CN212442383U - 接触式等离子清洗设备 - Google Patents

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CN212442383U CN202020488763.6U CN202020488763U CN212442383U CN 212442383 U CN212442383 U CN 212442383U CN 202020488763 U CN202020488763 U CN 202020488763U CN 212442383 U CN212442383 U CN 212442383U
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China
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dielectric plate
plasma cleaning
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shell component
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罗弦
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Shenzhen Sing Fung Intelligent Manufacturing Co ltd
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Shenzhen Sing Fung Intelligent Manufacturing Co ltd
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Abstract

本实用新型公开了一种接触式等离子清洗设备,包括电极、介质板和壳体组件,所述介质板的材质为陶瓷,所述介质板上设有容纳槽,所述电极设置于所述容纳槽内;所述壳体组件的底部设有与所述介质板相适配的开口,所述壳体组件的顶部设有气体混合腔,所述气体混合腔与所述开口连通。其结构简单,处理效果好且使用寿命长。

Description

接触式等离子清洗设备
技术领域
本实用新型涉及等离子技术领域,尤其涉及一种接触式等离子清洗设备。
背景技术
等离子体,是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质,尺度大于德拜长度的宏观电中性电离气体,其运动主要受电磁力支配,并表现出显著的集体行为。它广泛存在于宇宙中,常被视为是除去固、液、气外,物质存在的第四态。等离子体是一种很好的导电体,利用经过巧妙设计的磁场可以捕捉、移动和加速等离子体。等离子体物理的发展为材料、能源、信息、环境空间、空间物理、地球物理等科学的进一步发展提供了新的技术和工艺。等离子体是不同于固体、液体和气体的物质第四态。物质由分子构成,分子由原子构成,原子由带正电的原子核和围绕它的、带负电的电子构成。当被加热到足够高的温度或其他原因,外层电子摆脱原子核的束缚成为自由电子。电子离开原子核,这个过程就叫做“电离”。这时,物质就变成了由带正电的原子核和带负电的电子组成的、一团均匀的“浆糊”,因此人们戏称它为离子浆,这些离子浆中正负电荷总量相等,因此它是近似电中性的。
等离子体的应用非常的广泛,包括数码行业、电子行业、汽车行业及印刷包装行业等。现有的等离子处理设备主要是采用石英管作为介质阻挡层,石英为易碎品质,不利于现在生产长久使用,且石英材质特性导致的离子火焰不稳定也不利于产品的效果。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是:提供一种接触式等离子清洗设备,其处理效果好且使用寿命长。
为了解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案为:
一种接触式等离子清洗设备,包括电极、介质板和壳体组件,所述介质板的材质为陶瓷,所述介质板上设有容纳槽,所述电极设置于所述容纳槽内;所述壳体组件的底部设有与所述介质板相适配的开口,所述壳体组件的顶部设有气体混合腔,所述气体混合腔与所述开口连通。
进一步的,所述介质板的底部的形状为弧形,所述电极的底部的形状与所述介质板的底部的形状相适配。
进一步的,还包括用于固定电极的固定组件。
进一步的,所述壳体组件上分别设有进水口和出水口。
进一步的,所述壳体组件上设有高压输入端口,所述高压输入端口与所述电极电气连接。
进一步的,所述气体混合腔的数目为两个,且两个的所述气体混合腔间隔设置。
本实用新型的有益效果在于:介质板的材质为陶瓷,其使用寿命长;气体混合腔的气体可到达开口处并于介质板的表面发生反应从而产生等离子体,达到清洗产品的目的。本实用新型的等离子清洗设备的处理效果好且使用寿命长。
附图说明
