CN212874542U - 一种显示面板和显示装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型实施例公开了一种显示面板和显示装置。显示面板包括衬底基板以及位于衬底基板一侧的多个子像素；子像素包括依次位于衬底基板一侧的第一电极、有机发光层和第二电极；显示面板还包括位于相邻两个子像素之间的像素限定层，至少部分像素限定层靠近第二电极一侧的表面设置有导电结构，导电结构的电位小于第一电极的电位；有机发光层包括公共有机发光层，公共有机发光层覆盖导电结构、像素限定层和第一电极，至少一层公共有机发光层在导电结构和第一电极之间的像素限定层表面断开。本实用新型实施例提供的显示面板，以实现提高显示面板的色域及其稳定性、降低产品功耗，提高产品可靠性的效果。

Description

一种显示面板和显示装置

技术领域

本实用新型实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板和显示装置。

背景技术

随着显示技术的发展，显示面板，例如液晶显示面板、有机发光显示面板等多种类型的显示面板的应用越来越广泛。其中，有机发光显示面板包括有机发光二极管(OrganicLight Emitting Diode，OLED)显示面板，OLED显示面板具有自发光、广视角、响应快、对比度高等优点越来越多的被应用于各显示领域中。

由于目前OLED显示面板的像素分辨率越来越高，像素间距越来越小，更容易出现像素间的电流串扰，导致色域恶化，进而影响显示装置的显示效果的问题。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型实施例提供一种显示面板和显示装置，以实现提高显示面板的色域及其稳定性，降低产品功耗，提高产品可靠性的效果。

第一方面，本实用新型实施例提供了一种显示面板，该显示面板包括衬底基板以及位于所述衬底基板一侧的多个子像素；所述子像素包括依次位于所述衬底基板一侧的第一电极、有机发光层和第二电极；

所述显示面板还包括位于相邻两个所述子像素之间的像素限定层，至少部分所述像素限定层靠近所述第二电极一侧的表面设置有导电结构，所述导电结构的电位小于所述第一电极的电位；

所述有机发光层包括公共有机发光层，所述公共有机发光层覆盖所述导电结构、所述像素限定层和所述第一电极，至少一层所述公共有机发光层在所述导电结构和所述第一电极之间的所述像素限定层表面断开。

第二方面，本实用新型实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括：第一方面所述的显示面板。

本实用新型实施例提供的显示面板和显示装置，通过在至少部分像素限定层靠近第二电极一侧的表面设置有导电结构，由于导电结构的存在，使得其中一子像素内产生的有可能通过公共有机发光层横向传输至与此子像素相邻的另一子像素的电流流入导电结构，避免了其中一子像素内产生的电流有可能通过公共有机发光层横向传输至与此子像素相邻的另一子像素，导致另一子像素也被点亮的问题，也就是说，避免了相邻子像素的显色干扰，提高显示面板的色域及其稳定性；此外，通过将至少一层公共有机发光层在导电结构和第一电极之间的像素限定层表面断开设置，如此，增加横向传输路径中的电阻，降低横向传输路径中的电流，避免了较大的横向电流增加产品功耗以及较大的横向电流导致公共有机发光层被损坏进而降低产品可靠性的问题。

附图说明

通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本实用新型的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1是现有技术中的一种显示面板的结构示意图；

图2是本实用新型实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图3是图2中ZZ区域的局部放大图；

图4是本实用新型实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；

图5是本实用新型实施例提供的一种显示面板的部分电路图；

图6是本实用新型实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图；

图7是本实用新型实施例提供的又一种显示面板的俯视结构示意图；

图8是本实用新型实施例提供的又一种显示面板的俯视结构示意图；

图9是本实用新型实施例提供的一种显示面板的部分结构示意图；

图10是本实用新型实施例提供的又一种显示面板的部分结构示意图；

图11是本实用新型实施例提供的又一种显示面板的部分结构示意图；

图12是本实用新型实施例提供的又一种显示面板的部分结构示意图；

图13是本实用新型实施例提供的又一种显示面板的部分结构示意图；

图14是本实用新型实施例提供的又一种显示面板的部分电路图；

图15是本实用新型实施例提供的显示面板设置凹槽结构和未设置凹槽结构时色域的对比图；

图16是本实用新型实施例提供的显示面板设置凹槽结构和未设置凹槽结构时第一电极与导电结构间的电阻的对比图；

图17是本实用新型实施例提供的显示面板设置导电结构和凹槽结构、导电结构、凹槽结构以及未设置导电结构和凹槽结构时色域的对比图；

图18是本实用新型实施例提供的显示面板设置导电结构和凹槽结构、导电结构、凹槽结构以及未设置导电结构和凹槽结构时发光效率的对比图；

图19是本实用新型实施例提供的一种显示装置的结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，以下将结合本实用新型实施例中的附图，通过具体实施方式，完整地描述本实用新型的技术方案。显然，所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本实用新型的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下获得的所有其他实施例，均落入本实用新型的保护范围之内。

