CN212515347U - 成像系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及光斑对准技术领域，具体涉及一种成像系统，包括：光源以及投影面，所述投影面上具有度量尺寸；成像镜头组件，形成在光源与投影面之间的光路上，光源发出的光经过成像镜头组件后在投影面上形成目标光斑；调节组件，与成像镜头组件连接，调节组件用于基于目标光斑与度量尺寸调节成像镜头组件的参数使得度量尺寸与目标光斑匹配，以确定成像镜头组件的参数；其中，参数包括成像镜头组件内透镜之间的距离，或成像镜头组件与光源之间的距离。本实用新型提供的成像系统，直接对照射至所述曝光芯片上的光斑进行调整，无需通过其他光学镜头，调整的精度更高、时长更短、光斑匹配的可靠性更高。

Description

成像系统

技术领域

本实用新型涉及光斑对准技术领域，具体涉及一种成像系统。

背景技术

为了保证曝光图形的准确度，需要将光源照射至曝光芯片上的目标光斑与该曝光芯片进行对准，保证目标光斑将曝光芯片覆盖。

图1是曝光芯片的工作场景示意图，如图1所示，光源10发出的光线经过成像镜头组件30以及反射组件40后，投射至所述曝光芯片表面，形成目标光斑，所述目标光斑经所述曝光芯片反射后经过其他光学镜头例如投影物镜以及倍率调节镜头等，在曝光面上产生曝光图形。为了保证曝光图形的准确性以及完整性，一般需要所述目标光斑的尺寸与所述曝光芯片匹配。现有技术中，由于所述曝光芯片在装机后，处于完全密闭的环境且设备上的调整空间比较小，导致无法直接观察到照射至所述曝光芯片上的所述目标光斑，因此无法直接对投射至所述曝光芯片上的所述目标光斑的尺寸进行调整，只能通过观察曝光面上形成的反射光斑，对所述目标光斑进行调节，然而，实用新型人发现，通过此方法调节时，不仅涉及到所述其他光学镜头、曝光芯片，还涉及到所述成像镜头组件30、反射组件40，致使目标光斑与曝光芯片的匹配可靠性降低且需要耗费大量的时间和人力。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型实施例提供了一种成像系统，以解决现有技术中成像系统的光斑匹配的可靠性较低的问题。

根据第一方面，本实用新型实施例提供了一种成像系统，包括：光源以及投影面，所述投影面上具有度量尺寸；成像镜头组件，形成在所述光源与所述投影面之间的光路上，所述光源发出的光经过所述成像镜头组件后在所述投影面上形成目标光斑；调节组件，与所述成像镜头组件连接，所述调节组件用于基于所述目标光斑与度量尺寸调节所述成像镜头组件的参数使得所述度量尺寸与所述目标光斑匹配，以确定所述成像镜头组件的参数；其中，所述参数包括所述成像镜头组件内透镜之间的距离，或所述成像镜头组件与所述光源之间的距离。

本实用新型实施例提供的成像系统，利用投影面接收光源经过成像镜头组件后形成的目标光斑，利用调节组件根据度量尺寸调节所述成像镜头组件的参数，无需手动操作，确保所述度量尺寸与所述目标光斑匹配的可靠性，其中，所述度量尺寸为与曝光芯片匹配的理想光斑。与现有技术相比，本实用新型利用所述投影面接收所述目标光斑，并通过所述调节组件调节所述成像镜头组件的参数，使得所述目标光斑与所述度量尺寸匹配，相当于直接对照射至所述曝光芯片上的光斑进行调整，无需通过其他光学镜头，调整的精度更高、时长更短、光斑匹配的可靠性更高。

可选地，所述成像系统还包括：反射组件，形成在所述光源与所述投影面之间的光路上，所述光源发出的光经过所述成像镜头组件以及所述反射组件后在所述投影面上形成目标光斑。

可选地，所述调节组件包括：图像采集装置，用于采集所述投影面上的所述目标光斑；调节装置，与所述图像采集装置以及所述成像镜头组件连接，所述调节组件用于基于所述目标光斑与所述度量尺寸调节所述成像镜头组件的参数。

