CN212083890U - 一种背面曝光机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种背面曝光机，包括曝光光源、机架、透明曝光平台和抽真空装置，其中机架包括水平架和支撑水平架的竖直架，所述水平架开设有开口，对应开口、所述透明曝光平台固定在水平架上，所述待曝光基板固定在透明曝光平台的上端面上，且所述待曝光基板的功能面背向所述透明曝光平台设置。实施本实用新型，通过将曝光平台设置为透明曝光平台，待曝光基板的功能面背向透明曝光平台设置，采用背面曝光的方式，可以改善正面曝光方式产生的基板底部曝光不充分进而产生Under cut现象。

Description

一种背面曝光机

技术领域

本实用新型涉及半导体曝光制作技术领域，更具体地涉及一种背面曝光机。

背景技术

现有的半导体制作过程中，曝光机多采用正面曝光的方式，当进行正面曝光时，光阻胶的背面部分不能被完全曝光，存在曝光不完全部分，经显影后会形成Under cut现象。另外，正面曝光时，曝光机的曝光平台背面会开真空孔和固定孔，开的这些孔会和周围未开孔的区域微观结构不一致，则会造成宏观不均匀现象，进而造成显示异常。

实用新型内容

为了解决所述现有技术的不足，本实用新型提供了一种背面曝光机。

本实用新型所要达到的技术效果通过以下方案实现：一种背面曝光机，包括曝光光源、机架、透明曝光平台和抽真空装置，其中机架包括水平架和支撑水平架的竖直架，所述水平架开设有开口，对应开口、所述透明曝光平台固定在水平架上，所述待曝光基板固定在透明曝光平台的上端面上，且所述待曝光基板的功能面背向所述透明曝光平台设置。

优选地，所述抽真空装置包括真空泵和真空吸盘，所述透明曝光平台上开设有若干个真空孔，所述待曝光基板包括间隔设置的功能区域和功能区域之间的非功能区域，所述真空孔对应非功能区域开设。

优选地，所述曝光机还包括自动提升组件，所述自动提升组件用于固定真空吸盘并将真空吸盘提升至与透明曝光平台接触。

优选地，所述透明曝光平台为掩膜版。

优选地，所述透明曝光平台与待曝光基板之间还设有透明耐磨保护板。

优选地，所述透明曝光平台为玻璃基板，则所述曝光机还包括透镜组件和掩膜版组件。

优选地，所述透明曝光平台的外周还设有压紧装置。

本实用新型具有以下优点：

1、通过将曝光平台设置为透明曝光平台，待曝光基板的功能面背向透明曝光平台设置，采用背面曝光的方式，可以改善正面曝光方式产生的基板底部曝光不充分进而产生Under cut现象；

2、通过将真空孔对应待曝光基板的非功能区域开设，从而不会对待曝光基板的功能区域中的显示区造成影响，也就不会产生Mura现象。

附图说明

图1为本实用新型中一种背面曝光机采用贴合式曝光的结构示意图；

图2为本实用新型中一种背面曝光机采用投影式曝光的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进行详细的说明，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”、“设置”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，还可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

结合图1、图2所示，本实用新型实施例提供一种背面曝光机，可以用于液晶显示器中待曝光基板100的曝光制作，也可以用于其他半导体设备中待曝光基板100的曝光制作。所述曝光机包括曝光光源10、机架20、透明曝光平台30和抽真空装置40，其中机架20优选呈桌台式结构，包括水平架21和支撑水平架21的竖直架22，所述水平架21开设有开口，对应开口、所述透明曝光平台30固定在水平架21上，所述待曝光基板100固定在透明曝光平台30的上端面上，且所述待曝光基板100的功能面背向所述透明曝光平台30设置，曝光光源10从下方垂直向上射入，经过透明曝光平台30对待曝光基板100进行曝光。

本实用新型通过背面曝光的方式，可以改善正面曝光方式产生的基板底部曝光不充分进而产生Under cut现象。

具体地，所述抽真空装置40包括真空泵41和真空吸盘42，所述透明曝光平台30上开设有若干个真空孔31，所述待曝光基板100包括间隔设置的功能区域和功能区域之间的非功能区域，所述真空孔31对应非功能区域开设，从而不会对待曝光基板100的功能区域中的显示区造成影响，也就不会产生Mura现象。所述待曝光基板100可以是大片基板，其可以分为若干个小片基板，每个小片基板所占用的区域为功能区，下片基板之间隔开的区域为非功能区。