图1是现有技术中的一种显示面板的结构示意图，如图1所示，现有的显示面板100’包括衬底基板10’，位于衬底基板10’一侧的多个子像素20’；子像素20’包括依次位于衬底基板10’一侧的第一电极21’、发光器件层22’和第二电极23’；显示面板100’还包括位于相邻两个子像素20’之间的像素限定层30’。其中，发光器件层22’包括共同层221’和发光层222’，共同层221’例如可以包括依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层，发光层222’设置在空穴传输层和电子传输层之间。由于目前显示面板100’的像素分辨率越来越高，子像素20’间距越来越小，如此会出现子像素20’间的电流串扰，例如，参见图1，多个子像素20’包括第一子像素200’、第二子像素210’和第三子像素220’，当在第一子像素200’上加载电信号以点亮第一子像素200’时，由于子像素20’之间的间距较小，第一子像素200’内产生的电流可能通过共同层 221’横向传输至与第一子像素200’相邻的第二子像素210’，导致与第一子像素 200’相邻的第二子像素210’也被点亮，如此，导致色域恶化，进而影响显示面板的显示效果。

基于上述技术问题，本实用新型实施例提供一种显示面板，包括衬底基板以及位于衬底基板一侧的多个子像素；子像素单元包括依次位于衬底基板一侧的第一电极、有机发光层和第二电极；显示面板还包括位于相邻两个子像素之间的像素限定层，至少部分像素限定层靠近第二电极一侧的表面设置有导电结构，导电结构的电位小于第一电极的电位；有机发光层包括公共有机发光层，公共有机发光层覆盖导电结构、像素限定层和第一电极，至少一层公共有机发光层在导电结构和第一电极之间的像素限定层表面断开。

采用上述技术方案，通过在至少部分像素限定层靠近第二电极一侧的表面设置有导电结构，由于导电结构的存在，使得其中一子像素内产生的有可能通过公共有机发光层横向传输至与此子像素相邻的另一子像素的电流流入导电结构，避免了其中一子像素内产生的电流有可能通过公共有机发光层横向传输至与此子像素相邻的另一子像素，导致另一子像素也被点亮，也就是说，避免了相邻子像素的显色干扰，提高显示面板的色域及其稳定性；此外，通过将公共有机发光层在导电结构和第一电极之间的像素限定层表面断开设置，如此，增加横向传输路径中的电阻，降低横向传输路径中的电流，避免了较大的横向电流增加产品功耗以及较大的横向电流导致公共有机发光层被损坏进而降低产品可靠性的问题。

以上是本实用新型的核心思想，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下，所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

图2是本实用新型实施例提供的一种显示面板的结构示意图，图3是图2 中ZZ区域的局部放大图；如图2和图3所示，本实用新型实施例提供的显示面板100包括衬底基板10以及位于衬底基板10一侧的多个子像素20；子像素20包括依次位于衬底基板10一侧的第一电极21、有机发光层22和第二电极 23；显示面板100还包括位于相邻两个子像素20之间的像素限定层30，至少部分像素限定层30靠近第二电极23一侧的表面设置有导电结构40，导电结构 40的电位小于第一电极21的电位；有机发光层22包括公共有机发光层221，公共有机发光层221覆盖导电结构40、像素限定层30和第一电极21，至少一层公共有机发光层221在导电结构40和第一电极21之间的像素限定层30表面断开。

