CN212610889U - 一种密封圈水冷保护结构及pecvd设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种密封圈水冷保护结构及PECVD设备，属于太阳能电池设备技术领域，其中，密封圈水冷保护结构，包括设置于炉管端部的法兰总成和密封圈组，法兰总成设有至少一条水冷通道，法兰总成与炉管的接触面设有导热圈；解决了PECVD设备通常需要用到炉管，炉管在工作时内部为高温负压的环境，而保证负压环境的密封圈在高温下极易损坏，导致密封圈的使用寿命缩短，工作人员需频繁更换密封圈，由此带来成本提高，停机次数提高的问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池设备技术领域，尤其涉及一种密封圈水冷保护结构及PECVD设备。
背景技术
目前，PECVD设备是太阳能光伏行业镀膜阶段使用最普遍的技术设备，随着光伏设备技术的发展，降低成本、提高效率、延长零部件的使用寿命等要求越来越高。
PECVD设备通常需要用到炉管，炉管在工作时内部为高温负压的环境，而保证负压环境的密封圈在高温下极易损坏，导致密封圈的使用寿命缩短，工作人员需频繁更换密封圈，由此带来成本提高，停机次数提高的问题，因此有待改善。
实用新型内容
为了克服现有技术的不足，本实用新型提供一种密封圈水冷保护结构及PECVD设备，以解决上述的技术问题。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：
一种密封圈水冷保护结构，包括设置于炉管端部的法兰总成和密封圈组，所述法兰总成设有至少一条水冷通道，所述法兰总成与炉管的接触面设有导热圈。
通过采用上述技术方案，水冷通道两端通常与设置在法兰总成外壁的进水头和出水头连通，以实现水冷通道内部水循环，水冷通道可带走炉管端部处外壁的热量，从而降低密封圈组的温度，此外，在法兰总成与炉管的接触面设置可由石墨材质构成的导热圈，加快热量的传输，在水循环的基础上进一步地降低密封圈组处的温度；
本实用新型通过水冷通道和导热圈二者的结合，将密封圈组处的炉管外壁的热量传导至水冷通道，降低密封圈组的温度，延长密封圈组的使用寿命，避免工作人员频繁更换，有助于降低成本，降低停机次数。
作为优选，所述导热圈将密封圈组处的炉管外壁的热量传导至水冷通道。
通过采用上述技术方案，导热圈可同时将密封圈的热量和炉管外壁的热量同时导出，但主要还是用于将密封圈组处的炉管外壁的热量传导至水冷通道。
作为优选，所述法兰总成包括水冷法兰和进气法兰，所述密封圈组包括三条密封圈。
通过采用上述技术方案，进气法兰通常设置进气头，用于向炉管内部通入工艺气体。
作为优选，所述水冷通道开设有两条，其中一条开设于水冷法兰的内部，另一条开设于进气法兰的内部。
通过采用上述技术方案，水冷通道可以仅开设于水冷法兰内部，也可以仅开设与进气法兰内部，也可以在水冷法兰内部和进气法兰内部同时开设多条水冷通道，但本实用新型综合考虑降温收益与生产工艺实现难度，将水冷通道优选为两条，水冷通道开设的方式可为：在水冷法兰或进气法兰的其中一个端面上开设一个环形的水槽，水槽与进水头和出水头连通后，采用焊片等材料封死水槽侧壁，以此形成仅有进水头和出水头两个进出口的水冷通道。
作为优选，所述水冷法兰的内环壁开设有容纳槽，所述导热圈设置于容纳槽内。
通过采用上述技术方案，导热圈可直接贴附在水冷法兰的内环壁和炉管外壁，但为了最大程度地提高导热圈的导热性能，本实用新型在水冷法兰的内环壁开设有容纳槽，以此可提高导热圈的厚度，并降低该处的水冷法兰的厚度，从而让炉管外壁的热量更快地通过导热圈导到水冷通道内。
作为优选，第一条密封圈为炉管密封圈，其设置于水冷法兰、进气法兰和炉管这三者的连接处。
通过采用上述技术方案，炉管密封圈用于封住水冷法兰、进气法兰和炉管这三者的连接处的间隙，保证负压环境。
作为优选，第二条密封圈为炉管端面垫条，其设置于进气法兰与炉管端面这二者的连接处。
通过采用上述技术方案，炉管端面垫条用于封住进气法兰与炉管端面这二者的连接处的间隙，保证负压环境；
第一条密封圈和第二条密封圈是与炉管外壁直接接触的，而炉管在使用时的温度可达500℃，普通密封圈的最高承受温度仅在200℃，因此水冷通道和导热圈也主要是为了降低第一条密封圈和第二条密封圈处的炉管外壁的温度。
作为优选，所述炉管的端部设有炉门端盖，第三条密封圈为炉门密封圈，其设置于进气法兰与炉门端盖这二者的连接处。
