CN213150722U - 一种用于硅片抛光的横向反应槽 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及硅片抛光领域，尤其涉及一种用于硅片抛光的横向反应槽，包括一个槽体以及连接设置在槽体下端的底座，所述槽体中部设置有一个反应槽，所述反应槽底部设置有用于支撑硅片的支撑杆，所述槽体一侧设置有一根进水管，与水进水管相对的一侧设置有出水管，所述进水管与水出水管之间通过若干环绕槽体的循环水分管相互连接，且进水管与水出水管与外接的制冷机相互连通，所述槽体上还设置有一个排液口。本实用新型克服了现有技术中的抛光装置无法有效控制抛光反应进程的缺陷，通过以上设置是的本实用新型具有能够有效控制抛光液的温度，从而便于控制抛光反应进程的优点。

Description

一种用于硅片抛光的横向反应槽

技术领域

本实用新型涉及硅片抛光领域，尤其涉及一种用于硅片抛光的横向反应槽。

背景技术

在太阳能硅片的加工过程中，会经过多次的线切割工艺，从而在硅表面形成具有一定粗糙度的损伤层。由于粗糙表面的影响，硅片背面与钝化膜及金属之间会产生接触不良的现象，因此高效太阳能电池（Topcon，IBC等电池）生产的第一步即对原硅片表面进行抛光处理，使硅片背表面更加光滑甚至达到镜面效果，抛光后硅片的背面平整，一方面可以加强对透射光的反射，减小透光率；另一方面可以有效提高背钝化镀膜的均匀性，提高钝化效果，从而有效提升成品电池的电性能及EL良率等。

现有技术例如申请号为CN201420332125.X的一种晶硅太阳能电池的背抛光装置，包括连通槽及反应槽，所述的连通槽底部与反应槽的底部连通，所述的连通处的反应槽上设置有回流管，回流管上设置有回流泵，回流管的另一端连接至连通槽顶部，所述的连通槽顶部还设置有药液补加管，所述反应槽的槽口下方设置有硅片支撑点，本实用新型化学抛光溶液通过连通槽从反应槽底部打入，药液在反应槽内从下而上流动，仅接触硅片背面，避免了药液对硅片正面绒面结构的腐蚀破坏，反应后药液即排出反应槽，使反应槽内药液浓度更加均匀，从而反应速率更加平稳，抛光效果更好，提高长波的内量子效应，改善长波响应，增加开路电压，提高太阳能电池光电转化效率，但是这种抛光装置并不能通过控制抛光液的温度来控制硅片抛光进程。

实用新型内容

本实用新型是为了克服现有技术中的抛光装置无法有效控制抛光反应进程的缺陷，提供了一种用于硅片抛光的横向反应槽，本实用新型能够有效控制硅片在抛光过程中的抛光速率。

为实现上述实用新型目的，本实用新型通过以下技术方案实现：

一种用于硅片抛光的横向反应槽，包括一个槽体以及连接设置在槽体下端的底座，所述槽体中部设置有一个反应槽，所述反应槽底部设置有用于支撑硅片的支撑杆，所述槽体一侧设置有一根进水管，与水进水管相对的一侧设置有出水管，所述进水管与水出水管之间通过若干环绕槽体的循环水分管相互连接，且进水管与水出水管与外接的制冷机管路连接，所述槽体上还设置有一个排液口。

本实用新型中的硅片抛光横向反应槽包括槽体以及下方的底座，其中槽体内部的反应槽中可以放置用于抛光硅片的抛光液，将硅片置于反应槽内部的支撑杆上即可对硅片进行抛光，同时本实用新型还设置有与外接的制冷机相连接的进出水管，从而可以控制抛光液的温度，从而可以进一步控制抛光速率以及抛光效果。

作为优选，所述槽体位于设置有排液口一侧与底座之间通过铰链相互铰接。

本实用新型中的横向反应槽其槽体与底座之间通过铰链相互铰接，当需要排出抛光液时，可以将槽体后方抬起，从而能够方便抛光液能够更快速度的全部排出。

作为优选，所述底座上端面的面积小于槽体的面积，且底座位于与排液口相对侧的左右两侧设置有一个转轴，所述转轴前端设置有一个翻板，所述翻板在翻转过程中能够使得槽体能够沿着铰链转动。

