CN212834020U - 一种化学气相沉积设备气体分配器结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及化学气相沉积设备技术领域，具体涉及一种化学气相沉积设备气体分配器结构，包括壳体，壳体的顶部外侧设有固定环，固定环的外壁周向设有四组固定耳板，固定环的内壁开设有第一密封槽，壳体的顶部内侧开设有第二密封槽，壳体的内腔底部均匀开设有分配气孔，本实用新型提供了一种化学气相沉积设备气体分配器结构，通过一系列结构的设计和使用，解决了大多密封效果差，导致通入分配器内腔内的工艺气体会发生泄漏现象，同时不能达到对工艺气体流动时产生的噪音进行吸音降噪的目的，而且耐腐蚀性能较差的问题。

Description

一种化学气相沉积设备气体分配器结构

技术领域

本实用新型涉及化学气相沉积设备技术领域，具体涉及一种化学气相沉积设备气体分配器结构。

背景技术

气体分布装置中的核心部件气体分配器用于向等刻蚀硅片传送气相化学物质，以便通过化学气相沉积原子层沉积或类似方法，在硅片表面沉积均匀的薄膜或薄层。原子层沉积是半导体工艺中制备薄膜器件的关键步骤，传统的化学气相沉积设备均包含一个化学物质气体分配器，参与反应的化学物质从气体分配器中溢出，最终进入反应区域沉积在半导体工艺件上，气体分配器的结构中通常含有数百乃至数千个等直径的小孔，各孔径的微小差异对沉积层厚度均匀性构成直接影响。

现有市场上的化学气相沉积设备气体分配器结构在进行安装使用时大多密封效果差，导致通入分配器内腔内的工艺气体会发生泄漏现象，同时不能达到对工艺气体流动时产生的噪音进行吸音降噪的目的，而且耐腐蚀性能较差，因此亟需研发一种化学气相沉积设备气体分配器结构来解决上述问题。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种化学气相沉积设备气体分配器结构，通过一系列结构的设计和使用，解决了大多密封效果差，导致通入分配器内腔内的工艺气体会发生泄漏现象，同时不能达到对工艺气体流动时产生的噪音进行吸音降噪的目的，而且耐腐蚀性能较差的问题。

本实用新型通过以下技术方案予以实现：

一种化学气相沉积设备气体分配器结构，包括壳体，所述壳体的顶部外侧设有固定环，所述固定环的外壁周向设有四组固定耳板，所述固定环的内壁开设有第一密封槽，所述壳体的顶部内侧开设有第二密封槽，所述壳体的内腔底部均匀开设有分配气孔；

所述壳体的内外壁上还包括依次设置的消音涂层和耐腐蚀涂层，且所述消音涂层为消音涂料喷涂制成，所述耐腐蚀涂层为金属陶瓷涂层材质制成。

优选的，所述固定耳板上还包括对称开设的两组螺纹孔。

优选的，所述第一密封槽由四组弧形部和四组直线部交错设置，所述第二密封槽呈环形结构设置，且所述第一密封槽和所述第二密封槽内分别安装有相匹配的密封圈。

优选的，所述分配气孔包括上部设置的锥状孔和下部设置的柱状孔，且所述锥状孔的底部孔径和所述柱状孔的孔径相一致。

优选的，所述消音涂层上喷涂的消音涂料为硅酸铝纤维涂料材质制成。

优选的，所述壳体的内侧壁与内底壁之间的连接处、所述壳体的外侧壁与外底壁之间的连接处均为圆角过渡结构设置。

本实用新型的有益效果为：

本实用新型在采用上述的结构和设计使用下，解决了大多密封效果差，导致通入分配器内腔内的工艺气体会发生泄漏现象，同时不能达到对工艺气体流动时产生的噪音进行吸音降噪的目的，而且耐腐蚀性能较差的问题；

而且本实用新型结构新颖，设计合理，使用方便，具有较强的实用性。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型的正视图；

图2是本实用新型的俯视图；

图3是本实用新型的仰视图；

图4是本实用新型的剖视图；

图5是本实用新型的壳体剖视图。

图中：1-壳体、2-固定环、3-固定耳板、4-第一密封槽、41-弧形部、42-直线部、5-第二密封槽、6-分配气孔、61-锥状孔、62-柱状孔、7-消音涂层、8-耐腐蚀涂层、9-螺纹孔。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

一种化学气相沉积设备气体分配器结构，包括壳体1，壳体1的顶部外侧设有固定环2，固定环2的外壁周向设有四组固定耳板3，固定环2的内壁开设有第一密封槽4，壳体1的顶部内侧开设有第二密封槽5，壳体1的内腔底部均匀开设有分配气孔6；