其中，公共有机发光层221例如可以至少包括空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层；例如，公共有机发光层221包括空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层；或者，公共有机发光层221包括空穴注入层、空穴传输层、红光发光层、绿光发光层、蓝光发光层、电子传输层和电子注入层。示例性的，可继续参见图2和图3，多个子像素20包括红光子像素200、绿光子像素210和蓝光子像素220；红光子像素200包括红光发光层222，绿光子像素210包括绿光发光层223，蓝光子像素220包括蓝光发光层224，其中，红光发光层222、绿光发光层223和蓝光发光层224是单独设置的，此时，公共有机发光层221包括空穴注入层225、空穴传输层226、电子传输层227和电子注入层228，如此可实现显示面板的彩色显示。示例性的，图4是本实用新型实施例提供的又一种显示面板的结构示意图，如图4所示，多个子像素20均为白光子像素，白光子像素包括堆叠设置的红光发光层222、绿光发光层223 和蓝光发光层224；此时，公共有机发光层221包括堆叠且整层设置的空穴注入层225、空穴传输层226、红光发光层222、绿光发光层223、蓝光发光层224、电子传输层227和电子注入层228；即相比于图2，图4中，多个子像素200、210、220中的红光发光层222、绿光发光层223和蓝光发光层224均为整层结构；例如可以通过在第二电极23背离衬底基板10的一侧设置彩膜层(图中未示出)实现显示面板的彩色显示。示例性的，多个子像素均为叠层白光子像素，白光子像素包括通过电荷生成层连接的蓝色发光层和红绿色发光层双叠层，通过电荷生成层连接的蓝色发光层和橙黄色发光层双叠层，通过电荷生成层连接的蓝色发光层、红绿色发光层和蓝色发光层三叠层，通过电荷生成层连接的蓝色发光层、橙黄色发光层和蓝色发光层三叠层或者通过电荷生成层连接的红色发光层、绿色发光层和蓝色发光层三叠层；电荷生成层包括n型电荷生成层和 P型电荷生成层；蓝色发光层包括空穴注入层、空穴传输层、蓝光发光层、电子传输层和电子注入层；红绿色发光层包括空穴注入层、空穴传输层、红绿光发光层、电子传输层和电子注入层；橙黄色发光层包括空穴注入层、空穴传输层、橙黄光发光层、电子传输层和电子注入层；红色发光层包括空穴注入层、空穴传输层、红光发光层、电子传输层和电子注入层；绿色发光层包括空穴注入层、空穴传输层、绿光发光层、电子传输层和电子注入层；公共有机发光层包括蓝色发光层、红绿色发光层和电荷生成层，或者包括蓝色发光层、橙黄色发光层和电荷生成层，或者包括蓝色发光层、红绿色发光层、蓝色发光层和电荷生成层，或者包括蓝色发光层、橙黄色发光层、蓝色发光层和电荷生成层，或者包括红色发光层、绿色发光层、蓝色发光层和电荷生成层。

具体的，本实施例通过在至少部分像素限定层30靠近第二电极23一侧的表面设置有导电结构40，由于导电结构40的存在，使得其中一子像素20内产生的有可能通过公共有机发光层221横向传输至与此子像素相邻的另一子像素 20的电流流入导电结构40；例如，图5是本实用新型实施例提供的一种显示面板的部分电路图，如图5所示，其中一个子像素200点亮时，此子像素200对应的节点NN处的电流一部分流经此子像素200达到第二电极23，一部分通过公共有机发光层221横向传输至导电结构40，避免了一部分电流通过公共有机发光层221横向传输至与此子像素200相邻的另一子像素210，致使无需点亮的子像素210被点亮，也就是说，通过设置导电结构40避免了相邻子像素20 的显色干扰，提高显示面板的色域及其稳定性。

进一步的，继续参见图2，当公共有机发光层221包括空穴注入层225、空穴传输层226、电子传输层227和电子注入层228时，通过将空穴注入层225、空穴传输层226、电子传输层227和电子注入层228中的至少一层在导电结构 40和第一电极21之间的像素限定层30表面断开设置，如此，增加横向传输路径中的电阻，降低横向传输路径中的电流，避免了较大的横向电流增加产品功耗以及较大的横向电流导致公共有机发光层被损坏进而降低产品可靠性的问题。或者，继续参见图4，当公共有机发光层221包括红光发光层222、绿光发光层223、蓝光发光层224、空穴注入层225、空穴传输层226、电子传输层227和电子注入层228中的至少一层时，通过将红光发光层222、绿光发光层223、蓝光发光层224、空穴注入层225、空穴传输层226、电子传输层227和电子注入层228中的至少一层在导电结构40和第一电极21之间的像素限定层30表面断开设置，如此，增加横向传输路径中的电阻，降低横向传输路径中的电流，避免了较大的横向电流增加产品功耗以及较大的横向电流导致公共有机发光层221被损坏进而降低产品可靠性的问题。