可选地，所述调节装置包括：导轨，所述成像镜头组件设置在所述导轨上；控制器，与所述图像采集装置连接，用于基于所述目标光斑与所述度量尺寸形成控制指令发送至调节件；所述调节件，与所述成像镜头组件连接，用于基于所述控制指令调节所述成像镜头组件的参数；测量件，用于测量所述成像镜头组件的参数。

本实用新型实施例提供的成像系统，通过图像采集装置、导轨、控制器、调节件、测量件之间的配合使得所述目标光斑与所述度量尺寸匹配，并确定所述成像镜头组件的参数，确保装机之后，所述光源经过所述成像镜头组件以及所述反射组件后形成的所述目标光斑与曝光芯片匹配，在实际使用时，提高照射至所述曝光芯片上的光斑与所述曝光芯片匹配程度以及精度，提升调整效率。

可选地，所述反射组件包括：第一反射镜以及第二反射镜；其中，所述光源发出的光经过所述第一反射镜以及所述第二反射镜投射至所述投影面上。

本实用新型实施例提供的成像系统，通过第一反射镜以及第二反射镜，缩短所述成像系统的光路，结构更加紧凑。

可选地，所述成像镜头组件包括：第一透镜，设置在所述光源与所述第一反射镜之间且靠近所述光源；第二透镜，设置在所述第一透镜与所述第一反射镜之间；其中，所述调节组件用于调节所述第二透镜与所述第一透镜之间的距离。

本实用新型实施例提供的成像系统，利用第一透镜与第二透镜将所述光源发出的光线进行扩束整形，确保得到均匀分布的所述目标光斑，为后续曝光芯片的工作提供基础。

可选地，所述调节组件还用于调节所述第一透镜与所述光源之间的距离，以调节所述目标光斑的清晰度。

可选地，所述成像镜头组件还包括：第三透镜，设置在所述第一反射镜与所述第二反射镜之间；其中，所述调节组件还用于调节所述第三透镜与所述投影面之间的距离。

可选地，所述度量尺寸为目标数字微反射镜器件的尺寸。

本实用新型实施例提供的成像系统，可应用于数字微反射镜器件，通过上述各个组成部分的配合，使得在装机后，照射至所述数字微反射镜器件上的光斑均匀且与所述数字微反射镜器件匹配，为后续数字微反射镜器件的工作提供基础。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是曝光芯片的工作场景示意图；

图2是曝光芯片的工作光路变形示意图；

图3是根据本实用新型实施例的成像系统的结构示意图；

图4是根据本实用新型可选实施例的成像系统的结构示意图；

图5是根据本实用新型实施例的调节组件50的组成结构示意图；

图6是根据本实用新型实施例的调节装置52的组成结构示意图；

图7是根据本实用新型实施例的成像系统的完整结构示意图；

图8是DMD芯片与目标光斑对准的示意图；

图9是本实用新型实施例的成像镜头参数的确定方法的流程图。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

结合图1，实际的工作光路中，由于反射组件40仅起到改变光线方向的作用，并不影响曝光芯片上目标光斑的尺寸大小，因此，可将图1所示的光源10、成像镜头组件30、反射组件40组成的光路作如图2所示的变形。

根据第一方面，本实用新型实施例提供了一种成像系统，如图3所示，所述成像系统包括：光源10以及投影面20，所述投影面20上具有度量尺寸；成像镜头组件30，形成在所述光源10与所述投影面20之间的光路上，所述光源10发出的光经过所述成像镜头组件30后在所述投影面20上形成目标光斑；调节组件50，与所述成像镜头组件30连接，所述调节组件50用于基于所述目标光斑与度量尺寸调节所述成像镜头组件30的参数使得所述度量尺寸与所述目标光斑匹配，以确定所述成像镜头组件30的参数；其中，所述参数包括所述成像镜头组件30内透镜之间的距离，或所述成像镜头组件30与所述光源10之间的距离。

图3是根据本实用新型实施例的成像系统结构示意图，如图3所示，所述光源10可以为三色激光源以及光棒，用于将所述光源10发出的点光源均匀化；所述成像镜头组件30设置在所述光源10的光路上，其中，所述成像镜头组件30用于将所述光源发出的点光源进行准直、扩束，以得到均匀分布的目标光斑，具体地，所述调节组件50与所述成像镜头组件30连接，所述调节组件50可以包括滑轨、导轨等可移动器件，与所述成像镜头组件30内的透镜连接，带动所述成像镜头组件30或所述成像镜头组件30内的透镜移动。

