CN213001653U - 一种晶片周转盒清洗机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种晶片周转盒清洗机，包括主体外壳与手柄，所述主体外壳的下端外侧活动安装有万向轮，所述主体外壳的一端外表面活动安装有观察窗，所述主体外壳的上端外侧固定安装有操作台，且操作台的上端外侧设有消毒剂投放口与清水接口，所述操作台的斜侧外表面设有显示屏与开机按钮，所述主体外壳的一端外侧设有冲洗软管，所述手柄固定安装在冲洗软管的一端外侧。本实用新型所述的一种晶片周转盒清洗机，设有节流喷头、搅拌器和臭氧发生器，能够增大喷洒清洗液的面积，同时可以控制喷射速度，并能对清洗液进行均匀的搅拌，避免清洗液的浪费，还能利用制造的臭氧水混合，提高灭菌清洗的效果，具有实用性。

Description

一种晶片周转盒清洗机

技术领域

本实用新型涉及清洗机领域，特别涉及一种晶片周转盒清洗机。

背景技术

清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；其中应用领域最广泛的当属喷淋清洗和超声波清洗；在工业生产及电子产品的生产过程中，随着对产品部件表面清洁度的提高，超声波精密清洗方式正越来越多的人们所关注和认可；

现有的晶片周转盒清洗机在使用时存在一定的弊端，冲洗的面积有限，同时在喷洒清洗液时，喷头的速度得不到很好的控制，清洗液的搅拌不够充分，导致清洗液的浪费，病菌种类过多，得不到根治，达不到应有的除菌效果，在使用过程中带来了一定的不利影响，为此，我们提出一种晶片周转盒清洗机。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种晶片周转盒清洗机，可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：

一种晶片周转盒清洗机，包括主体外壳与手柄，所述主体外壳的下端外侧活动安装有万向轮，所述主体外壳的一端外表面活动安装有观察窗，所述主体外壳的上端外侧固定安装有操作台，且操作台的上端外侧设有消毒剂投放口与清水接口，所述清水接口固定安装在消毒剂投放口的一侧，所述操作台的斜侧外表面设有显示屏与开机按钮，且开机按钮活动安装在显示屏的一侧，所述主体外壳的一端外侧设有冲洗软管，所述手柄固定安装在冲洗软管的一端外侧，所述冲洗软管的下端外侧固定安装有节流喷头，所述节流喷头的下端外表面设有喷水细孔，所述节流喷头的内部靠近喷水细孔的位置固定安装有导流层，所述冲洗软管的一端外表面靠近节流喷头的上方活动安装有节流阀，所述主体外壳的内部靠近冲洗软管的一侧固定安装有水泵，所述主体外壳的内部中间位置靠近操作台的下方设有药液混合箱，所述药液混合箱的内表面两侧均活动安装有搅拌器，所述药液混合箱的一端外侧固定安装有臭氧发生器。

优选的，所述主体外壳与操作台的外表面均涂有防锈层，所述万向轮的数量为四组。

优选的，所述观察窗的一端外表面设置有滑动玻璃，所述消毒剂投放口的直径为八厘米。

优选的，所述主体外壳的一端外表面设置有电源接口，所述显示屏、水泵、搅拌器和臭氧发生器的输入端均与电源接口的输出端电性连接。

优选的，所述冲洗软管的长度为一点五米，所述手柄的外表面设置有防滑纹。

优选的，所述搅拌器的数量为两组，且搅拌器的内部设置有转动轴，所述臭氧发生器的内部设置有射流器。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：该晶片周转盒清洗机，通过设置节流喷头，增大喷洒清洗液的面积，同时可以控制喷射速度，通过设置搅拌器，对清洗液进行充分而均匀的搅拌，避免清洗液的浪费，通过设置臭氧发生器，利用制造的臭氧水混合，提高灭菌清洗的效果，整个装置简单，操作方便。

附图说明

图1为本实用新型一种晶片周转盒清洗机的整体结构示意图。

图2为本实用新型一种晶片周转盒清洗机的局部视图。

图3为本实用新型一种晶片周转盒清洗机图2中A的放大视图。

图4为本实用新型一种晶片周转盒清洗机的内部视图。

图中：1、主体外壳；2、万向轮；3、观察窗；4、操作台；5、消毒剂投放口；6、清水接口；7、显示屏；8、开机按钮；9、冲洗软管；10、手柄； 11、节流喷头；12、喷水细孔；13、导流层；14、节流阀；15、水泵；16、药液混合箱；17、搅拌器；18、臭氧发生器。