可选地，导电结构40的材料例如可以为钼、铬、铝、铜、铝铜合金、钛、氮化钛、钽、氮化钽、钨、锡、氧化铟锡、铝掺杂的氧化锌、氧化铟锌中的至少一种。可选地，在平行于衬底基板10的方向上，导电结构40的宽度例如可以小于等于1.5μm。可选地，导电结构40的方块电阻例如可以小于等于200Ω/□。可选地，导电结构40的厚度(thickness THK)例如可以小于等于100nm。可选地，图6是本实用新型实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图，如图6 所示，导电结构40在显示面板100中的形状例如可以为网状，但不构成对本申请的限定，例如导电结构40在显示面板100中的形状还可以为线状或梳状(图中未示出)等。继续参见图6，导电结构40与子像素20之间的关系可以是所有子像素20的四周均设置有导电结构40；也可以是部分子像素20的四周设置有导电结构40，例如，参见图7；还可以是子像素20的部分区域设置有导电结构40，例如，参见图8。可以理解的是，本领域技术人员可以根据实际情况设定导电结构40的形状，本实施例不进行具体限定。

可选地，衬底基板10可为刚性基板或柔性基板，本实用新型实施例对衬底基板的材质不作限定。

可选地，本实用新型实施例提供的显示面板可以包括设置在衬底基板10和第一电极21之间的像素驱动电路(图中未示出)。像素驱动电路可以依次包括位于衬底基板一侧的有源层、栅极绝缘层、栅极层、层间绝缘层以及源漏电极层。栅极层可以形成驱动电路中的栅极、扫描线以及存储电容的第一级；源漏电极层可以形成驱动电路中的源极、漏极、数据线以及电源信号线。栅极绝缘层和层间绝缘层的材料可以包括硅的氧化物或者硅的氮化物，本实用新型实施例对此不进行限定。驱动电路还可以包括位于栅极层和层间绝缘层之间，沿远离衬底基板方向堆叠的中间绝缘层以及中间金属层。其中，中间金属层通常用于形成存储电容的第二极以及参考电压线。显示面板还可以包括位于第二电极23远离衬底基板10一侧的封装层(图中未示出)，用于对有机发光层22进行水氧防护。

需要说明的是，图2和图4仅以空穴注入层225和空穴传输层226在像素限定层30的表面断开设置为例，但是并不构成对本申请的限定，本领域技术人员可以根据实际情况进行设置，在其他可选实施例中，例如还可以仅空穴注入层225在导电结构40和第一电极21之间的像素限定层30表面断开设置等。

需要说明的是，为了清晰的展示本实施例的发明点，可以理解的是，图4 示出的是，红光发光层222、绿光发光层223、蓝光发光层224为一个膜层，其实在实际设置时，红光发光层222、绿光发光层223、蓝光发光层224分别位于不同的膜层。

综上，本实用新型实施例提供的显示面板，通过在至少部分像素限定层靠近第二电极一侧的表面设置有导电结构，由于导电结构的存在，使得其中一子像素内产生的有可能通过公共有机发光层横向传输至与此子像素相邻的另一子像素的电流流入导电结构，避免了其中一子像素内产生的电流有可能通过公共有机发光层横向传输至与此子像素相邻的另一子像素，导致另一子像素也被点亮，也就是说，避免了相邻子像素的显色干扰，提高显示面板的色域及其稳定性；此外，通过将公共有机发光层在导电结构和第一电极之间的像素限定层表面断开设置，如此，增加横向传输路径中的电阻，降低横向传输路径中的电流，避免了较大的横向电流增加产品功耗以及较大的横向电流导致公共有机发光层被损坏进而降低产品可靠性的问题。

可选地，可通过对像素限定层的结构进行设置，以实现公共有机发光层在导电结构和第一电极之间的像素限定层表面断开。通过对像素限定层的结构进行设置，以实现公共有机发光层在导电结构和第一电极之间的像素限定层表面断开的方式有多种，下面就典型示例进行详细说明，但不构成对本申请的限定。

可选地，图9是本实用新型实施例提供的一种显示面板的部分结构示意图，如图9所示，像素限定层30包括靠近衬底基板10一侧的第一表面31、靠近第二电极一侧的第二表面32以及连接第一表面31和第二表面32的侧面33；侧面33与第一电极21所在平面垂直，至少一层公共有机发光层在侧面33断开。

需要说明的是，图9仅以至少一层公共有机发光层包括空穴注入层225为例，且为了清晰的展示像素限定层30的结构，图9仅简单示出了衬底基板10、第一电极21、空穴注入层225、像素限定层30和导电结构40的相对位置关系。下述实施例相同，下述实施例不在进行赘述。

