CN212910163U - 一种基材膜静电处理装置 - Google Patents
一种基材膜静电处理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN212910163U CN212910163U CN202022025646.9U CN202022025646U CN212910163U CN 212910163 U CN212910163 U CN 212910163U CN 202022025646 U CN202022025646 U CN 202022025646U CN 212910163 U CN212910163 U CN 212910163U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- box
- box body
- substrate film
- plate
- clamp plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 58
- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims abstract description 34
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 56
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 28
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 claims description 6
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 13
- 230000003068 static effect Effects 0.000 abstract description 11
- 230000005611 electricity Effects 0.000 abstract description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000011197 physicochemical method Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Elimination Of Static Electricity (AREA)
Abstract
本实用新型公开了一种基材膜静电处理装置，属于除静电技术领域，包括箱体，所述箱体上开设有闭合门，所述箱体两侧均安装有支架，所述支架内安装有氩气瓶，所述氩气瓶上插接有输气管，所述输气管另一端贯穿箱体并延伸至箱体内部，所述箱体内部安装有固定板，所述固定板上安装有放电装置，所述放电装置上安装有放电针，所述放电针底部安装有支撑平台，所述支撑平台底部安装有抽真空机，所述抽真空机上安装有吸气板，所述支撑平台上安装有夹紧机构且夹紧机构设置有多组。通过夹紧板A和夹紧板B对基材膜固定，能避免基材膜被风流吹散，通过放电装置电离氩气，使基材膜材料的静电能被消除干净，增加了装置的实用性。
Description
技术领域
本实用新型涉及除静电技术领域，尤其涉及一种基材膜静电处理装置。
背景技术
柔性材料镀膜需要将有机柔性材料在高真空环境中与不锈钢、塑料等材质进行多次的接触和剥离，这样就会产生较多的静电放电现象，严重情况下可达10KV电压，导致透明光学材料表面产生击伤现象而报废。
专利CN200410103392.0的公布了一种抗静电膜的成膜方法和用该成膜方法形成的图像显示装置，即使在表面上有凸凹不平的基材上也能以均匀的膜厚、高速地对抗静电膜进行成膜。在稳定地分散了金属氧化物微粒子的微粒子液中，添加用于降低该微粒子的电位的绝对值的溶液和降低该微粒子的分散稳定性的溶液，调制微粒子分散液，将具有绝缘性表面的基材浸渍到该微粒子分散液中，淀积微粒子凝集膜之后，进行加热处理，从而获得抗静电膜。
上述实用新型有些不足之处：1、基材膜在抽真空和输氩气的过程中，基材膜容易被气流吹动，造成基材膜杂乱。2、传统的除静电方案是采用除静电棒，但其只适用于在普通的大气环境下消静电，而在高真空环境中无法起辉产生离子，不能达到消除静电的效果。
实用新型内容
