CN212632935U - 氧化镓单晶用研磨装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了氧化镓单晶用研磨装置，包括底座，底座的顶部固定安装有研磨罐，研磨罐顶部的右侧固定安装有电机，研磨罐的顶部且位于电机的左侧连通有进料口，研磨罐右侧的底部连通有出料口，研磨罐的内部设置有进料筒，进料口的顶部贯穿研磨罐并与进料筒的顶部连通。本实用新型通过设置进料口用于将原料送入研磨罐的内部进行研磨，通过设置电机用于对原料进行研磨，通过设置进料筒由于对原料进行容纳，通过设置第一限位杆用于对传动杆进行固定，通过设置导料板用于将原料导出，同时解决了现有的氧化镓在研磨的过程中其粒度无法控制从而导致氧化镓的大小不一，且在研磨的过程中会掺杂金属离子的问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及氧化镓技术领域，具体为氧化镓单晶用研磨装置。
背景技术
氧化镓是一种透明传导氧化物半导体材料，在光电子器件方面有广阔的应用前景，可被用于Ga基半导体材料的绝缘层，透明导电氧化物、紫外发光材料和气体传感器等方面，随着研究热潮的兴起，目前很多研究已经集中于制备具有纳米结构的Ga2O3材料，如纳米线、纳米棒、纳米带等，已被多种方法合成出来，其在光电子器件、气敏传感器和催化等方面的应用价值也渐渐被发掘出来。
现有的氧化镓在研磨的过程中其粒度无法控制从而导致氧化镓的大小不一，且在研磨的过程中会掺杂金属离子，不能够满足使用需要。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供氧化镓单晶用研磨装置，具备可快速精确地控制氧化镓的粒度的优点，解决了现有的氧化镓在研磨的过程中其粒度无法控制从而导致氧化镓的大小不一，且在研磨的过程中会掺杂金属离子的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种氧化镓单晶用研磨装置，包括底座，所述底座的顶部固定安装有研磨罐，所述研磨罐顶部的右侧固定安装有电机，所述研磨罐的顶部且位于电机的左侧连通有进料口，所述研磨罐右侧的底部连通有出料口，所述研磨罐的内部设置有进料筒，所述进料口的顶部贯穿研磨罐并与进料筒的顶部连通，所述研磨罐的内部设置有研磨网，所述研磨罐的内部设置有第一限位杆，所述研磨罐的内部设置有传动杆，所述研磨罐内部的下方固定安装有导料板，所述导料板的右侧与出料口连通，所述底座的内部且位于第一限位杆的下方固定安装有研磨网，所述研磨网的底部开设有漏料口，所述传动杆的底部贯穿至研磨网的内部并固定安装有研磨杆，所述研磨杆的顶部连通有粉料罐，所述粉料罐的顶部与传动杆连通，所述研磨网的内部且位于漏料口之间固定安装有研磨块。
优选的，所述研磨罐的内部且位于进料筒的底部固定安装有第一限位杆，所述第一限位杆的内部通过第一轴承转动连接有传动杆，所述传动杆的顶部与进料筒通过旋转接头转动连接。
优选的，所述底座内腔的右侧固定安装有第二限位杆，所述电机的输出轴分别通过第二轴承贯穿研磨罐和第二限位杆并延伸至第二限位杆的底部，所述电机输出轴与传动杆之间通过齿轮啮合。
优选的，所述传动杆的内部且位于粉料罐的上方开设有漏料槽。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：
1、本实用新型通过设置进料口用于将原料送入研磨罐的内部进行研磨，通过设置电机用于对原料进行研磨，通过设置进料筒由于对原料进行容纳，通过设置第一限位杆用于对传动杆进行固定，通过设置导料板用于将原料导出，技术员或生产者可根据需要在该粉碎装置中能够在氧化镓接触的金属表面设置有机高分子材料，从而使得氧化镓与金属隔绝，增加氧化镓的纯度，同时解决了现有的氧化镓在研磨的过程中其粒度无法控制从而导致氧化镓的大小不一，且在研磨的过程中会掺杂金属离子的问题。
2、本实用新型通过设置传动杆用于带动研磨杆转动，同时将进料筒内部的原料导入研磨网的内部，通过设置旋转接头用于实现传动杆转动的时候实现原料的输送，通过电机与齿轮之间的配合实现传动杆转动，从而实现对原料进行研磨，通过研磨杆与研磨网顶部的研磨块之间的配合实现对原料进行研磨，通过设置粉料罐用于将原料导入研磨网的顶部进行研磨，通过设置漏料槽用于实现原料的输送。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图；
图2为本实用新型截面结构示意图；
图3为本实用新型研磨网截面结构示意图。
图中：1、底座；2、研磨罐；3、出料口；4、进料口；5、电机；6、导料板；7、研磨网；8、粉料罐；9、传动杆；10、第一限位杆；11、进料筒；12、第二限位杆；13、研磨杆。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
在本申请文件的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利的限制。在本申请文件的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“设置”应做广义理解，例如，可以是固定相连、设置，也可以是可拆卸连接、设置，或一体地连接、设置。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利中的具体含义。