示例性的，由于像素限定层30的侧面33与第一电极21所在平面垂直，所以在制备空穴注入层225时，空穴注入层225在侧面33断开，如此，增加横向传输路径中的电阻，降低横向传输路径中的电流，避免了较大的横向电流增加产品功耗以及较大的横向电流导致公共有机发光层被损坏进而降低产品可靠性的问题。

可选地，继续参见图2，像素限定层30包括靠近衬底基板10一侧的第一表面31、靠近第二电极23一侧的第二表面32以及连接第一表面31和第二表面32的侧面33；侧面33设置有至少一个第一凹槽结构OO，至少一层公共有机发光层221在第一凹槽结构OO位置处断开。

示例性的，继续参见图2和图3，由于像素限定层30的侧面33设置有至少一个第一凹槽结构OO，所以在制备公共有机发光层，例如公共有机发光层中的空穴注入层225时，空穴注入层225在第一凹槽结构OO处断开，即图2和图3中，DD区域未设置空穴注入层225，如此，增加横向传输路径中的电阻，降低横向传输路径中的电流，避免了较大的横向电流增加产品功耗以及较大的横向电流导致公共有机发光层被损坏进而降低产品可靠性的问题。

需要说明的是，图2仅以侧面33设置有一个第一凹槽结构OO为例，但不构成对本申请的限定。

可选地，图10是本实用新型实施例提供的又一种显示面板的部分结构示意图，如图10所示，侧面33设置有至少两个第一凹槽结构OO，至少两个第一凹槽结构OO沿第一方向排列；第一方向与第一电极21指向第二电极23的方向平行。

示例性的，参见图10，由于像素限定层30的侧面33设置有三个第一凹槽结构OO，所以在制备公共有机发光层，例如公共有机发光层中的空穴注入层 225时，空穴注入层225在三个第一凹槽结构OO处断开，如此，增加横向传输路径中的电阻，降低横向传输路径中的电流，避免了较大的横向电流增加产品功耗以及较大的横向电流导致公共有机发光层被损坏进而降低产品可靠性的问题。

可选地，第一凹槽结构OO包括第一表面O1和第二表面O2，当像素限定层设置有至少一个第一凹槽结构OO，例如为三个第一凹槽结构OO，沿垂直衬底基板10所在平面的方向，靠近第一电极21的第一凹槽结构OO的第二表面 O2的高度高于第一电极21背离衬底基板10的表面的高度，例如参见图10；也可以是沿垂直衬底基板10所在平面的方向，靠近第一电极21的第一凹槽结构OO的第二表面O2的高度与第一电极21背离衬底基板10的表面的高度相同，例如，参见图11，本实施例不做限定。

可选地，图12是本实用新型实施例提供的又一种显示面板的部分结构示意图，如图12所示，沿第二方向，第一凹槽结构OO延伸至导电结构40下方；第二方向与第二表面平行。

具体的，沿第二方向，第一凹槽结构OO延伸至导电结构40下方，也可以理解为像素限定层30对应导电结构40的位置为一个凸起结构，且凸起结构在衬底基板10所在平面的垂直投影位于导电结构40在衬底基板10所在平面的垂直投影内，如此，在制备公共有机发光层，例如，公共有机发光层中的空穴注入层225时，空穴注入层225在第一凹槽结构OO处断开，如此，增加横向传输路径中的电阻，降低横向传输路径中的电流。可选地，沿第一方向，其中，第一方向为第一电极21指向第二电极的方向，凸起结构的高度例如可以小于等于25nm，如此，保证空穴注入层225在凸起结构处断开的同时，保证了产品的可靠性。

可选地，继续参见图2和图3，沿第一方向，第一凹槽结构OO的高度H1 满足5nm≤H1≤25nm；沿第二方向，第一凹槽结构的深度D1满足D1≥10nm；第一方向与第一电极21指向第二电极23的方向平行，第二方向与第二表面平行。

其中，第一凹槽结构OO的高度设置为5nm到25nm之间，以及第一凹槽结构OO的深度设置为大于等于10nm，即不会因为第一凹槽结构OO的高度和深度过小，存在工艺波动时，导致第一凹槽结构OO不存在，进而导致至少一层公共有机发光层在导电结构40和第一电极21之间的像素限定层30表面不能断开，也不会因为第一凹槽结构OO的高度和深度过大影响产品可靠性，因此，本实施例较佳的设置第一凹槽结构OO的高度H1满足5nm≤H1≤25nm，以及第一凹槽结构OO的深度D1满足D1≥10nm，以在保证形成第一凹槽结构OO的同时，保证了产品可靠性。可选地，第一凹槽结构OO的高度H1满足 10nm≤H1≤15nm，例如，第一凹槽结构OO的高度H1为10nm、12nm或15nm 中的任意一种。

