CN212533099U - 加热板支撑组件及镀膜设备 - Google Patents
加热板支撑组件及镀膜设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN212533099U CN212533099U CN202020714584.XU CN202020714584U CN212533099U CN 212533099 U CN212533099 U CN 212533099U CN 202020714584 U CN202020714584 U CN 202020714584U CN 212533099 U CN212533099 U CN 212533099U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- heating plate
- fixing
- unit
- height adjusting
- support assembly
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims abstract description 71
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 11
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 5
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005234 chemical deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
一种加热板支撑组件及具有该加热板支撑组件的镀膜设备，所述加热板支撑组件包括支撑单元、高度调节单元及固定单元，所述支撑单元包括支撑主体及从所述支撑主体向下延伸的支撑螺杆，所述固定单元固定所述高度调节单元于所述支撑单元上，所述高度调节单元的数量的改变能够调节所述加热板支撑组件的高度，实现调节加热板对基材的加热温度，减少热量损失。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种基于化学沉积的加热板支撑组件及镀膜设备。
背景技术
在现代光伏(太阳能)设备以及太阳能电池制备工艺中，大多采用真空镀膜技术在基材表面生长不同的薄膜层。薄膜层在生长期间，为保证沉积薄膜的均匀性以及降低沉积薄膜的压应力，通常会对基材进行加热，反应腔的加热方式一般采用加热板热辐射的方式对基材进行加热。为使加热板与基材呈现所需的距离以及减少加热板与真空腔体接触所导致的热传递损失，通常采用支撑柱的方式将加热板固定在真空腔体中。
一般情况下，为获得最佳膜层质量与生长速率，调节电极间距是其中一种方式，为获得最佳电极间距，通常通过调节基材高度来实现。调节基材高度时为了减少热量损失，使基材获得更多的热辐射，加热板需要随之调节高度。现有加热板的支撑柱由支撑柱体和螺杆组成，支撑柱体用于支撑并固定加热板，一般情况下支撑柱体长度固定，无法调节，螺杆紧固于真空腔体的底部，有个别厂家将支撑柱设计为气动或电动调节高度，但限于加热板底部空间问题，实现难度较大且成本太高。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种方便调节加热板高度的加热板支撑组件及具有该加热板支撑组件的镀膜设备，便于调节加热板对基材的加热温度，降低热量损失。
为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：一种加热板支撑组件，包括支撑单元、高度调节单元及固定单元，所述支撑单元包括支撑主体及从所述支撑主体向下延伸的支撑螺杆，所述固定单元固定所述高度调节单元于所述支撑单元上，所述高度调节单元的数量的改变能够调节所述加热板支撑组件的高度。
作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述高度调节单元为垫片。
作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述高度调节单元的厚度为1～ 5mm。
作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述支撑单元、所述高度调节单元及所述固定单元采用不锈钢或不锈钢与其他金属的合金。
作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述支撑单元设有螺纹孔；所述高度调节单元设有上下贯穿的通孔；所述固定单元包括固定主体及从所述固定主体向下延伸的固定螺杆，所述固定螺杆向下穿过所述通孔后锁紧于所述支撑单元的所述螺纹孔。
作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述支撑单元的所述螺纹孔的深度小于所述支撑主体的厚度。
作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述支撑主体的厚度为5～ 10mm。
作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述固定单元设置为一个或多个，所述固定单元的数量的改变也能够调节所述加热板支撑组件的高度。
作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述固定单元设置为至少两个，所述高度调节单元介于至少两个所述固定单元的所述固定主体之间，位于下侧的所述固定单元设有螺纹孔，位于上侧的所述固定单元的所述固定螺杆向下穿过所述高度调节单元的所述通孔，并插入锁紧于位于下侧的所述固定单元的所述螺纹孔中。
本实用新型还采用如下技术方案：一种镀膜设备，其包括真空腔体、加热板、电极和传动轴，所述加热板和所述电极位于所述真空腔体中，所述电极位于所述加热板上方，所述传动轴的一端设置有位于所述真空腔体中的传动轮，还包括加热板支撑组件，所述加热板支撑组件固定于所述真空腔体的底部，所述加热板放置于所述加热板支撑组件上。