壳体1的内外壁上还包括依次设置的消音涂层7和耐腐蚀涂层8，且消音涂层7为消音涂料喷涂制成，耐腐蚀涂层8为金属陶瓷涂层材质制成。

具体的，固定耳板3上还包括对称开设的两组螺纹孔9。

具体的，第一密封槽4由四组弧形部41和四组直线部42交错设置，第二密封槽5呈环形结构设置，且第一密封槽4和第二密封槽5内分别安装有相匹配的密封圈。

具体的，分配气孔6包括上部设置的锥状孔61和下部设置的柱状孔62，且锥状孔61的底部孔径和柱状孔62的孔径相一致。

具体的，消音涂层7上喷涂的消音涂料为硅酸铝纤维涂料材质制成。

具体的，壳体1的内侧壁与内底壁之间的连接处、壳体1的外侧壁与外底壁之间的连接处均为圆角过渡结构设置。

工作原理：本实用新型进行安装使用时，首先通过四组固定耳板3上的螺纹孔9将本结构安装至化学气相沉积设备的内腔顶壁处且此处的化学气相沉积设备的内腔顶壁处设置有与本结构中固定环2相配合安装的凸起圆环，将此处的凸起圆环的外壁与固定环2的内壁相抵接，同时通过设置的第一密封槽4和第二密封槽5，可以进一步提高对本结构与化学气相沉积设备进行安装时的密封效果；

而且通过第一密封槽4由四组弧形部41和四组直线部42交错设置，第二密封槽5呈环形结构设置，且第一密封槽4和第二密封槽5内分别安装有相匹配的密封圈，通过四组弧形部41和四组直线部42交错设置，可以对第一密封槽4内配合安装的密封圈进行轴向定位的目的，避免其发生移位现象，进一步提高其密封效果；

而且通过消音涂层7的设置，且消音涂层7上喷涂的消音涂料为硅酸铝纤维涂料材质制成，可以达到对工艺气体流动时产生的噪音进行吸音降噪的目的；通过耐腐蚀涂层8的设置，且耐腐蚀涂层8为金属陶瓷涂层材质制成，可以达到进一步提高对壳体1进行耐腐蚀保护的目的；

而且通过分配气孔6包括上部设置的锥状孔61和下部设置的柱状孔62，且锥状孔61的底部孔径和柱状孔62的孔径相一致，可以进一步提高对工艺气体经分配气孔6通过分配时的流速，进一步提高对反应腔内待刻蚀衬底的效果；

而且通过壳体1的内侧壁与内底壁之间的连接处、壳体1的外侧壁与外底壁之间的连接处均为圆角过渡结构设置，可以避免工艺气体激发时产生的等离子体进行冲击形成污染物掉落影响刻蚀效果；

进而在上述结构的设计和使用下，本实用新型在进行使用过程中，解决了大多密封效果差，导致通入分配器内腔内的工艺气体会发生泄漏现象，同时不能达到对工艺气体流动时产生的噪音进行吸音降噪的目的，而且耐腐蚀性能较差的问题。

以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (6)

1.一种化学气相沉积设备气体分配器结构，包括壳体（1），其特征在于：所述壳体（1）的顶部外侧设有固定环（2），所述固定环（2）的外壁周向设有四组固定耳板（3），所述固定环（2）的内壁开设有第一密封槽（4），所述壳体（1）的顶部内侧开设有第二密封槽（5），所述壳体（1）的内腔底部均匀开设有分配气孔（6）；

所述壳体（1）的内外壁上还包括依次设置的消音涂层（7）和耐腐蚀涂层（8），且所述消音涂层（7）为消音涂料喷涂制成，所述耐腐蚀涂层（8）为金属陶瓷涂层材质制成。

2.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积设备气体分配器结构，其特征在于：所述固定耳板（3）上还包括对称开设的两组螺纹孔（9）。

3.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积设备气体分配器结构，其特征在于：所述第一密封槽（4）由四组弧形部（41）和四组直线部（42）交错设置，所述第二密封槽（5）呈环形结构设置，且所述第一密封槽（4）和所述第二密封槽（5）内分别安装有相匹配的密封圈。

4.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积设备气体分配器结构，其特征在于：所述分配气孔（6）包括上部设置的锥状孔（61）和下部设置的柱状孔（62），且所述锥状孔（61）的底部孔径和所述柱状孔（62）的孔径相一致。

5.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积设备气体分配器结构，其特征在于：所述消音涂层（7）上喷涂的消音涂料为硅酸铝纤维涂料材质制成。

6.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积设备气体分配器结构，其特征在于：所述壳体（1）的内侧壁与内底壁之间的连接处、所述壳体（1）的外侧壁与外底壁之间的连接处均为圆角过渡结构设置。

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