可选地，图13是本实用新型实施例提供的一种显示面板的部分结构示意图，如图13所示，像素限定层30包括靠近第二电极一侧的第二表面32；第二表面 32设置有至少一个第二凹槽结构QQ，公共有机发光层在第二凹槽结构QQ位置处断开。

示例性的，由于像素限定层30的第二表面32设置有至少一个第二凹槽结构QQ，所以在制备公共有机发光层，例如公共有机发光层中的空穴注入层225 时，空穴注入层225在第二凹槽结构QQ处断开，如此，增加横向传输路径中的电阻，降低横向传输路径中的电流，避免了较大的横向电流增加产品功耗以及较大的横向电流导致公共有机发光层被损坏进而降低产品可靠性的问题。

在上述方案的基础上，可选地，继续参见图13，沿第一方向，第二凹槽结构QQ的高度H2满足30nm≤H2≤100nm；第一方向与第一电极21指向第二电极23的方向平行；沿第二方向，第二凹槽结构QQ的延伸宽度W满足 10nm≤W≤30nm，第二方向与第二表面32平行。

其中，第二凹槽结构QQ的高度设置为30nm到100nm之间，第二凹槽结构QQ的延伸宽度W设置为10nm到30nm之间，即不会因为第二凹槽结构QQ 的高度和延伸宽度过小，存在工艺波动时，导致第二凹槽结构QQ不存在，进而导致至少一层公共有机发光层在导电结构40和第一电极21之间的像素限定层30表面不能断开，也不会因为第二凹槽结构QQ的高度和延伸宽度过大影响产品可靠性，因此，本实施例较佳的设置第二凹槽结构QQ的高度H2满足30nm≤H2≤100nm，第二凹槽结构QQ的延伸宽度W满足10nm≤W≤30nm，以在保证形成第二凹槽结构QQ的同时，保证了产品可靠性。

需要说明的是，以上各实施例像素限定层的结构可以单独设置，也可以将以上各实施例像素限定层的结构组合，例如，可以既设置第一凹槽结构，同时还设置第二凹槽结构，以实现公共有机发光层在导电结构和第一电极之间的像素限定层表面断开，进而可以进一步增加第一电极和导电结构之间的电阻，即进一步增加横向传输路径中的电阻，本领域技术人员可以根据实际情况进行设置，本实施例不进行具体限定。

可选地，第一电极21的电位V1、导电结构40的电位V2和第二电极23 的电位V3满足V1>V2≥V3，且0V≤V2-V3≤3V。如此，保证子像素20被点亮的同时还可以使得其中一子像素20内产生的有可能通过公共有机发光层221横向传输至与此子像素相邻的另一子像素20的电流流入导电结构40，避免了相邻子像素的显色干扰；同时还不会增加产品功耗。

可选地，图14是本实用新型实施例提供的又一种显示面板的部分电路图，如图14所示，显示面板还包括二极管50；二极管50的正极与导电结构40电连接，二极管50的负极与第二电极23电连接，导电结构40的电位与第二电极 23的电位相同；或者，二极管50的正极与导电结构40电连接，二极管50的负极与独立电位信号端子电连接，独立电位信号端子的电位高于或等于第二电极23的电位。

具体的，通过在导电结构40上串联一二极管50，通过二极管50进行分压，如此，降低跨压，即横向传输路径中的电压降低，进而降低漏电，进而降低了产品功耗。当导电结构40可以与第二电极23电连接，与第二电极23同电位，时，无需单独设置为导电结构40提供电位的结构，简化工艺步骤。当二极管 50的正极与导电结构40电连接，二极管50的负极与独立电位信号端子电连接时，可以灵活的控制二极管50的负极的电压，进一步降低产品功耗。

可选地，二极管50可以集成在显示面板内部，也可以外挂设置，本实施例不做限定。

图15是本实用新型实施例提供的显示面板设置凹槽结构和未设置凹槽结构时色域的对比图，如图15所示，Special PDL为显示面板中的像素限定层为设置第一凹槽结构或第二凹槽结构后的像素限定层；Normal PDL为显示面板中的像素限定层为现有技术中的像素限定层，即未设置第一凹槽结构或第二凹槽结构的像素限定层；纵坐标为色域。由图15可知，当像素限定层设置第一凹槽结构或第二凹槽结构时显示面板的色域较好。