所述曝光机还包括自动提升组件50，所述自动提升组件50用于固定真空吸盘42并将真空吸盘42提升至与透明曝光平台30接触，当进行曝光时，由于抽真空的作用将真空吸盘42与待曝光基板100吸附固定，则所述自动提升组件50可以退避到旁边，防止对曝光产生影响。具体地，所述自动提升组件50可以是对透明曝光平台30采用四周夹取的方式，也可以通过在待曝光平台上开设提升孔的方式对透明曝光平台30夹取和提升，但提升孔开设的位置也对应待曝光基板100的非功能区域设置，防止对待曝光基板100产生影响，所述提升孔也可以是能够抽真空的真空孔31。

作为本实用新型的进一步改进，所述透明曝光平台30为掩膜版，则所述曝光方式为贴合式曝光，如图1所示。更优地，所述透明曝光平台30与待曝光基板100之间还设有透明耐磨保护板70，所述透明耐磨保护板70用于保护掩膜版，防止掩膜版刮伤。

作为本实用新型的进一步改进，所述透明曝光平台30为玻璃基板，则所述曝光方式为投影式曝光，如图2所示，则所述曝光机还包括透镜组件80和掩膜版组件90，所述掩膜版组件90形成在曝光光源10的上方，所述透镜组件80形成在掩膜版的上方，曝光光源10发出的光经过掩膜版和透镜，从而实现对待曝光基板100的曝光。

本实用新型中所述透明曝光平台30的外周还设有压紧装置60，用于将透明曝光平台30压紧在水平架21上，可以降低透明曝光平台30的形变。

本实用新型的透明曝光平台30可根据待曝光基板100的型号尺寸进行更换，同时还可以结合作为VCD的功能。

本实用新型在透明曝光平台30和真空吸盘42的开孔均避开了待曝光基板100的功能区域，因此不会造成显示不均的现象。另外，待曝光基板100与透明曝光平台30通过抽真空贴合紧密，不存在因掩膜版弯曲度造成的曝光Gap不一致的问题。

本实用新型的曝光机用于液晶显示器中的彩膜基板制备时，所述曝光机的光路设计精度、掩膜版的设计精度和对位系统精度的要求都不高。

最后需要说明的是，以上实施例仅用以说明本发明实施例的技术方案而非对其进行限制，尽管参照较佳实施例对本发明实施例进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解依然可以对本发明实施例的技术方案进行修改或者等同替换，而这些修改或者等同替换亦不能使修改后的技术方案脱离本发明实施例技术方案的范围。

Claims (7)

1.一种背面曝光机，用于待曝光基板的曝光制作，其特征在于，包括曝光光源、机架、透明曝光平台和抽真空装置，其中机架包括水平架和支撑水平架的竖直架，所述水平架开设有开口，对应开口、所述透明曝光平台固定在水平架上，所述待曝光基板固定在透明曝光平台的上端面上，且所述待曝光基板的功能面背向所述透明曝光平台设置。

2.如权利要求1所述的一种背面曝光机，其特征在于，所述抽真空装置包括真空泵和真空吸盘，所述透明曝光平台上开设有若干个真空孔，所述待曝光基板包括间隔设置的功能区域和功能区域之间的非功能区域，所述真空孔对应非功能区域开设。

3.如权利要求1所述的一种背面曝光机，其特征在于，所述曝光机还包括自动提升组件，所述自动提升组件用于固定真空吸盘并将真空吸盘提升至与透明曝光平台接触。

4.如权利要求1所述的一种背面曝光机，其特征在于，所述透明曝光平台为掩膜版。

5.如权利要求4所述的一种背面曝光机，其特征在于，所述透明曝光平台与待曝光基板之间还设有透明耐磨保护板。

6.如权利要求1所述的一种背面曝光机，其特征在于，所述透明曝光平台为玻璃基板，则所述曝光机还包括透镜组件和掩膜版组件。

7.如权利要求1所述的一种背面曝光机，其特征在于，所述透明曝光平台的外周还设有压紧装置。

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