通过采用上述技术方案，炉门端盖处的温度仅在80℃左右，在普通密封圈的耐热温度范围内，因此水冷通道和导热圈无需用于降低第三条密封圈的温度。
一种PECVD设备，包括炉管，在所述炉管的端部设有上述技术方案中任一项所述的密封圈水冷保护结构。
通过采用上述技术方案，将采用本实用新型提供的密封圈水冷保护结构的炉管，应用到PECVD设备上，可大幅度降低由于密封圈不受热的原因而导致PECVD设备停机的次数。
本实用新型的有益效果是：
1、本实用新型通过水冷通道和导热圈二者的结合，将密封圈组处的炉管外壁的热量传导至水冷通道，降低密封圈组的温度，延长密封圈组的使用寿命，避免工作人员频繁更换，有助于降低成本，降低停机次数；
2、本实用新型在水冷法兰的内环壁开设有容纳槽，以此可提高导热圈的厚度，并降低该处的水冷法兰的厚度，从而让炉管外壁的热量更快地通过导热圈导到水冷通道内；
3、采用本实用新型提供的密封圈水冷保护结构的炉管，应用到PECVD设备上，可大幅度降低由于密封圈不受热的原因而导致PECVD设备停机的次数。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1为本实用新型和炉管配合时的结构示意图；
图2为本实用新型的结构示意图；
图3为在图2基础上进行半剖的立体剖视图；
图4为图3中A处的局部放大图。
图中各附图标记说明如下：
1、炉管；101、炉门端盖；
2、法兰总成；201、水冷法兰；202、进气法兰；203、容纳槽；204、焊片；
3、密封圈组；301、炉管密封圈；302、炉管端面垫条；303、炉门密封圈；
4、水冷通道；401、进水头；402、出水头；
5、导热圈。
具体实施方式
以下将结合实施例和附图对本实用新型的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整地描述，以充分地理解本实用新型的目的、特征和效果。显然，所描述的实施例只是本实用新型的一部分实施例，而不是全部实施例，基于本实用新型的实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例，均属于本实用新型保护的范围。另外，专利中涉及到的所有联接/连接关系，并非单指构件直接相接，而是指可根据具体实施情况，通过添加或减少联接辅件，来组成更优的联接结构。本实用新型创造中的各个技术特征，在不互相矛盾冲突的前提下可以交互组合。
一种密封圈水冷保护结构，如图1至图4所示，包括设置于炉管1端部的法兰总成2和密封圈组3，法兰总成2设有至少一条水冷通道4，法兰总成2与炉管1的接触面设有导热圈5。
密封圈的具体降温原理：水冷通道4两端通常与设置在法兰总成2外壁的进水头401和出水头402连通，以实现水冷通道4内部水循环，水冷通道4可带走炉管1端部处外壁的热量，从而降低密封圈组3的温度，此外，在法兰总成2与炉管1的接触面设置可由石墨材质构成的导热圈5，加快热量的传输，在水循环的基础上进一步地降低密封圈组3处的温度。
本实用新型通过水冷通道4和导热圈5二者的结合，将密封圈组3处的炉管1外壁的热量传导至水冷通道4，降低密封圈组3的温度，延长密封圈组3的使用寿命，避免工作人员频繁更换，有助于降低成本，降低停机次数。
导热圈5将密封圈组3处的炉管1外壁的热量传导至水冷通道4；导热圈5可同时将密封圈的热量和炉管1外壁的热量同时导出，但主要还是用于将密封圈组3处的炉管1外壁的热量传导至水冷通道4。
法兰总成2包括水冷法兰201和进气法兰202，密封圈组3包括三条密封圈；进气法兰202通常设置进气头，用于向炉管1内部通入工艺气体。
水冷通道4开设有两条，其中一条开设于水冷法兰201的内部，另一条开设于进气法兰202的内部。
水冷通道4可以仅开设于水冷法兰201内部，也可以仅开设与进气法兰202内部，也可以在水冷法兰201内部和进气法兰202内部同时开设多条水冷通道4，但本实用新型综合考虑降温收益与生产工艺实现难度，将水冷通道4优选为两条。
水冷通道4开设的方式可为：在水冷法兰201或进气法兰202的其中一个端面上开设一个环形的水槽，水槽与进水头401和出水头402连通后，采用焊片204等材料封死水槽侧壁，以此形成仅有进水头401和出水头402两个进出口的水冷通道4。
水冷法兰201的内环壁开设有容纳槽203，导热圈5设置于容纳槽203内。
导热圈5可直接贴附在水冷法兰201的内环壁和炉管1外壁，但为了最大程度地提高导热圈5的导热性能，本实用新型在水冷法兰201的内环壁开设有容纳槽203，以此可提高导热圈5的厚度，并降低该处的水冷法兰201的厚度，从而让炉管1外壁的热量更快地通过导热圈5导到水冷通道4内。