图16是本实用新型实施例提供的显示面板设置凹槽结构和未设置凹槽结构时色域的对比图，如图16所示，Special PDL为显示面板中的像素限定层为设置第一凹槽结构或第二凹槽结构后的像素限定层；Normal PDL为显示面板中的像素限定层为现有技术中的像素限定层，即未设置第一凹槽结构或第二凹槽结构的像素限定层；纵坐标为第一电极与导电结构间的电阻。由图16可知，当像素限定层设置第一凹槽结构或第二凹槽结构时第一电极与导电结构间的电阻明显大于未设置第一凹槽结构或第二凹槽结构时第一电极与导电结构间的电阻，即显示面板包括设置第一凹槽结构或第二凹槽结构的像素限定层时横向传输路径中的电阻较大，降低横向传输路径中的电流，避免了较大的横向电流增加产品功耗以及较大的横向电流导致公共有机发光层被损坏进而降低产品可靠性的问题。

图17是本实用新型实施例提供的显示面板设置导电结构和凹槽结构、导电结构、凹槽结构以及未设置导电结构和凹槽结构时色域的对比图，如图17所示， 1.Special PDL+导电结构为显示面板既包括设置第一凹槽结构或第二凹槽结构后的像素限定层，同时还包括导电结构；2.Normal PDL+导电结构为显示面板包括未设置第一凹槽结构或第二凹槽结构的像素限定层，同时还包括导电结构； 3.Special PDL为显示面板包括设置第一凹槽结构或第二凹槽结构后的像素限定层，但是显示面板中未设置导电结构；4.Normal PDL为显示面板包括未设置第一凹槽结构或第二凹槽结构的像素限定层，同时显示面板未设置有导电结构；纵坐标为色域。由图17可知，显示面板既包括设置第一凹槽结构或第二凹槽结构后的像素限定层，同时还包括导电结构时，整个色域在亮度从0-1800cd/m2 可以都维持在90％左右。

图18是本实用新型实施例提供的显示面板设置导电结构和凹槽结构、导电结构、凹槽结构以及未设置导电结构和凹槽结构时发光效率的对比图，如图18 所示，1.SpecialPDL+导电结构为显示面板既包括设置第一凹槽结构或第二凹槽结构后的像素限定层，同时还包括导电结构；2.Normal PDL+导电结构为显示面板既包括未设置第一凹槽结构或第二凹槽结构的像素限定层，同时还包括导电结构；3.Special PDL为显示面板包括设置第一凹槽结构或第二凹槽结构后的像素限定层，但未包括导电结构；4Normal PDL为显示面板包括未设置第一凹槽结构或第二凹槽结构的像素限定层；纵坐标为发光效率。由图18可知，显示面板既包括第一凹槽结构或第二凹槽结构后的像素限定层，但不包括导电结构时，发光效率最好；同时设置第一凹槽结构或第二凹槽结构后的像素限定层，同时还包括导电结构时，随着亮度增加发光效率逐渐接近只设置Special PDL效率较Normal PDL+导电结构效率提升明显。

基于同样的实用新型构思，本实用新型实施例还提供了一种显示装置，图 19是本实用新型实施例提供的一种显示装置的结构示意图。如图19所示，显示装置1000包括上述实施例中的显示面板100，因此本实用新型实施例提供的显示装置1000也具备上述实施例所描述的有益效果，此处不再赘述。示例性的，显示装置1000可以是AR(增强现实，Augmented Reality)显示装置、VR(虚拟显示，Virtual Reality)显示装置、手机、电脑或电视等电子显示设备。

注意，上述仅为本实用新型的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本实用新型不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本实用新型进行了较为详细的说明，但是本实用新型不仅仅限于以上实施例，在不脱离本实用新型构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本实用新型的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (13)

1.一种显示面板，其特征在于，包括衬底基板以及位于所述衬底基板一侧的多个子像素；所述子像素包括依次位于所述衬底基板一侧的第一电极、有机发光层和第二电极；

所述显示面板还包括位于相邻两个所述子像素之间的像素限定层，至少部分所述像素限定层靠近所述第二电极一侧的表面设置有导电结构，所述导电结构的电位小于所述第一电极的电位；

所述有机发光层包括公共有机发光层，所述公共有机发光层覆盖所述导电结构、所述像素限定层和所述第一电极，至少一层所述公共有机发光层在所述导电结构和所述第一电极之间的所述像素限定层表面断开。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素限定层包括靠近所述衬底基板一侧的第一表面、靠近所述第二电极一侧的第二表面以及连接所述第一表面和所述第二表面的侧面；