作为本实用新型实施例的一个可选实施方式，所述投影面20上设置有度量尺寸，所述度量尺寸可以是与所述预设光斑(理想光斑)形状、尺寸一致的参考框、尺寸刻度或者所述预设光斑等，以便于将目标光斑与度量尺寸进行对准操作。当所述目标光斑与所述度量尺寸出现偏差时，所述调节组件50调节所述成像镜头组件30的参数，使得所述目标光斑与所述参考框对准。当所述目标光斑与所述参考框出现尺寸偏差时，调节所述成像镜头组件30。在这里，所述成像系统可设置有处理器和控制器，处理器用于将所述投影面20接收到的所述目标光斑与所述参考框进行比较，并计算偏差，控制器与所述调节组件50连接，用于基于所述偏差生成相应的调节指令，发送至所述调节组件50。

本实用新型实施例提供的成像系统，利用投影面接收光源经过成像镜头组件后形成的目标光斑，利用调节组件根据度量尺寸调节所述成像镜头组件的参数，无需手动操作，确保所述度量尺寸与所述目标光斑匹配的可靠性，其中，所述度量尺寸为与曝光芯片匹配的理想光斑的尺寸。与现有技术相比，本实用新型利用所述投影面接收所述目标光斑，并通过所述调节组件调节所述成像镜头组件的参数，使得所述目标光斑与所述度量尺寸匹配，相当于直接对照射至所述曝光芯片上的光斑进行调整，无需通过其他光学镜头，调整的精度更高、时长更短、光斑匹配的可靠性更高。

可选地，如图4所示，所述成像系统还包括：反射组件40，形成在所述光源10与所述投影面20之间的光路上，所述光源10发出的光经过所述成像镜头组件30以及所述反射组件40后在所述投影面20上形成目标光斑。

在这里，在所述成像系统中设置所述反射组件40，可对所述成像系统中光光线的方向进行调节，进而调整所述目标光斑在所述投影面20上的位置。具体地，所述反射组件40可以是45°反射镜或角度可调反射镜，在实际使用时，可设置相应的调节器件，将所述反射组件40旋转相应的角度，进而调节所述目标光斑在所述投影面20上的位置。

可选地，如图5所示，所述调节组件50包括：图像采集装置51，用于采集所述投影面20上的所述目标光斑；调节装置52，与所述图像采集装置51以及所述成像镜头组件30连接，所述调节组件50用于基于所述目标光斑与所述度量尺寸调节所述成像镜头组件30的参数。

作为本实用新型实施例的一个可选实施方式，如图5所示，所述调节组件50包括图像采集装置51以及调节装置52。其中，所述图像采集装置51对准所述投影面20，用于采集所述目标光斑，所述图像采集装置51具有图像处理器，用于将所述目标光斑与所述度量尺寸进行比较得到偏差，例如，尺寸偏差、位置偏差、形状偏差，并将所述偏差发送至所述调节装置52。所述调节装置52根据所述偏差，调节所述成像镜头组件30的参数。

可选地，如图6所示，所述调节装置52包括：导轨521，所述成像镜头组件30设置在所述导轨521上；控制器522，与所述图像采集装置51连接，用于基于所述目标光斑与所述度量尺寸形成控制指令发送至调节件523；所述调节件523，与所述成像镜头组件30连接，用于基于所述控制指令调节所述成像镜头组件30的参数；测量件，用于测量所述成像镜头组件30的参数。

在这里，所述成像镜头组件30内的各个透镜通过所述调节件523可移动的设置在所述导轨521上，每个所述调节件523上设置有所述测量件，例如位置传感器，每个所述测量件均连接至所述控制器522，以反馈所述调节件523每次移动的距离，以及所述成像镜头组件30的参数，所述参数包括所述成像镜头组件30内透镜之间的距离，或所述成像镜头组件30与所述光源10之间的距离。