相较于现有技术，本实用新型加热板支撑组件的高度可以依靠调节单元的数量的改变能进行调节，高度调节简便，透过调节加热板支撑组件的高度来调节加热板的高度，达到调节加热板对基材的加热温度，减少热量损失，促使基材获得更多的热辐射；加热板支撑组件具有结构简单，易安装，成本低等优点，不会出现电动、气动方面的故障；具有所述加热板支撑组件的镀膜设备同样具有上述优点。
附图说明
图1是本实用新型镀膜设备的结构示意图。
图2是本实用新型加热板支撑组件的结构示意图，显示有一个高度调节单元。
图3是本实用新型加热板支撑组件的结构示意图，显示有三个高度调节单元。
图4是本实用新型另一实施方式的加热板支撑组件的结构示意图。
具体实施方式
请参阅图1所示，本实用新型揭示了一种镀膜设备100，其包括真空腔体10、加热板支撑组件20、加热板30、电极40和传动轴50，加热板支撑组件20、加热板30和电极40位于真空腔体10中。
加热板支撑组件20固定于真空腔体10底部；加热板30放置于加热板支撑组件20上，电极40位于基材60上方；传动轴50固定于真空腔体10两端，传动轴50的一端设置有位于真空腔体10中的传动轮52，用于放置基材60 的载盘62设置于传动轮52上，传动轴50能够驱动载盘62载动基材60前后运动。加热板支撑组件20设置为高度可调节式结构，透过调节加热板支撑组件20的高度来调节加热板30的高度，达到调节加热板30对基材60的加热温度。
请参阅图2至图3所示，加热板支撑组件20包括支撑单元21、高度调节单元22及固定单元23，支撑单元21、高度调节单元22及固定单元 23均由同种材料构成，本实施例中，采用不锈钢或不锈钢与其他金属的合金，与加热板30的铝材质相比较，加热板支撑组件20传热性能较差，有助于减少热传导损失。
支撑单元21包括支撑主体211及从支撑主体211向下延伸的支撑螺杆212，支撑主体211的高度固定，外形为圆形多边形的支撑柱体，支撑主体211顶面设有正向螺纹孔213，螺纹孔213的深度小于支撑主体211 的厚度，该厚度为5～10mm。支撑螺杆212设有正向螺纹，支撑螺杆212 与真空腔体10底部紧固连接。高度调节单元22具有上下贯穿的通孔220，根据基材60所需的加热温度，高度调节单元22设置为一个或上下层叠的多个，高度调节单元22的厚度为1～5mm，外形为圆形或六边形的垫片。
固定单元23包括固定主体231及从固定主体231向下延伸的固定螺杆232，固定主体231向下抵靠于支撑主体211上，固定螺杆232具有正向螺纹，固定螺杆232向下穿过高度调节单元22的通孔220后，锁紧于支撑单元21的螺纹孔213内，实现对高度调节单元22的固定。
加热板支撑组件20组装于真空内腔10中的步骤如下：
首先，支撑单元21安装在真空腔体10的底部；
然后，高度调节单元22放置于支撑单元21的上方；
最后，固定单元23的固定螺杆232穿过高度调节单元22与支撑单元 22螺纹连接固定。
镀膜设备100工作时，基材60放置载盘62中，传动轴50驱动载盘62 载动基材60前后运动，由于高度调节单元22的厚度为1～5mm，可以通过增加或减少(改变)高度调节单元22的数量实现毫米级的调节加热板 30的高度，达到调节加热板30对基材60的加热温度，减少热量损失，加热板支撑组件20具有结构简单，易安装，成本低等优点，不会出现电动、气动方面的故障。
高度调节单元22的数量包括但不限于一个，图2所示的加热板支撑组件20设置一个高度调节单元22，图3所示的加热板支撑组件20设置三个高度调节单元22，三个高度调节单元22层叠在一起，可以合成高度更高的加热板支撑组件20，三个高度调节单元22的厚度可以相同或不同。
请参阅图4所示的本实用新型另一实施方式的加热板支撑组件70，其包括多个高度调节单元22和多个固定单元23，高度调节单元22和固定单元23上下交替放置，上下相邻的每两固定单元23螺纹连接固定，将位于该两固定单元23之间的至少一个高度调节单元22固定住，位于下侧的固定单元23设有正向螺纹孔233，位于上侧的固定单元23的固定螺杆232 向下穿过高度调节单元23的通孔220后插入锁紧于该螺纹孔233中，该加热板支撑组件70可以增加或减少高度调节单元22或/和固定单元23的数量，达到实现调节加热板支撑组件70的高度，随之调节加热板30的高度，也可以达到调节加热板30对基材60的加热温度，降低热量损失。
以上实施例仅用于说明本实用新型而并非限制本实用新型所描述的技术方案，对本说明书的理解应该以所属技术领域的技术人员为基础，例如对“前”、“后”、“左”、“右”、“上”、“下”等方向性的描述，尽管本说明书参照上述的实施例对本实用新型已进行了详细的说明，但是，本领域的普通技术人员应当理解，所属技术领域的技术人员仍然可以对本实用新型进行修改或者等同替换，而一切不脱离本实用新型的精神和范围的技术方案及其改进，均应涵盖在本实用新型的权利要求范围内。
Claims (10)
1.一种加热板支撑组件，其包括支撑单元，所述支撑单元包括支撑主体及从所述支撑主体向下延伸的支撑螺杆，其特征在于：还包括高度调节单元及固定单元，所述固定单元固定所述高度调节单元于所述支撑单元上，所述高度调节单元的数量的改变能够调节所述加热板支撑组件的高度。
2.根据权利要求1所述的加热板支撑组件，其特征在于：所述高度调节单元为垫片。
3.根据权利要求1所述的加热板支撑组件，其特征在于：所述高度调节单元的厚度为1～5 mm。
4.根据权利要求1所述的加热板支撑组件，其特征在于：所述支撑单元、所述高度调节单元及所述固定单元采用不锈钢。
5.根据权利要求1所述的加热板支撑组件，其特征在于：所述支撑单元设有螺纹孔；所述高度调节单元设有上下贯穿的通孔；所述固定单元包括固定主体及从所述固定主体向下延伸的固定螺杆，所述固定螺杆向下穿过所述通孔后锁紧于所述支撑单元的所述螺纹孔。
6.根据权利要求5所述的加热板支撑组件，其特征在于：所述支撑单元的所述螺纹孔的深度小于所述支撑主体的厚度。