所述侧面与所述第一电极所在平面垂直，至少一层所述公共有机发光层在所述侧面断开。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素限定层包括靠近所述衬底基板一侧的第一表面、靠近所述第二电极一侧的第二表面以及连接所述第一表面和所述第二表面的侧面；

所述侧面设置有至少一个第一凹槽结构，至少一层所述公共有机发光层在所述第一凹槽结构位置处断开。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述侧面设置有至少两个所述第一凹槽结构，至少两个所述第一凹槽结构沿第一方向排列；所述第一方向与所述第一电极指向所述第二电极的方向平行。

5.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，沿第二方向，所述第一凹槽结构延伸至所述导电结构下方；所述第二方向与所述第二表面平行。

6.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，沿第一方向，所述第一凹槽结构的高度H1满足5nm≤H1≤25nm；沿第二方向，所述第一凹槽结构的深度D1满足D1≥10nm；所述第一方向与所述第一电极指向所述第二电极的方向平行，所述第二方向与所述第二表面平行。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素限定层包括靠近所述第二电极一侧的第二表面；

所述第二表面设置有至少一个第二凹槽结构，所述公共有机发光层在所述第二凹槽结构位置处断开。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，沿第一方向，所述第二凹槽结构的高度H2满足30nm≤H2≤100nm；所述第一方向与所述第一电极指向所述第二电极的方向平行；

沿第二方向，所述第二凹槽结构的延伸宽度W满足10nm≤W≤30nm，所述第二方向与所述第二表面平行。

9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述公共有机发光层至少包括空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层。

10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，多个所述子像素均为白光子像素，所述白光子像素包括堆叠设置的红光发光层、绿光发光层和蓝光发光层；所述公共有机发光层包括所述空穴注入层、所述空穴传输层、所述红光发光层、所述绿光发光层、所述蓝光发光层、所述电子传输层和所述电子注入层；或者，

多个所述子像素均为叠层白光子像素，所述白光子像素包括通过电荷生成层连接的蓝色发光层和红绿色发光层双叠层，通过电荷生成层连接的蓝色发光层和橙黄色发光层双叠层，通过电荷生成层连接的蓝色发光层、红绿色发光层和蓝色发光层三叠层，通过电荷生成层连接的蓝色发光层、橙黄色发光层和蓝色发光层三叠层或者通过电荷生成层连接的红色发光层、绿色发光层和蓝色发光层三叠层；所述电荷生成层包括n型电荷生成层和P型电荷生成层；所述蓝色发光层包括空穴注入层、空穴传输层、蓝光发光层、电子传输层和电子注入层；所述红绿色发光层包括空穴注入层、空穴传输层、红绿光发光层、电子传输层和电子注入层；所述橙黄色发光层包括空穴注入层、空穴传输层、橙黄光发光层、电子传输层和电子注入层；所述红色发光层包括空穴注入层、空穴传输层、红光发光层、电子传输层和电子注入层；所述绿色发光层包括空穴注入层、空穴传输层、绿光发光层、电子传输层和电子注入层；所述公共有机发光层包括蓝色发光层、红绿色发光层和电荷生成层，或者包括蓝色发光层、橙黄色发光层和电荷生成层，或者包括蓝色发光层、红绿色发光层、蓝色发光层和电荷生成层，或者包括蓝色发光层、橙黄色发光层、蓝色发光层和电荷生成层，或者包括红色发光层、绿色发光层、蓝色发光层和电荷生成层；或者，

多个所述子像素包括红光子像素、绿光子像素和蓝光子像素；所述红光子像素包括红光发光层，所述绿光子像素包括绿光发光层，所述蓝光子像素包括蓝光发光层；所述公共有机发光层包括所述空穴注入层、所述空穴传输层、所述电子传输层和所述电子注入层。

11.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一电极的电位V1、所述导电结构的电位V2和所述第二电极的电位V3满足V1>V2≥V3，且0V≤V2-V3≤3V。

12.根据权利要求11所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括二极管；

所述二极管的正极与所述导电结构电连接，所述二极管的负极与所述第二电极电连接，所述导电结构的电位与所述第二电极的电位相同；

或者，所述二极管的正极与所述导电结构电连接，所述二极管的负极与独立电位信号端子电连接，所述独立电位信号端子的电位高于或等于所述第二电极的电位。

13.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-12任一项所述的显示面板。

Images