请参阅图1-3，一种氧化镓单晶用研磨装置，包括底座1，底座1的顶部固定安装有研磨罐2，研磨罐2顶部的右侧固定安装有电机5，研磨罐2的顶部且位于电机5的左侧连通有进料口4，研磨罐2右侧的底部连通有出料口3，研磨罐2的内部设置有进料筒11，进料口4的顶部贯穿研磨罐2并与进料筒11的顶部连通，研磨罐2的内部设置有研磨网7，研磨罐2的内部设置有第一限位杆10，研磨罐2的内部设置有传动杆9，研磨罐2内部的下方固定安装有导料板6，导料板6的右侧与出料口3连通，通过设置进料口4用于将原料送入研磨罐2的内部进行研磨，通过设置电机5用于对原料进行研磨，通过设置进料筒11由于对原料进行容纳，通过设置第一限位杆10用于对传动杆9进行固定，通过设置导料板6用于将原料导出，技术员或生产者可根据需要在该粉碎装置中能够在氧化镓接触的金属表面设置有机高分子材料，从而使得氧化镓与金属隔绝，增加氧化镓的纯度，底座1的内部且位于第一限位杆10的下方固定安装有研磨网7，研磨网7的底部开设有漏料口，传动杆9的底部贯穿至研磨网7的内部并固定安装有研磨杆13，研磨杆13的顶部连通有粉料罐8，粉料罐8的顶部与传动杆9连通，研磨网7的内部且位于漏料口之间固定安装有研磨块，通过研磨杆13与研磨网7顶部的研磨块之间的配合实现对原料进行研磨，通过设置粉料罐8用于将原料导入研磨网7的顶部进行研磨，研磨罐2的内部且位于进料筒11的底部固定安装有第一限位杆10，第一限位杆10的内部通过第一轴承转动连接有传动杆9，传动杆9的顶部与进料筒11通过旋转接头转动连接，通过设置传动杆9用于带动研磨杆13转动，同时将进料筒11内部的原料导入研磨网7的内部，通过设置旋转接头用于实现传动杆9转动的时候实现原料的输送，底座1内腔的右侧固定安装有第二限位杆12，电机5的输出轴分别通过第二轴承贯穿研磨罐2和第二限位杆12并延伸至第二限位杆12的底部，电机5输出轴与传动杆9之间通过齿轮啮合，通过电机5与齿轮之间的配合实现传动杆9转动，从而实现对原料进行研磨，传动杆9的内部且位于粉料罐8的上方开设有漏料槽，通过设置漏料槽用于实现原料的输送。
使用时，将原料倒入进料口4的内部，通过进料口4将原料导入进料筒11的内部，通过传动杆9内部的漏料槽与粉料罐8之间的配合将原料导入研磨网7的顶部，打开电机5在电机5和齿轮之间的配合下使得传动杆9转动，从而带动研磨杆13转动，通过研磨杆13与研磨块之间的配合实现对原料进行研磨，可根据需要向研磨罐2的内部通入低温惰性气体，用于对原料进行保护，通过导料板6和出料口3将原料导出即可。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (4)
1.一种氧化镓单晶用研磨装置，包括底座（1），其特征在于：所述底座（1）的顶部固定安装有研磨罐（2），所述研磨罐（2）顶部的右侧固定安装有电机（5），所述研磨罐（2）的顶部且位于电机（5）的左侧连通有进料口（4），所述研磨罐（2）右侧的底部连通有出料口（3），所述研磨罐（2）的内部设置有进料筒（11），所述进料口（4）的顶部贯穿研磨罐（2）并与进料筒（11）的顶部连通，所述研磨罐（2）的内部设置有研磨网（7），所述研磨罐（2）的内部设置有第一限位杆（10），所述研磨罐（2）的内部设置有传动杆（9），所述研磨罐（2）内部的下方固定安装有导料板（6），所述导料板（6）的右侧与出料口（3）连通，所述底座（1）的内部且位于第一限位杆（10）的下方固定安装有研磨网（7），所述研磨网（7）的底部开设有漏料口，所述传动杆（9）的底部贯穿至研磨网（7）的内部并固定安装有研磨杆（13），所述研磨杆（13）的顶部连通有粉料罐（8），所述粉料罐（8）的顶部与传动杆（9）连通，所述研磨网（7）的内部且位于漏料口之间固定安装有研磨块。
2.根据权利要求1所述的氧化镓单晶用研磨装置，其特征在于：所述研磨罐（2）的内部且位于进料筒（11）的底部固定安装有第一限位杆（10），所述第一限位杆（10）的内部通过第一轴承转动连接有传动杆（9），所述传动杆（9）的顶部与进料筒（11）通过旋转接头转动连接。
3.根据权利要求1所述的氧化镓单晶用研磨装置，其特征在于：所述底座（1）内腔的右侧固定安装有第二限位杆（12），所述电机（5）的输出轴分别通过第二轴承贯穿研磨罐（2）和第二限位杆（12）并延伸至第二限位杆（12）的底部，所述电机（5）输出轴与传动杆（9）之间通过齿轮啮合。
4.根据权利要求1所述的氧化镓单晶用研磨装置，其特征在于：所述传动杆（9）的内部且位于粉料罐（8）的上方开设有漏料槽。
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Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
| CN114130504A (zh) * | 2021-12-01 | 2022-03-04 | 徐州宏武纳米科技有限公司 | 一种氧化镓单晶用研磨装置 |
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2020
- 2020-06-05 CN CN202021019006.0U patent/CN212632935U/zh active Active
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Denomination of utility model: Grinding device for gallium oxide single crystal Granted publication date: 20210302 Pledgee: Agricultural Bank of China Limited Hengqin Guangdong Macao Deep Cooperation Zone Branch Pledgor: ZHUHAI SEZ FANGYUAN Inc. Registration number: Y2024980042865 |