需要说明的是，所述调节件523与所述成像镜头组件30内需要调节的透镜对应，可以理解为：在进行调节时，所述成像镜头组件30内预设透镜的位置可以固定保持不变，只需调节除所述预设透镜以外的其他透镜的位置，即可达到对所述目标光斑进行尺寸、形状、清晰度等的调节。

本实用新型实施例提供的成像系统，通过图像采集装置、导轨、控制器、调节件、测量件之间的配合使得所述目标光斑与所述度量尺寸匹配，并确定所述成像镜头组件的参数，确保装机之后，所述光源经过所述成像镜头组件以及所述反射组件后形成的所述目标光斑与曝光芯片匹配，在实际使用时，提高照射至所述曝光芯片上的光斑与所述曝光芯片匹配程度以及精度，提升调整效率。

可选地，如图7所示，所述反射组件40包括：第一反射镜41以及第二反射镜42；其中，所述光源10发出的光经过所述第一反射镜41以及所述第二反射镜42投射至所述投影面20上。

可选地，如图7所示，所述成像镜头组件30包括：第一透镜31，设置在所述光源10与所述第一反射镜41之间且靠近所述光源10；第二透镜32，设置在所述第一透镜31与所述第一反射镜41之间；其中，所述调节组件50用于调节所述第二透镜32与所述第一透镜31之间的距离。

具体地，请参见图7，所述成像镜头组件30包括第一透镜31、第二透镜32，所述反射组件包括第一反射镜41以及第二反射镜42。所述第一反射镜41设置在所述第二透镜32的出光口，用于改变光路，使得系统更紧凑，优选用45°反射镜；所述第二反射镜42设置在所述成像镜头组件30的出光口与所述投影面20之间，为角度可调的反射镜，用于调节所述目标光斑在所述投影面20上的位置、角度。所述第一透镜31以及所述第二透镜32形成准直镜头组，对所述光源10发出的点光源进行扩束、整形，得到均匀分布的矩形光斑。其中，所述第一透镜31与所述光源10之间的距离可以调整所述目标光斑在所述投影面20上的清晰度，所述第一透镜31与所述第二透镜32之间的距离可以调节所述目标光斑的尺寸。

可选地，所述调节组件50还用于调节所述第一透镜31与所述光源10之间的距离，以调节所述目标光斑的清晰度。

本实用新型实施例提供的成像系统，通过第一反射镜以及第二反射镜，缩短所述成像系统的光路，结构更加紧凑。

本实用新型实施例提供的成像系统，利用第一透镜与第二透镜将所述光源发出的光线进行扩束整形，确保得到均匀分布的所述目标光斑，为后续曝光芯片的工作提供基础。

可选地，如图7所示，所述成像镜头组件还包括：第三透镜33，设置在所述第一反射镜41与所述第二反射镜42之间；其中，所述调节组件50还用于调节所述第三透镜33与所述投影面20之间的距离。

在这里，所述第三透镜33与所述第一反射镜41处于同一水平点，用于将所述第一反射镜41反射后的光线进行准直。所述调节组件50调节所述第三透镜33与所述投影面20之间的距离，使得所述第三透镜33与所述投影面20在垂直所述投影面20方向上的距离为定值，与在实际设备上的工作光路保持一致。

可选地，所述度量尺寸为目标数字微反射镜器件的尺寸。

数字微反射镜器件(Digital Micromirror Device，简称DMD)由多个反射镜面构成，镜片的多少由显示分辨率决定，一个镜片对应一个像素，通过控制每片镜片的开/关占空比来创建灰度图形。由于其反射率高、对比度大、精度高等特点广泛地应用于光刻技术中，与传统的光刻相比，采用DMD的光刻技术，无需掩膜，其主要原理是通过计算机将所需的光刻图案通过软件写入DMD芯片01中，并根据图像的黑白像素的分布改变DMD芯片01上镜片的转角，并通过光源照射到DMD芯片01上形成与所需图案一致的光图案，最后将该光图案投射至基片表面。为了保证光图案的准确度，需要将光源照射至DMD芯片01上的目标光斑02与该DMD芯片01进行对准，保证目标光斑02将DMD芯片01表面覆盖(如图8所示)。