具体实施方式

为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本实用新型。

如图1-4所示，一种晶片周转盒清洗机，包括主体外壳1与手柄10，主体外壳1的下端外侧活动安装有万向轮2，主体外壳1的一端外表面活动安装有观察窗3，主体外壳1的上端外侧固定安装有操作台4，且操作台4的上端外侧设有消毒剂投放口5与清水接口6，清水接口6固定安装在消毒剂投放口 5的一侧，操作台4的斜侧外表面设有显示屏7与开机按钮8，且开机按钮8 活动安装在显示屏7的一侧，主体外壳1的一端外侧设有冲洗软管9，手柄10固定安装在冲洗软管9的一端外侧，冲洗软管9的下端外侧固定安装有节流喷头11，增大喷洒清洗液的面积，同时可以控制喷射速度，节流喷头11的下端外表面设有喷水细孔12，节流喷头11的内部靠近喷水细孔12的位置固定安装有导流层13，冲洗软管9的一端外表面靠近节流喷头11的上方活动安装有节流阀14，主体外壳1的内部靠近冲洗软管9的一侧固定安装有水泵15，主体外壳1的内部中间位置靠近操作台4的下方设有药液混合箱16，药液混合箱16的内表面两侧均活动安装有搅拌器17，对清洗液进行充分而均匀的搅拌，避免清洗液的浪费，药液混合箱16的一端外侧固定安装有臭氧发生器18，利用制造的臭氧水混合，提高灭菌清洗的效果。

主体外壳1与操作台4的外表面均涂有防锈层，万向轮2的数量为四组；观察窗3的一端外表面设置有滑动玻璃，消毒剂投放口5的直径为八厘米；主体外壳1的一端外表面设置有电源接口，显示屏7、水泵15、搅拌器17和臭氧发生器18的输入端均与电源接口的输出端电性连接；冲洗软管9的长度为一点五米，手柄10的外表面设置有防滑纹；搅拌器17的数量为两组，且搅拌器17的内部设置有转动轴，臭氧发生器18的内部设置有射流器。

需要说明的是，本实用新型为一种晶片周转盒清洗机，在使用时，主要由主体外壳1和操作台4两部分组成，利用万向轮2装置可以向任意方向移动，工作时，先将消毒清洗液以及清水分别注入消毒剂投放口5和清水接口6，然后按下开机按钮8，显示屏7亮起，消毒清洗液以及清水进入药液混合箱 16中，搅拌器17对其进行均匀搅拌，同时臭氧发生器18工作，将水转换为臭氧水注入到药液混合箱16中，然后内部的水泵15启动，将药液混合箱16内部的混合液抽入冲洗软管9，再经过节流喷头11喷出，进行消毒清洗，节流喷头11内置喷水细孔12和导流层13，增大了清洗面积，同时可以利用节流阀14对喷射速度进行调整，通过观察窗3可以监测内部工作状态，较为实用。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (6)

1.一种晶片周转盒清洗机，包括主体外壳(1)与手柄(10)，其特征在于：所述主体外壳(1)的下端外侧活动安装有万向轮(2)，所述主体外壳(1)的一端外表面活动安装有观察窗(3)，所述主体外壳(1)的上端外侧固定安装有操作台(4)，且操作台(4)的上端外侧设有消毒剂投放口(5)与清水接口(6)，所述清水接口(6)固定安装在消毒剂投放口(5)的一侧，所述操作台(4)的斜侧外表面设有显示屏(7)与开机按钮(8)，且开机按钮(8)活动安装在显示屏(7)的一侧，所述主体外壳(1)的一端外侧设有冲洗软管(9)，所述手柄(10)固定安装在冲洗软管(9)的一端外侧，所述冲洗软管(9)的下端外侧固定安装有节流喷头(11)，所述节流喷头(11)的下端外表面设有喷水细孔(12)，所述节流喷头(11)的内部靠近喷水细孔(12)的位置固定安装有导流层(13)，所述冲洗软管(9)的一端外表面靠近节流喷头(11)的上方活动安装有节流阀(14)，所述主体外壳(1)的内部靠近冲洗软管(9)的一侧固定安装有水泵(15)，所述主体外壳(1)的内部中间位置靠近操作台(4)的下方设有药液混合箱(16)，所述药液混合箱(16)的内表面两侧均活动安装有搅拌器(17)，所述药液混合箱(16)的一端外侧固定安装有臭氧发生器(18)。

2.根据权利要求1所述的一种晶片周转盒清洗机，其特征在于：所述主体外壳(1)与操作台(4)的外表面均涂有防锈层，所述万向轮(2)的数量为四组。

3.根据权利要求1所述的一种晶片周转盒清洗机，其特征在于：所述观察窗(3)的一端外表面设置有滑动玻璃，所述消毒剂投放口(5)的直径为八厘米。

4.根据权利要求1所述的一种晶片周转盒清洗机，其特征在于：所述主体外壳(1)的一端外表面设置有电源接口，所述显示屏(7)、水泵(15)、搅拌器(17)和臭氧发生器(18)的输入端均与电源接口的输出端电性连接。

5.根据权利要求1所述的一种晶片周转盒清洗机，其特征在于：所述冲洗软管(9)的长度为一点五米，所述手柄(10)的外表面设置有防滑纹。

6.根据权利要求1所述的一种晶片周转盒清洗机，其特征在于：所述搅拌器(17)的数量为两组，且搅拌器(17)的内部设置有转动轴，所述臭氧发生器(18)的内部设置有射流器。

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