其它凹台,当某一个凹台的排水沟槽在堵塞时能够通过U型通道进入到其它的凹台的排水沟槽内进行排水;
其三,通过排水槽使积水能够向砖体的中心汇集,并且通过斜台对泥沙等脏污进行阻挡沉积。
附图说明
图1为新型地砖的结构示意图一;
图2为新型地砖的结构示意图二;
图3为图2在A处的局部放大图;
图4为新型地砖的结构示意图三;
图5为图4在B处的局部放大图。
附图标记:1、半圆竖直槽;2、排水槽;3、下基体;4、上基体;5、凹槽;6、圆台;7、排水沟槽;8、凹台;9、斜台;10、下渗孔;11、U型通道。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
一种新型地砖,如图1-图5所示,包括砖体,砖体包括互相嵌合的上基体4和下基体3,上基体4交叉分布有若干排水槽2,排水槽2的截面为等腰梯形,且等腰梯形的两腰沿着高度方向变宽,排水槽2靠近上基体4边缘的位置对称开设有凹台8,且凹台8上设有排水沟槽7,下基体3内开设有连通排水沟槽7的排水腔。
当砖体的砖面因雨水等原因积蓄大量积水,积水会进入到上基体4的排水槽2内,并沿着等腰梯形截面淹没排水槽2,而积水中的杂质沉积在排水槽2的底部,由于排水槽2由上基体4边缘两侧向交叉处汇集,且呈由高向低趋势,排水槽2的侧壁沿高度方向对称设有斜台9,斜台9会阻挡排水槽2内的脏污和沙硕,防止其堵塞凹台8的排水沟槽7,其中凹台8的形状为半弧形,且排水沟槽7的开口呈椭圆形,凹台8之间的排水槽2侧壁开设有U型通道11,半弧形的凹台8在两块砖体拼接后形成完整的凹台8,排水沟槽7的椭圆形开口使得积水在淹没凹台8过程中会将沙石沉积后进入椭圆形开口,防止排水沟槽7被堵塞,并且U型通道11连通不同凹台8之间的排水沟槽7,当其中一个排水沟槽7被堵塞后,积水能够沿着U型通道11疏导到其他凹台8的排水沟槽7处。
积水经由排水沟槽7进入到下基体3的排水腔后,排水腔对应排水槽2的交叉处设有下渗通道,下渗通道设有若干下渗孔10,使得进入排水腔内积水会沿着排水槽2截面的高低趋势汇集到中心的下渗通道处,防止排水不畅,排水腔设有若干蜂窝状的凹槽5,且凹槽5沿着下渗通道环绕分布,蜂窝状的空间结构密合度高、使用材料少、容纳空间大,并且结构强度高,在减少地砖的耗材同时,能够容纳更多积水通过,加速排水效率,并且结构稳定。
上基体4远离排水槽2的一侧开设有若干沉孔,且沉孔的内壁为斜面,下基体3设有若干与沉孔配合的圆台6,上基体4和下基体3在拼镶时,圆台6内壁随着上基体4与下基体3靠近时,圆台6沿着斜面抬升而使上基体4和下基体3嵌紧。
砖体的四周沿高度方向开设有半圆竖直槽1,半圆竖直槽1使得不同砖体在拼接时形成完整的圆形竖直槽,方便填充粘合剂。
砖体采用粉煤灰、煤渣、煤矸石、尾矿渣、化工渣或者天然砂、海涂泥等环保材料制成,具有清洁无污染可环保的优点。上基体4表面涂覆有防滑剂,通过高分子水性聚合物渗入地砖的毛细管道中,通过与地砖的化学作用,使该管道增宽,遇水或油渍时与脚底接触能形成物理的吸盘作用,地面越湿滑,效果越显著。
对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
Claims (8)
1.一种新型地砖,包括砖体,其特征在于:所述砖体包括互相嵌合的上基体(4)和下基体(3),所述上基体(4)交叉分布有若干排水槽(2),所述排水槽(2)的截面为等腰梯形,且等腰梯形的两腰沿着高度方向变宽,所述排水槽(2)靠近上基体(4)边缘的位置对称开设有凹台(8),且凹台(8)上设有排水沟槽(7),所述下基体(3)内开设有连通排水沟槽(7)的排水腔。
2.根据权利要求1所述的一种新型地砖,其特征在于:所述凹台(8)的形状为半弧形,且排水沟槽(7)的开口呈椭圆形,所述凹台(8)之间的排水槽(2)侧壁开设有U型通道(11),以连通凹台(8)。
3.根据权利要求2所述的一种新型地砖,其特征在于:所述排水槽(2)由上基体(4)边缘两侧向交叉处汇集,且呈由高向低趋势,所述排水槽(2)的侧壁沿高度方向对称设有斜台(9)。
4.根据权利要求1所述的一种新型地砖,其特征在于:所述排水腔对应排水槽(2)的交叉处设有下渗通道,所述下渗通道设有若干下渗孔(10)。
5.根据权利要求4所述的一种新型地砖,其特征在于:所述排水腔设有若干蜂窝状的凹槽(5),且凹槽(5)沿着下渗通道环绕分布。
6.根据权利要求1所述的一种新型地砖,其特征在于:所述上基体(4)远离排水槽(2)的一侧开设有若干沉孔,且沉孔的内壁为斜面,所述下基体(3)设有若干与沉孔配合的圆台(6)。
7.根据权利要求5或6任意一项所述的一种新型地砖,其特征在于:所述砖体的四周沿高度方向开设有半圆竖直槽(1)。
8.根据权利要求1所述的一种新型地砖,其特征在于:所述上基体(4)表面涂覆有防滑剂。
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- 2020-08-07 CN CN202021636113.8U patent/CN213173182U/zh active Active
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