在一个具体实施例中，所述DMD芯片01的尺寸为20.736mm*3.629mm，则所述度量尺寸的尺寸可以设为21mm*4mm，保证余量。利用上述成像系统将目标光斑02调节至与所述度量尺寸匹配后，测量所述成像镜头组件30的参数，所述参数包括所述第一透镜31与所述光源的距离，或所述第一透镜31与所述第二透镜的距离。装机时，利用所述参数便可获得与所述DMD芯片匹配的目标光斑。

本实用新型实施例提供的成像系统，可应用于数字微反射镜器件，通过上述各个组成部分的配合，使得在装机后，照射至所述数字微反射镜器件上的光斑均匀且与所述数字微反射镜器件匹配，为后续数字微反射镜器件的工作提供基础。

根据第二方面，本实用新型实施例提供了一种成像镜头参数的确定方法，可应用于第一方面所述的控制器522，如图9所示，该方法包括如下步骤：

S11，获取投影面上的度量尺寸以及光源经过成像镜头组件后在所述投影面上形成的目标光斑。

在这里，所述度量尺寸可以是所述控制器522通过图像采集装置从所述投影面上获取到的，还可以是提前预置于所述控制器522中的，又或者是通过其他方式从外界获取到的；所述光源经过成像镜头组件后在所述投影面上形成的目标光斑，可以是所述控制器522通过图像采集装置从所述投影面上实时采集到的，还可以是提前预置于所述控制器522中的，又或者是通过其他方式从外界获取到的。无论所述控制器522以何种方式获取到所述度量尺寸以及所述光源经过成像镜头组件后在所述投影面上形成的目标光斑，只需保证所述控制器522能够获得所述度量尺寸以及所述光源经过成像镜头组件后在所述投影面上形成的目标光斑即可。

在这里，关于度量尺寸以及光源经过成像镜头组件后在所述投影面上形成的目标光斑的具体内容详见第一方面所述的成像系统，在此不再赘述。

S12，基于所述度量尺寸以及所述目标光斑，调节所述成像镜头组件的参数使得所述度量尺寸与所述目标光斑匹配，以确定所述成像镜头组件的参数。其中，所述参数包括所述成像镜头组件内透镜之间的距离，或所述成像镜头组件与所述光源之间的距离。

在这里，控制器522可根据所述度量尺寸以及所述目标光斑的差异，调节所述成像镜头组件的参数，具体地，可包括如下步骤：

S121，对比所述目标光斑与所述度量尺寸，确定所述目标光斑与所述度量尺寸的差异。在这里，所述控制器522可以在同一坐标系中建立所述目标光斑以及所述度量尺寸的模型，并进行坐标对比，得到所述目标光斑与所述度量尺寸的偏差，例如尺寸偏差、形状偏差等。

S122，基于所述差异形成调节指令，发送至调节组件中的调节件，以使得所述调节件调节所述成像镜头组件的参数。具体地，所述成像镜头组件通过所述调节件可移动的设置在导轨上，且所述调节件设有位置传感器，通过所述导轨、位置传感器以及所述控制器522的配合，调节所述成像镜头组件的参数。

进一步地，所述光源经过所述成像镜头组件以及反射组件后，在所述投影面上形成目标光斑，所述反射组件包括第一反射镜以及第二反射镜，所述光源发出的光经过所述第一反射镜以及所述第二反射镜投射至所述投影面上；所述成像镜头组件包括第一透镜以及第二透镜，所述第一透镜设置在所述光源与所述第一反射镜之间且靠近所述光源，所述第二透镜设置在所述第一透镜与所述第一反射镜之间；其中，所述差异包括所述目标光斑与所述度量尺寸的尺寸差异，和/或，所述目标光斑与所述度量尺寸的清晰度差异；

所述S122包括：

(1)基于所述尺寸差异形成第一调节指令，发送至所述调节组件，以使得所述调节组件调节所述第一透镜与第二透镜之间的距离；具体地，结合第一方面所述的成像系统，所述第一透镜与所述第二透镜之间的距离可以调节所述目标光斑的尺寸大小。