设置转轴以及翻板能够使得在转动翻板过程中将槽体后端抬起，从而无需人工手动将槽体抬起进行排液，减少了人工劳动。

作为优选，所述循环水分管位于槽体下侧的部分贯穿槽体设置，且位于支撑杆下端。

这样设置能够使得循环水分管能够直接对抛光液进行冷却，从而提升了对抛光液的温度控制效果。

作为优选，所述支撑杆上设置有用于支撑硅片的垫片。

设置垫片能够使得硅片在抛光过程中能够与抛光液具有最大的接触面积，从而抛光效果更好。

作为优选，所述循环水分管位于槽体上侧的部分外部包覆有一层隔热橡胶。

设置隔热橡胶能够防止空气中的水汽在循环水分管位于槽体上侧的部分冷凝，从而滴落至反应槽中，防止抛光液的浓度发生变化。

作为优选，所述槽体以及底座均由聚四氟乙烯制备得到。

因此，本实用新型具有以下有益效果：

（1）能够有效控制抛光液的温度，从而便于控制抛光反应进程；

（2）能够方便抛光液的排空；

（3）能够防止空气中的水汽凝结滴落至反应槽中，防止影响抛光液的浓度。

附图说明

图1 为本实用新型的一种结构示意图。

图2 为图1中a处的放大图。

其中：槽体1、底座2、反应槽3、支撑杆4、进水管5、水出水管6、循环水分管7、排液口8、制冷机9、铰链10、转轴11、翻板12、垫片13、隔热橡胶14。

具体实施方式

下面结合说明书附图以及具体实施例对本实用新型做进一步描述。本领域普通技术人员在基于这些说明的情况下将能够实现本实用新型。此外，下述说明中涉及到的本实用新型的实施例通常仅是本实用新型一部分的实施例，而不是全部的实施例。因此，基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本实用新型保护的范围。

实施例1

如图1所示，一种用于硅片抛光的横向反应槽，包括一个由聚四氟乙烯制备得到的槽体1以及与槽体1下端通过铰链10相互铰接的底座2。

槽体1中部设置有一个反应槽3，反应槽3底部设置有若干组支撑杆4，支撑杆4上设置有用于支撑硅片的垫片13。槽体1一侧设置有一根进水管5，与水进水管5相对的一侧设置有出水管6，所述进水管5与水出水管6之间通过若干环绕槽体1的循环水分管7相互连接，且进水管5与水出水管6与外接的制冷机9管路连接，从而为抛光液进行温度控制。

其中循环水分管7位于槽体1上侧的部分外部包覆有一层隔热橡胶14从而能够防止空气中的水汽冷凝滴落至反应槽3中，影响抛光液的浓度。而循环水分管7位于槽体1下侧的部分贯穿槽体1设置，且位于支撑杆4下端，从而能够使得对抛光液的温度控制更加灵敏。

此外，底座2上端面的面积小于槽体1的面积，槽体1底部还设置有一个与反应槽3联通的排液口8，且底座2位于与排液口8相对侧的左右两侧设置有一个转轴11，转轴11前端设置有一个翻板12，所述翻板12在翻转过程中能够使得槽体1能够沿着铰链10转动。设置转轴11以及翻板12能够使得在转动翻板12过程中将槽体1后端抬起，当需要排出抛光液时，可以将槽体1后方抬起，从而能够方便抛光液能够更快速度的全部排出，从而无需人工手动将槽体1抬起进行排液，减少了人工劳动。

Claims (7)

1.一种用于硅片抛光的横向反应槽，其特征在于，包括一个槽体（1）以及连接设置在槽体（1）下端的底座（2），所述槽体（1）中部设置有一个反应槽（3），所述反应槽（3）底部设置有用于支撑硅片的支撑杆（4），所述槽体（1）一侧设置有一根进水管（5），与水进水管（5）相对的一侧设置有出水管（6），所述进水管（5）与水出水管（6）之间通过若干环绕槽体（1）的循环水分管（7）相互连接，且进水管（5）与水出水管（6）与外接的制冷机（9）管路连接，所述槽体（1）上还设置有一个排液口（8）。

2.根据权利要求1所述的一种用于硅片抛光的横向反应槽，其特征在于，所述槽体（1）位于设置有排液口（8）一侧与底座（2）之间通过铰链（10）相互铰接。

3.根据权利要求2所述的一种用于硅片抛光的横向反应槽，其特征在于，所述底座（2）上端面的面积小于槽体（1）的面积，且底座（2）位于与排液口（8）相对侧的左右两侧设置有一个转轴（11），所述转轴（11）前端设置有一个翻板（12），所述翻板（12）在翻转过程中能够使得槽体（1）能够沿着铰链（10）转动。

4.根据权利要求1所述的一种用于硅片抛光的横向反应槽，其特征在于，所述循环水分管（7）位于槽体（1）下侧的部分贯穿槽体（1）设置，且位于支撑杆（4）下端。

5.根据权利要求1或4所述的一种用于硅片抛光的横向反应槽，其特征在于，所述支撑杆（4）上设置有用于支撑硅片的垫片（13）。

6.根据权利要求5所述的一种用于硅片抛光的横向反应槽，其特征在于，所述循环水分管（7）位于槽体（1）上侧的部分外部包覆有一层隔热橡胶（14）。

7.根据权利要求1所述的一种用于硅片抛光的横向反应槽，其特征在于，所述槽体（1）以及底座（2）均由聚四氟乙烯制备得到。

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