本实用新型提供一种基材膜静电处理装置，旨在通过夹紧板A和夹紧板B对基材膜固定，能避免基材膜被风流吹散，通过放电装置电离氩气，使基材膜材料的静电能被消除干净，增加了装置的实用性。
本实用新型提供的具体技术方案如下：
本实用新型提供的一种基材膜静电处理装置，包括箱体，所述箱体上开设有闭合门，所述箱体两侧均安装有支架，所述支架内安装有氩气瓶，所述氩气瓶上插接有输气管，所述输气管另一端贯穿箱体并延伸至箱体内部，所述箱体内部安装有固定板，所述固定板上安装有放电装置，所述放电装置上安装有放电针，所述放电针底部安装有支撑平台，所述支撑平台底部安装有抽真空机，所述抽真空机上安装有吸气板，所述支撑平台上安装有夹紧机构且夹紧机构设置有多组，所述夹紧机构由底座、夹紧板A、夹紧板B和竖轴组成，所述底座安装在支撑平台上，所述底座内插接有竖轴，所述竖轴上插接有夹紧板A和夹紧板B，所述夹紧板A位于夹紧板B下方，所述夹紧板A固定安装在底座上。
可选的，所述氩气瓶上安装有电磁阀门，所述输气管安装在电磁阀门上。
可选的，所述放电装置、抽真空机和电磁阀门的电力输入端与外部电源的电力输出端相连。
可选的，所述底座内部开设有螺纹槽，所述竖轴外壁刻有螺纹，所述竖轴外壁刻有的螺纹与螺纹槽适配。
可选的，所述夹紧板A和夹紧板B表面均铺设有硅胶垫。
本实用新型的有益效果如下：
1、本实用新型实施例提供一种基材膜静电处理装置，打开闭合门，将基材膜放置在支撑平台上，将支撑平台上的多组夹紧机构夹紧基材膜的两端，底座内部开设有螺纹槽，旋转竖轴，使竖轴垂直向下移动，竖轴移动过程中，带动夹紧板B，使夹紧板B向夹紧板A移动，夹住基材膜，夹紧板A和夹紧板B表面均铺设有硅胶垫，基材膜表面硬度低，为防止在夹紧过程中对基材膜造成损坏或者在基材膜表面留下较重的印记，因此使用硅胶对基材膜进行夹紧，通过夹紧板A和夹紧板B对基材膜固定，能避免基材膜被风流吹散，增加了装置的实用性。
2、本实用新型实施例提供一种基材膜静电处理装置，夹紧基材膜后，关闭闭合门，连接抽真空机的外部电源，利用机械、物理、化学或物理化学的方法，对被抽容器进行抽气，从而在这个封闭空间中改善、产生和维持箱体内部真空，再连接电磁阀门的开关，电磁阀门通常由电动执行机构和阀门组成，电磁阀门使用电能作为动力来通过电动执行机构来驱动阀门，实现阀门的开关动作，从而达到对管道介质的开关目的，使氩气瓶内的氩气通过输气管进入箱体内部，连接放电装置的外部电源，放电装置通电，放电针内部被输入电流，放电针电离输入箱体内部的氩气，产生正负离子并中和基材膜材料的静电荷，通过放电装置电离氩气，使基材膜材料的静电能被消除干净，增加了装置的实用性。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例的一种基材膜静电处理装置的整体结构示意图；
图2为本实用新型实施例的一种基材膜静电处理装置的图1中正视剖面结构示意图；
图3为本实用新型实施例的一种基材膜静电处理装置的图1中夹紧机构内扩展结构示意图。
图中：1、箱体；2、闭合门；3、氩气瓶；4、支架；5、固定板；6、放电装置；7、放电针；8、支撑平台；9、抽真空机；10、吸气板；11、夹紧机构；12、底座；13、螺纹槽；14、夹紧板A；15、夹紧板B；16、竖轴；17、输气管；18、电磁阀门。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
下面将结合图1～图3对本实用新型实施例的一种基材膜静电处理装置进行详细的说明。
参考图1、图2和图3所示，本实用新型实施例提供的一种基材膜静电处理装置，包括箱体1，所述箱体1上开设有闭合门2，所述箱体1两侧均安装有支架4，所述支架4内安装有氩气瓶3，所述氩气瓶3上插接有输气管17，所述输气管17另一端贯穿箱体1并延伸至箱体1内部，所述箱体1内部安装有固定板5，所述固定板5上安装有放电装置6，所述放电装置6上安装有放电针7，所述放电针7底部安装有支撑平台8，所述支撑平台8底部安装有抽真空机9，所述抽真空机9上安装有吸气板10，所述支撑平台8上安装有夹紧机构11且夹紧机构11设置有多组，所述夹紧机构11由底座12、夹紧板A14、夹紧板B15和竖轴16组成，所述底座12安装在支撑平台8上，所述底座12内插接有竖轴16，所述竖轴16上插接有夹紧板A14和夹紧板B15，所述夹紧板A14位于夹紧板B15下方，所述夹紧板A14固定安装在底座12上。
参考图1和图2所示，电磁阀门18通常由电动执行机构和阀门组成，电磁阀门18使用电能作为动力来通过电动执行机构来驱动阀门，实现阀门的开关动作，从而达到对管道介质的开关目的，使氩气瓶3内的氩气通过输气管17进入箱体1内。