7.根据权利要求1所述的加热板支撑组件，其特征在于：所述支撑主体的厚度为5～10mm。
8.根据权利要求1所述的加热板支撑组件，其特征在于：所述固定单元设置为一个或多个，所述固定单元的数量的改变也能够调节所述加热板支撑组件的高度。
9.根据权利要求5所述的加热板支撑组件，其特征在于：所述固定单元设置为至少两个，所述高度调节单元介于至少两个所述固定单元的所述固定主体之间，位于下侧的所述固定单元设有螺纹孔，位于上侧的所述固定单元的所述固定螺杆向下穿过所述高度调节单元的所述通孔，并插入锁紧于位于下侧的所述固定单元的所述螺纹孔中。
10.一种镀膜设备，其包括真空腔体、加热板、电极和传动轴，所述加热板和所述电极位于所述真空腔体中，所述电极位于所述加热板上方，所述传动轴的一端设置有位于所述真空腔体中的传动轮，其特征在于：还包括权利要求1-9中的任何一项所述的加热板支撑组件，所述加热板支撑组件固定于所述真空腔体的底部，所述加热板放置于所述加热板支撑组件上。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202020714584.XU CN212533099U (zh) | 2020-04-30 | 2020-04-30 | 加热板支撑组件及镀膜设备 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202020714584.XU CN212533099U (zh) | 2020-04-30 | 2020-04-30 | 加热板支撑组件及镀膜设备 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN212533099U true CN212533099U (zh) | 2021-02-12 |
Family
ID=74540736
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202020714584.XU Active CN212533099U (zh) | 2020-04-30 | 2020-04-30 | 加热板支撑组件及镀膜设备 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN212533099U (zh) |
-
2020
- 2020-04-30 CN CN202020714584.XU patent/CN212533099U/zh active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101012098B (zh) | 玻璃成型中的温度均匀装置以及温度均匀方法 | |
| CN213951334U (zh) | 一种晶片承载机构及半导体工艺设备 | |
| CN1288276C (zh) | 蒸发装置 | |
| CN103526186B (zh) | 一种用于mocvd反应器的晶片载盘及mocvd反应器 | |
| CN212533099U (zh) | 加热板支撑组件及镀膜设备 | |
| CN203947158U (zh) | 一种mocvd反应室的流场挡板机构及mocvd反应室 | |
| US20040065656A1 (en) | Heated substrate support | |
| CN101660143B (zh) | 平板加热器及等离子体加工设备 | |
| CN110556319A (zh) | 加热器、半导体加工腔室及加工设备 | |
| KR20130102577A (ko) | 기판 가열 장치 | |
| CN101988192B (zh) | 复合电极板及pecvd沉积盒和pecvd系统 | |
| CN102418087B (zh) | 一种加热板支撑定位装置 | |
| CN109280964B (zh) | 一种生长碳化硅单晶的热场结构 | |
| CN115216842B (zh) | 一种生长高质量碳化硅单晶的坩埚结构及生长方法 | |
| CN215628420U (zh) | 一种用于碳化硅晶体的退火载具 | |
| CN216107188U (zh) | 一种反应结构及热丝化学气相沉积设备 | |
| CN2672082Y (zh) | 热灯丝化学气相沉积装置中的加热器 | |
| CN211471547U (zh) | 加热器 | |
| CN2888786Y (zh) | 一种耐活性氧腐蚀的新型平面线阵辐射加热器 | |
| CN219772326U (zh) | 一种薄膜生长设备 | |
| CN218372514U (zh) | 一种加热腔 | |
| CN109763113A (zh) | 一种提高石墨烯质量的沉积设备及方法 | |
| CN102842636B (zh) | 用于化学气相沉积系统的基板加热基座 | |
| CN220845901U (zh) | 一种玻璃板溢流成型装置及其均热碳化硅挡板 | |
| CN211209955U (zh) | 一种便于安装的石墨烯电热板 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CP03 | Change of name, title or address | ||
| CP03 | Change of name, title or address |
Address after: No. 27 Changjiang South Road, Xinwu District, Wuxi City, Jiangsu Province, China Patentee after: Jiangsu micro nano technology Co.,Ltd. Address before: 9-6-2 Xinshuo Road, Xinwu District, Wuxi City, Jiangsu Province Patentee before: Jiangsu micro nano technology Co.,Ltd. |