第一条密封圈为炉管1密封圈，其设置于水冷法兰201、进气法兰202和炉管1这三者的连接处；炉管1密封圈用于封住水冷法兰201、进气法兰202和炉管1这三者的连接处的间隙，保证负压环境。
第二条密封圈为炉管1端面垫条，其设置于进气法兰202与炉管1端面这二者的连接处；炉管1端面垫条用于封住进气法兰202与炉管1端面这二者的连接处的间隙，保证负压环境。
第一条密封圈和第二条密封圈是与炉管1外壁直接接触的，而炉管1在使用时的温度可达500℃，普通密封圈的最高承受温度仅在200℃，因此水冷通道4和导热圈5也主要是为了降低第一条密封圈和第二条密封圈处的炉管1外壁的温度。
炉管1的端部设有炉门端盖101，第三条密封圈为炉门密封圈303，其设置于进气法兰202与炉门端盖101这二者的连接处；炉门端盖101处的温度仅在80℃左右，在普通密封圈的耐热温度范围内，因此水冷通道4和导热圈5无需用于降低第三条密封圈的温度。
此外，本实用新型还提供一种PECVD设备，其包括炉管1，在炉管1的端部设有上述技术方案中的密封圈水冷保护结构。
将采用本实用新型提供的密封圈水冷保护结构的炉管1，应用到PECVD设备上，可大幅度降低由于密封圈不受热的原因而导致PECVD设备停机的次数。
以上是对本实用新型的较佳实施进行了具体说明，但本实用新型创造并不限于实施例，熟悉本领域的技术人员在不违背本实用新型精神的前提下还可做出种种的等同变形或替换，这些等同的变形或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。
Claims (9)
1.一种密封圈水冷保护结构，其特征在于，包括设置于炉管(1)端部的法兰总成(2)和密封圈组(3)，所述法兰总成(2)设有至少一条水冷通道(4)，所述法兰总成(2)与炉管(1)的接触面设有导热圈(5)。
2.根据权利要求1所述的密封圈水冷保护结构，其特征在于，所述导热圈(5)将密封圈组(3)处的炉管(1)外壁的热量传导至水冷通道(4)。
3.根据权利要求1所述的密封圈水冷保护结构，其特征在于，所述法兰总成(2)包括水冷法兰(201)和进气法兰(202)，所述密封圈组(3)包括三条密封圈。
4.根据权利要求3所述的密封圈水冷保护结构，其特征在于，所述水冷通道(4)开设有两条，其中一条开设于水冷法兰(201)的内部，另一条开设于进气法兰(202)的内部。
5.根据权利要求3所述的密封圈水冷保护结构，其特征在于，所述水冷法兰(201)的内环壁开设有容纳槽(203)，所述导热圈(5)设置于容纳槽(203)内。
6.根据权利要求3所述的密封圈水冷保护结构，其特征在于，第一条密封圈为炉管(1)密封圈，其设置于水冷法兰(201)、进气法兰(202)和炉管(1)这三者的连接处。
7.根据权利要求3所述的密封圈水冷保护结构，其特征在于，第二条密封圈为炉管(1)端面垫条，其设置于进气法兰(202)与炉管(1)端面这二者的连接处。
8.根据权利要求3所述的密封圈水冷保护结构，其特征在于，所述炉管(1)的端部设有炉门端盖(101)，第三条密封圈为炉门密封圈(303)，其设置于进气法兰(202)与炉门端盖(101)这二者的连接处。
9.一种PECVD设备，包括炉管(1)，其特征在于，在所述炉管(1)的端部设有如权利要求1-8中任一项所述的密封圈水冷保护结构。
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| CN202021095517.0U CN212610889U (zh) | 2020-06-12 | 2020-06-12 | 一种密封圈水冷保护结构及pecvd设备 |
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|---|---|---|---|---|
| CN113606337A (zh) * | 2021-07-30 | 2021-11-05 | 上海汉虹精密机械有限公司 | 一种石英筒内圆高真空密封结构 |
| CN116607128A (zh) * | 2023-05-11 | 2023-08-18 | 湖南红太阳光电科技有限公司 | 一种进气炉门及包含其的管式pecvd反应室 |
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