图1为本实用新型实施例一的接触式等离子清洗设备的结构爆炸图;
图2为本实用新型实施例一的接触式等离子清洗设备的另一结构爆炸图。
标号说明:
1、电极;2、介质板;3、壳体组件;31、高压输入端口;32、进水口;33、出水口;4、固定组件;5、气体混合腔。
具体实施方式
为详细说明本实用新型的技术内容、所实现目的及效果,以下结合实施方式并配合附图予以说明。
请参照图1以及图2,一种接触式等离子清洗设备,包括电极1、介质板2和壳体组件3,所述介质板2的材质为陶瓷,所述介质板2上设有容纳槽,所述电极1设置于所述容纳槽内;所述壳体组件3的底部设有与所述介质板2相适配的开口,所述壳体组件3的顶部设有气体混合腔5,所述气体混合腔5与所述开口连通。
从上述描述可知,本实用新型的有益效果在于:介质板的材质为陶瓷,其使用寿命长;气体混合腔的气体可到达开口处并于介质板的表面发生反应从而产生等离子体,达到清洗产品的目的。本实用新型的等离子清洗设备的处理效果好且使用寿命长。
进一步的,所述介质板2的底部的形状为弧形,所述电极1的底部的形状与所述介质板2的底部的形状相适配。
由上述描述可知,介质板的底部为弧形,电极的底部可与介质板的底部贴合在一起,放电更集中,处理效果更好。
进一步的,还包括用于固定电极1的固定组件4。
由上述描述可知,固定组件可以将电极很好地固定在介质板内。
进一步的,所述壳体组件3上分别设有进水口32和出水口33。
由上述描述可知,设置进出水口可以通冷却水,起到降温作用,延长等离子清洗设备的使用寿命。
进一步的,所述壳体组件3上设有高压输入端口31,所述高压输入端口31与所述电极1电气连接。
进一步的,所述气体混合腔5的数目为两个,且两个的所述气体混合腔5间隔设置。
由上述描述可知,间隔设置气体混合腔可以使气体通入更均匀,提高处理效果。
请参照图1及图2,本实用新型的实施例一为:
一种接触式等离子清洗设备,如图1和图2所示,包括电极1、介质板2和壳体组件3,电极1和介质板2整体设置在壳体组件3内。所述介质板2的材质为陶瓷,所述介质板2上设有容纳槽,所述电极1设置于所述容纳槽内。优选的,所述介质板2的底部的形状为弧形,所述电极1的底部的形状与所述介质板2的底部的形状相适配,即电极1的底部也为弧形,可以使电极1和介质板2贴合在一起。所述电极1和介质板2的长度可以根据需要进行设置,使得等离子清洗设备可以对产品进行线性清洗,提高清洗效率。本实施例中,还包括用于固定电极1的固定组件4,通过固定组件4可以提高电极1与介质板2之间的接触稳定性。所述壳体组件3上设有高压输入端口31,所述高压输入端口31与所述电极1电气连接。所述壳体组件3的底部设有与所述介质板2相适配的开口,即介质板2的弧形底部裸露出来,用于对产品进行等离子处理。所述壳体组件3的顶部设有气体混合腔5,所述气体混合腔5与所述开口连通,气体混合腔5中的气体为氧气与氩气的混合物。具体的,可以在壳体组件3上设置相应的气体通道,使气体可以通过气体通道到达开口处。所述气体混合腔5的数目为两个,且两个的所述气体混合腔5间隔设置。所述壳体组件3上还分别设有进水口32和出水口33。所述壳体组件3的两侧边可以都设置进水口32和出水口33,以提高冷却效果。
本实施例的接触式等离子清洗设备的工作原理为:当设备开始工作时,接入工作气体和冷却水,使工作气体经气体混合腔5混合均匀后输送至介质板2的底部,然后开启等离子电源,使能量通过高压输入端口31到达电极1,再由介质板2为介质层与工作气体发生反应产生等离子体,产生的等离子体对产品进行清洗。
综上所述,本实用新型提供的一种接触式等离子清洗设备,其结构简单,处理效果好且使用寿命长。
以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等同变换,或直接或间接运用在相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (6)

1.一种接触式等离子清洗设备,包括电极、介质板和壳体组件,其特征在于,所述介质板的材质为陶瓷,所述介质板上设有容纳槽,所述电极设置于所述容纳槽内;所述壳体组件的底部设有与所述介质板相适配的开口,所述壳体组件的顶部设有气体混合腔,所述气体混合腔与所述开口连通。
2.根据权利要求1所述的接触式等离子清洗设备,其特征在于,所述介质板的底部的形状为弧形,所述电极的底部的形状与所述介质板的底部的形状相适配。
3.根据权利要求1所述的接触式等离子清洗设备,其特征在于,还包括用于固定电极的固定组件。
4.根据权利要求1所述的接触式等离子清洗设备,其特征在于,所述壳体组件上分别设有进水口和出水口。
5.根据权利要求1所述的接触式等离子清洗设备,其特征在于,所述壳体组件上设有高压输入端口,所述高压输入端口与所述电极电气连接。
6.根据权利要求1所述的接触式等离子清洗设备,其特征在于,所述气体混合腔的数目为两个,且两个的所述气体混合腔间隔设置。
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