CN212834009U - 一种基板高速旋转的中心回转驱动系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，尤其是一种基板高速旋转的中心回转驱动系统，包括通过设于大气侧内的驱动装置驱动的磁流体，磁流体为中空的轴状结构并且其两端分别设于大气侧和真空侧内，磁流体的中空结构连接基板架，并且基板架设于磁流体的处于真空侧的一端，基板架可在磁流体的带动下进行旋转。本实用新型通过具有中空轴状结构的磁流体的导入实现大气到真空的基板旋转驱动，并可实现基板加热机构、温度检测机构和膜厚检测机构等功能部件的真空导入，具有结构紧凑和布局合理的优点，并有利于实现对镀膜过程的精密监控和控制膜厚均匀性等。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，尤其是一种基板高速旋转的中心回转驱动系统。
背景技术
真空镀膜设备可通过装载镀膜基板的基板架的旋转来实现膜厚均匀性。同时，通过磁流体机构的真空导入可实现大气到真空的基板架旋转驱动。另外，在成膜过程中，往往需要配置基板加热机构、温度检测机构和膜厚检测机构等功能部件。现有的真空镀膜设备是通过在大气侧设置马达，马达带动磁流体在真空侧内转动，再由磁流体连接基板架实现基板架旋转。基板加热机构、温度检测机构和膜厚检测机构等功能部件的真空导入一般独立于磁流体机构的真空导入。当基板架面积较小且需要对基板架上镀膜基板的工艺参数进行精密检测时，上述功能部件的真空导入方式存在占有空间较大和无法合理安装等缺陷；并且，容易对基板膜厚的均匀性产生不利影响。
发明内容
本实用新型的目的是根据上述现有技术的不足，提供了一种基板高速旋转的中心回转驱动系统，通过具有中空轴状结构的磁流体的导入实现大气到真空的基板旋转驱动，并可实现基板加热机构、温度检测机构和膜厚检测机构等功能部件的真空导入，具有结构紧凑和布局合理的优点，并有利于实现对镀膜过程的精密监控和控制膜厚均匀性。
本实用新型目的实现由以下技术方案完成：
一种基板高速旋转的中心回转驱动系统，其特征在于：包括通过设于大气侧内的驱动装置驱动的磁流体，所述磁流体为中空的轴状结构并且其两端分别设于大气侧和真空侧内，所述磁流体的中空结构连接基板治具，并且所述基板治具设于所述磁流体的处于真空侧的一端，所述基板治具可在所述磁流体的带动下进行旋转。
所述磁流体的中空结构内还设有光学监控装置、红外温度监控装置、基板冷却装置、基板加热以及监控装置。
所述驱动装置为伺服马达，所述伺服马达通过皮带传动来驱动所述磁流体旋转。
本实用新型的优点是：通过磁流体的导入实现大气到真空的基板旋转驱动，可以有效地提高基板架的转速，进而提高基板膜厚的均匀性；利用基板旋转的磁流体导入的中空结构，可在该中空结构安装各种镀膜加工相关的设备，结构紧凑，占用空间少。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图通过实施例对本实用新型特征及其它相关特征作进一步详细说明，以便于同行业技术人员的理解：
如图1所示，图中1-8标记分别表示为：磁流体1、伺服马达2、光学监控装置3、红外温度监控装置所发出的红外光线4、基板冷却装置5、基板加热以及监控装置6、基板治具7、镀膜基板8。
实施例：本实施例中的基板高速旋转的中心回转驱动系统，用于真空镀膜。如图1所示，本系统主要包括磁流体1和作为驱动装置的伺服马达2，中惯量的伺服马达2通过皮带传动来驱动磁流体1旋转，伺服马达2设于大气侧内，磁流体1的两端分别设于大气侧和真空侧内，即磁流体1的一部分位于大气侧内，另一部分位于真空镀膜室的真空侧内，其实现大气侧到真空侧的驱动。磁流体1为中空的轴状结构，其内侧一端，即真空侧一端与承载镀膜基板8的镀膜治具7相连接，镀膜基板8可在磁流体1的带动下随着镀膜治具7作高速旋转。本实施例中，镀膜治具7的最高转速可达1200RPM，而镀膜治具7可实现的高速旋转，可有效提高镀膜基板8膜厚的均匀性。
此外，如图1所示，磁流体1的中空结构内还安装有各种镀膜加工相关的辅助设备，包括光学监控装置3、红外温度监控装置（图1中只给出红外温度监控装置所发出的红外光线4）、基板冷却装置5、基板加热以及监控装置6，上述设备可以保证镀膜加工的正常进行。具体地，光学监控装置3可用于对镀膜基板8上的镀膜情况进行监控，可实现膜厚及均匀性的控制；红外温度监控装置用于对镀膜基板8的温度进行监控；基板冷却装置5用于对镀膜基板8进行冷却；基板加热以及监控装置6用于对镀膜基板8进行加热并且可对其温度进行控制，确保其温度满足工艺参数。
这样一来，通过磁流体1的中空结构的设计，可将各种镀膜加工相关的设备设于其内部并实现自大气侧至真空侧的导入，且结构紧凑，占用空间少，并且由于这些设备均设于磁流体1内部，受人为的干扰小，设备工作状态可靠。
综上所述，本实施例中，通过磁流体的导入实现大气到真空的基板旋转驱动，可以有效地提高基板架的转速，进而提高基板膜厚的均匀性；利用基板旋转的磁流体导入的中空结构，可在该中空结构安装各种镀膜加工相关的设备，结构紧凑，占用空间少，并且由于这些设备均设于磁流体内部，受人为的干扰小，设备工作状态可靠。
虽然以上实施例已经参照附图对本实用新型目的的构思和实施例做了详细说明，但本领域普通技术人员可以认识到，在没有脱离权利要求限定范围的前提条件下，仍然可以对本实用新型作出各种改进和变换，故在此不一一赘述。
Claims (3)
1.一种基板高速旋转的中心回转驱动系统，其特征在于：包括通过设于大气侧内的驱动装置驱动的磁流体，所述磁流体为中空的轴状结构并且其两端分别设于大气侧和真空侧内，所述磁流体的中空结构连接基板治具，并且所述基板治具设于所述磁流体的处于真空侧的一端，所述基板治具可在所述磁流体的带动下进行旋转。
2.根据权利要求1所述的一种基板高速旋转的中心回转驱动系统，其特征在于：所述磁流体的中空结构内还设有光学监控装置、红外温度监控装置、基板冷却装置、基板加热以及监控装置。
3.根据权利要求1所述的一种基板高速旋转的中心回转驱动系统，其特征在于：所述驱动装置为伺服马达，所述伺服马达通过皮带传动来驱动所述磁流体旋转。
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| CN202021471829.7U CN212834009U (zh) | 2020-07-23 | 2020-07-23 | 一种基板高速旋转的中心回转驱动系统 |
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| CN202021471829.7U CN212834009U (zh) | 2020-07-23 | 2020-07-23 | 一种基板高速旋转的中心回转驱动系统 |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117467962A (zh) * | 2023-12-28 | 2024-01-30 | 上海陛通半导体能源科技股份有限公司 | 薄膜沉积设备 |
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2020
- 2020-07-23 CN CN202021471829.7U patent/CN212834009U/zh active Active
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| CN117467962B (zh) * | 2023-12-28 | 2024-03-08 | 上海陛通半导体能源科技股份有限公司 | 薄膜沉积设备 |
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