(2)基于所述清晰度差异形成第二调节指令发送至所述调节组件，以使得所述调节组件调节所述第一透镜与所述光源之间的距离。具体地，结合第一方面所述的成像系统，所述第一透镜与所述光源的距离可以调节所述目标光斑的清晰度。

需要说明的是，上述的(1)、(2)并无先后顺序之分，可以同时进行也可以只进行其中的一个。一般情况下，可先对所述目标光斑的清晰度进行调节，保证所述控制器522能够获取到清晰的所述目标光斑的图像，再进行尺寸的调节。

本实用新型实施例提供的成像镜头参数的确定方法，通过获取投影面上的度量尺寸以及光源经过成像镜头组件后在所述投影面上形成的目标光斑；基于所述度量尺寸以及所述目标光斑，调节所述成像镜头组件的参数使得所述度量尺寸与所述目标光斑匹配，以确定所述成像镜头组件的参数。相比现有技术中的方法，实用新型利用所述投影面接收所述目标光斑，并通过所述调节组件调节所述成像镜头组件的参数，使得所述目标光斑与所述度量尺寸匹配，相当于直接对照射至所述曝光芯片上的光斑进行调整，无需通过其他光学镜头，调整的精度更高、时长更短、光斑匹配的可靠性更高。

虽然结合附图描述了本实用新型的实施例，但是本领域技术人员可以在不脱离本实用新型的精神和范围的情况下作出各种修改和变型，这样的修改和变型均落入由所附权利要求所限定的范围之内。

Claims (9)

1.一种成像系统，其特征在于，包括：

光源以及投影面，所述投影面上具有度量尺寸；

成像镜头组件，形成在所述光源与所述投影面之间的光路上，所述光源发出的光经过所述成像镜头组件后在所述投影面上形成目标光斑；

调节组件，与所述成像镜头组件连接，所述调节组件用于基于所述目标光斑与度量尺寸调节所述成像镜头组件的参数使得所述度量尺寸与所述目标光斑匹配，以确定所述成像镜头组件的参数；其中，所述参数包括所述成像镜头组件内透镜之间的距离，或所述成像镜头组件与所述光源之间的距离。

2.根据权利要求1所述的成像系统，其特征在于，还包括：

反射组件，形成在所述光源与所述投影面之间的光路上，所述光源发出的光经过所述成像镜头组件以及所述反射组件后在所述投影面上形成目标光斑。

3.根据权利要求1所述的成像系统，其特征在于，所述调节组件包括：

图像采集装置，用于采集所述投影面上的所述目标光斑；

调节装置，与所述图像采集装置以及所述成像镜头组件连接，所述调节组件用于基于所述目标光斑与所述度量尺寸调节所述成像镜头组件的参数。

4.根据权利要求3所述的成像系统，其特征在于，所述调节装置包括：

导轨，所述成像镜头组件设置在所述导轨上；

控制器，与所述图像采集装置连接，用于基于所述目标光斑与所述度量尺寸形成控制指令发送至调节件；

所述调节件，与所述成像镜头组件连接，用于基于所述控制指令调节所述成像镜头组件的参数；

测量件，用于测量所述成像镜头组件的参数。

5.根据权利要求2所述的成像系统，其特征在于，所述反射组件包括：

第一反射镜以及第二反射镜；其中，所述光源发出的光经过所述第一反射镜以及所述第二反射镜投射至所述投影面上。

6.根据权利要求5所述的成像系统，其特征在于，所述成像镜头组件包括：

第一透镜，设置在所述光源与所述第一反射镜之间且靠近所述光源；

第二透镜，设置在所述第一透镜与所述第一反射镜之间；其中，所述调节组件用于调节所述第二透镜与所述第一透镜之间的距离。

7.根据权利要求6所述的成像系统，其特征在于，所述调节组件还用于调节所述第一透镜与所述光源之间的距离，以调节所述目标光斑的清晰度。

8.根据权利要求6所述的成像系统，其特征在于，所述成像镜头组件还包括：

第三透镜，设置在所述第一反射镜与所述第二反射镜之间；其中，所述调节组件还用于调节所述第三透镜与所述投影面之间的距离。

9.根据权利要求1所述的成像系统，其特征在于，所述度量尺寸为目标数字微反射镜器件的尺寸。

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