参考图1和图2所示，连接抽真空机9的外部电源，利用机械、物理、化学或物理化学的方法，对被抽容器进行抽气，从而在这个封闭空间中改善、产生和维持箱体1内部真空，再连接电磁阀门18的开关，电磁阀门18通常由电动执行机构和阀门组成，电磁阀门18使用电能作为动力来通过电动执行机构来驱动阀门，实现阀门的开关动作，从而达到对管道介质的开关目的，使氩气瓶3内的氩气通过输气管17进入箱体1内部，连接放电装置6的外部电源，放电装置6通电，放电针7内部被输入电流，放电针7电离输入箱体1内部的氩气，产生正负离子并中和基材膜材料的静电荷，通过放电装置6电离氩气，使基材膜材料的静电能被消除干净，增加了装置的实用性。
参考图2和图3所示，旋转竖轴16，使竖轴16垂直向下移动，竖轴16移动过程中，带动夹紧板B15，使夹紧板B15向夹紧板A14移动，夹住基材膜。
参考图2和图3所示，基材膜表面硬度低，为防止在夹紧过程中对基材膜造成损坏或者在基材膜表面留下较重的印记，因此使用硅胶对基材膜进行夹紧。
本实用新型实施例提供一种基材膜静电处理装置，打开闭合门2，将基材膜放置在支撑平台8上，将支撑平台8上的多组夹紧机构11夹紧基材膜的两端，底座12内部开设有螺纹槽13，旋转竖轴16，使竖轴16垂直向下移动，竖轴16移动过程中，带动夹紧板B15，使夹紧板B15向夹紧板A14移动，夹住基材膜，夹紧板A14和夹紧板B15表面均铺设有硅胶垫，基材膜表面硬度低，为防止在夹紧过程中对基材膜造成损坏或者在基材膜表面留下较重的印记，因此使用硅胶对基材膜进行夹紧，通过夹紧板A14和夹紧板B15对基材膜固定，能避免基材膜被风流吹散，夹紧基材膜后，关闭闭合门2，连接抽真空机9的外部电源，利用机械、物理、化学或物理化学的方法，对被抽容器进行抽气，从而在这个封闭空间中改善、产生和维持箱体1内部真空，再连接电磁阀门18的开关，电磁阀门18通常由电动执行机构和阀门组成，电磁阀门18使用电能作为动力来通过电动执行机构来驱动阀门，实现阀门的开关动作，从而达到对管道介质的开关目的，使氩气瓶3内的氩气通过输气管17进入箱体1内部，连接放电装置6的外部电源，放电装置6通电，放电针7内部被输入电流，放电针7电离输入箱体1内部的氩气，产生正负离子并中和基材膜材料的静电荷，通过放电装置6电离氩气，使基材膜材料的静电能被消除干净，增加了装置的实用性。
显然，本领域的技术人员可以对本实用新型实施例进行各种改动和变型而不脱离本实用新型实施例的精神和范围。这样，倘若本实用新型实施例的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (5)
1.一种基材膜静电处理装置，包括箱体(1)，其特征在于，所述箱体(1)上开设有闭合门(2)，所述箱体(1)两侧均安装有支架(4)，所述支架(4)内安装有氩气瓶(3)，所述氩气瓶(3)上插接有输气管(17)，所述输气管(17)另一端贯穿箱体(1)并延伸至箱体(1)内部，所述箱体(1)内部安装有固定板(5)，所述固定板(5)上安装有放电装置(6)，所述放电装置(6)上安装有放电针(7)，所述放电针(7)底部安装有支撑平台(8)，所述支撑平台(8)底部安装有抽真空机(9)，所述抽真空机(9)上安装有吸气板(10)，所述支撑平台(8)上安装有夹紧机构(11)且夹紧机构(11)设置有多组，所述夹紧机构(11)由底座(12)、夹紧板A(14)、夹紧板B(15)和竖轴(16)组成，所述底座(12)安装在支撑平台(8)上，所述底座(12)内插接有竖轴(16)，所述竖轴(16)上插接有夹紧板A(14)和夹紧板B(15)，所述夹紧板A(14)位于夹紧板B(15)下方，所述夹紧板A(14)固定安装在底座(12)上。
2.根据权利要求1所述的一种基材膜静电处理装置，其特征在于，所述氩气瓶(3)上安装有电磁阀门(18)，所述输气管(17)安装在电磁阀门(18)上。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的一种基材膜静电处理装置，其特征在于，所述放电装置(6)、抽真空机(9)和电磁阀门(18)的电力输入端与外部电源的电力输出端相连。
4.根据权利要求1所述的一种基材膜静电处理装置，其特征在于，所述底座(12)内部开设有螺纹槽(13)，所述竖轴(16)外壁刻有螺纹，所述竖轴(16)外壁刻有的螺纹与螺纹槽(13)适配。
5.根据权利要求1所述的一种基材膜静电处理装置，其特征在于，所述夹紧板A(14)和夹紧板B(15)表面均铺设有硅胶垫。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202022025646.9U CN212910163U (zh) | 2020-09-16 | 2020-09-16 | 一种基材膜静电处理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202022025646.9U CN212910163U (zh) | 2020-09-16 | 2020-09-16 | 一种基材膜静电处理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN212910163U true CN212910163U (zh) | 2021-04-06 |
Family
ID=75258024
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202022025646.9U Expired - Fee Related CN212910163U (zh) | 2020-09-16 | 2020-09-16 | 一种基材膜静电处理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN212910163U (zh) |
-
2020
- 2020-09-16 CN CN202022025646.9U patent/CN212910163U/zh not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5607760B2 (ja) | Ｃｖｄ装置及びｃｖｄ方法 | |
| CN212910163U (zh) | 一种基材膜静电处理装置 | |
| TW201347865A (zh) | 基板表面處理設備 | |
| JP4469006B2 (ja) | 表示用基板の製造方法 | |
| JP2000357683A5 (zh) | ||
| CN203411606U (zh) | 一种批量化类金刚石涂层镀膜设备 | |
| CN100341120C (zh) | 等离子体处理装置以及等离子体处理方法 | |
| CN106998617A (zh) | 基于微等离子体喷枪产生大尺度大气压辉光放电的装置及方法 | |
| CN103972013B (zh) | 一种真空设备 | |
| CN105436180A (zh) | 一种真空玻璃等离子体清洗方法和设备 | |
| CN115440452A (zh) | 一种绝缘子附近金属颗粒启举电压提升方法及测试系统 | |
| CN1108768A (zh) | 干刻蚀装置 | |
| CN213258944U (zh) | 一种碳素制品抛光除尘装置 | |
| CN202773163U (zh) | 除静电装置 | |
| CN103695839A (zh) | 一种应用在镀膜设备中的离子源清洗装置 | |
| CN104556735B (zh) | 一种对玻璃及高分子材料表面改性的大气压沿面放电等离子体装置 | |
| CN203582958U (zh) | 一种应用在镀膜设备中的离子源清洗装置 | |
| CN102833933A (zh) | 除静电方法和除静电装置 | |
| CN203588970U (zh) | 一种适用于常压环境材料表面等离子体处理装置 | |
| CN112808707A (zh) | 一种表面清洁装置 | |
| JP2007520569A (ja) | 立体状重合体の連続表面処理装置及び連続表面処理方法 | |
| US20060175014A1 (en) | Specimen surface treatment system | |
| JP2000216228A (ja) | 基板固定台 | |
| CN204948492U (zh) | 阵列介质阻挡放电的装置 | |
| CN215040259U (zh) | 一种半封闭薄膜处理设备 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20210406 |
|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |