CN211879572U - 通信装置及介质波导滤波器 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种通信装置及介质波导滤波器。介质波导滤波器包括介质块及金属层。一方面,在生产设计过程中,可以通过调整盲槽的槽口大小或通过调整盲槽的深度大小来相应调整容性耦合量,而无需通过调整隔断环的尺寸大小来调整容性耦合量,也就是不再受限于隔断环的加工精度的影响,能实现降低加工难度,便于生产制造,便于进行调试,能实现批量生产;另一方面,隔断环仅发挥容性耦合的作用,不用于调整容性耦合量,设计隔断环时,可采用尺寸相对较小的隔断环,无需增大隔断环尺寸,从而能避免隔断环处因为开口较大而导致大量信号泄露及信号串扰严重,能实现隔断环处只有较少的信号泄漏,介质波导滤波器相互干扰大大降低。
Description
技术领域
本实用新型涉及通信装置技术领域,特别是涉及一种通信装置及介质波导滤波器。
背景技术
随着通信系统的高速发展进入到5G时代,器件的小型化是其通信设备发展的关键,而小型化、高性能、低功耗滤波器又是5G设备小型化的关键,介质波导滤波器同时具有5G设备小型化的所有特点,因此在5G通信设备中具有广泛的应用前景,介质波导滤波器的设计方法成为研究的热点。介质波导滤波器将传统波导滤波器的空气填充形式改进成高介电常数陶瓷材料填充,陶瓷介质材料起到传输信号和结构支撑的作用,金属材料附着在瓷介质材料表面,作为电壁,起到电磁屏蔽作用。
其中,传统的介质波导滤波器,实现电容耦合的几种方式包括:深盲孔方式、通孔方式及盲槽方式。这几种电容耦合方式的介质波导滤波器都存在加工难度大,调试不方便的问题,可批量性差,也为后续实行自动化调试加大了难度。
实用新型内容
基于此,有必要克服现有技术的缺陷,提供一种通信装置及介质波导滤波器,它能够降低加工难度,便于生产制造,便于进行调试,能实现批量性生产。
其技术方案如下:一种介质波导滤波器,所述介质波导滤波器包括:介质块,所述介质块包括相对设置的第一表面与第二表面,所述第一表面上设有盲槽,所述盲槽的底壁设有容性耦合通孔,所述容性耦合通孔从所述盲槽的底壁延伸到所述第二表面;及金属层,所述金属层设于所述介质块的外表面、所述盲槽的槽壁及所述容性耦合通孔的孔壁;所述容性耦合通孔孔壁的金属层上设有隔断环,或者,所述第二表面的金属层上设有绕设于所述容性耦合通孔外围的隔断环。
上述的介质波导滤波器,盲槽与容性耦合通孔相结合的形式,替换传统的直通状的容性耦合通孔,如此一方面,在生产设计过程中,可以通过调整盲槽的槽口大小(包括盲槽的宽度大小以及盲槽的长度大小)或通过调整盲槽的深度大小来相应调整容性耦合量,而无需通过调整隔断环的尺寸大小来调整容性耦合量,也就是不再受限于隔断环的加工精度的影响,能实现降低加工难度,便于生产制造,便于进行调试,能实现批量性生产;另一方面,隔断环仅发挥容性耦合的作用,不用于调整容性耦合量,设计隔断环时,可以相对减小隔断环的尺寸,无需增大隔断环的尺寸,从而能避免隔断环处因为开口较大而导致大量信号泄露及信号串扰严重,能实现隔断环处只有较少的信号泄漏,介质波导滤波器相互干扰大大降低。
在其中一个实施例中,所述容性耦合通孔的直径为1mm~3mm;所述隔断环的环宽为0.5mm~1mm。
在其中一个实施例中,所述容性耦合通孔的直径为2mm;所述隔断环的环宽为0.5mm~0.7mm。
在其中一个实施例中,所述第一表面上还设有间隔的两个频率孔,所述盲槽与所述容性耦合通孔位于两个所述频率孔之间,所述频率孔为盲孔,所述金属层还设于所述频率孔的孔壁上。
在其中一个实施例中,所述盲槽的深度不大于所述频率孔的深度。
在其中一个实施例中,所述盲槽的槽口形状为多边形、圆形、椭圆形或腰形。
在其中一个实施例中,所述盲槽为锥形槽或柱形槽。
在其中一个实施例中,所述介质块为陶瓷介质块。
在其中一个实施例中,所述金属层为镀设、喷涂或粘设于所述介质块上的金属银层、金属铜层、金属铂层或金属金层。
一种通信装置,包括所述的介质波导滤波器。
上述的通信装置,一方面,在生产设计过程中,可以通过调整盲槽的槽口大小(包括盲槽的宽度大小以及盲槽的长度大小)或通过调整盲槽的深度大小来相应调整容性耦合量,而无需通过调整隔断环的尺寸大小来调整容性耦合量,也就是不再受限于隔断环的加工精度的影响,能实现降低加工难度,便于生产制造,便于进行调试,能实现批量性生产;另一方面,隔断环仅发挥容性耦合的作用,不用于调整容性耦合量,设计隔断环时,可以相对减小隔断环的尺寸,无需增大隔断环的尺寸,从而能避免隔断环处因为开口较大而导致大量信号泄露及信号串扰严重,能实现隔断环处只有较少的信号泄漏,介质波导滤波器相互干扰大大降低。
附图说明
构成本申请的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解,本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的不当限定。
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型一实施例所述的介质波导滤波器的第一表面的结构示意图;
图2为图1在A-A处的剖视图;
图3为本实用新型一实施例所述的介质波导滤波器的第二表面的结构示意图;
图4为本实用新型另一实施例所述的介质波导滤波器的第一表面的结构示意图;
图5为图4在B-B处的剖视图;
图6为本实用新型又一实施例所述的介质波导滤波器的第一表面的结构示意图;
图7为本实用新型再一实施例所述的介质波导滤波器的第一表面的结构示意图;
图8为本实用新型一实施例所述的介质波导滤波器的S参数图。
10、介质块;11、盲槽;12、容性耦合通孔;13、频率孔;14、频率孔; 15、信号输入端口;16、信号输出端口;17、感性耦合盲孔;20、金属层;21、隔断环。
具体实施方式
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进,因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
需要说明的是,当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的,并不表示是唯一的实施方式。
传统的介质波导滤波器,其容性耦合孔以通孔为例进行说明,需要在介质块表面的金属层上绕通孔开设隔断环,隔断环能实现容性耦合的作用。然而,一般是需要通过调节隔断环的尺寸大小及形状来调整容性耦合量,由于隔断环附近能量较集中,隔断环对尺寸精度要求很高,耦合量很敏感,从而不利于批量生产;此外,隔断环所在部位是直接裸露于空气环境中,如此隔断环附近能量很集中,隔断环的面积越大时信号泄漏就越严重,实际应用时,信号串扰较严重。
基于此,参阅图1至图3,图1示出了本实用新型一实施例中所述的介质波导滤波器的第一表面的结构示意图,图2示出了图1在A-A处的剖视图,图3 示出了本实用新型一实施例所述的介质波导滤波器的第二表面的结构示意图。本实用新型一实施例提供了的介质波导滤波器,包括介质块10及金属层20。所述介质块10包括相对设置的第一表面与第二表面。所述第一表面上设有盲槽11,所述盲槽11的底壁设有容性耦合通孔12,所述容性耦合通孔12从所述盲槽11 的底壁延伸到所述第二表面。具体地,所述第一表面上还设有间隔的两个频率孔13。所述盲槽11与所述容性耦合通孔12位于两个所述频率孔13之间。所述频率孔13为盲孔。所述金属层20设于所述介质块10的外表面、所述盲槽11 的槽壁、所述容性耦合通孔12的孔壁及所述频率孔13的孔壁上。所述容性耦合通孔12孔壁的金属层20上设有隔断环21,或者,所述第二表面的金属层20 上设有绕设于所述容性耦合通孔12外围的隔断环21。
上述的介质波导滤波器,盲槽11与容性耦合通孔12的其中一侧区域为其中一个谐振腔,也就是其中一个频率孔13设置于其中一个谐振腔上,用于调节其中一个谐振腔的频率;盲槽11与容性耦合通孔12的另一侧区域为另一个谐振腔,也就是第另一个频率孔13设置于另一个谐振腔上,用于调节另一个谐振腔的频率。盲槽11与容性耦合通孔12相结合的形式,替换传统的直通状的容性耦合通孔12,如此一方面,在生产设计过程中,可以通过调整盲槽11的槽口大小(包括盲槽11的宽度大小以及盲槽11的长度大小)或通过调整盲槽11的深度大小来相应调整容性耦合量,而无需通过调整隔断环21的尺寸大小来调整容性耦合量,也就是不再受限于隔断环21的加工精度的影响,能实现降低加工难度,便于生产制造,便于进行调试,能实现批量性生产;另一方面,隔断环 21仅发挥容性耦合的作用,不用于调整容性耦合量,设计隔断环21时,可以相对减小隔断环21的尺寸,无需增大隔断环21的尺寸,从而能避免隔断环21处因为开口较大而导致大量信号泄露及信号串扰严重,能实现隔断环21处只有较少的信号泄漏,介质波导滤波器相互干扰大大降低。
在一个实施例中,所述容性耦合通孔12的直径为1mm~3mm。所述隔断环 21的环宽为0.5mm~1mm。具体而言,所述容性耦合通孔12的直径为2mm。所述隔断环21的环宽为0.5mm~0.7mm。如此,隔断环21的环宽尺寸相对较小,能避免隔断环21处因为开口较大而导致大量信号泄露及信号串扰严重,能实现隔断环21处只有较少的信号泄漏,介质波导滤波器相互干扰大大降低。可以理解的是,容性耦合通孔12的直径也可以是其它参数,不限于本实施例中限定的 1mm~3mm;隔断环21的环宽也可以是其它参数,不限于本实施例中限定的0.5mm~1mm。
需要说明的是,隔断环21处无金属层20。如此,容性耦合通孔12的孔壁上的金属层20与容性耦合通孔12的孔缘处的金属层20依然相互连接,容性耦合通孔12的孔缘处的金属层20与第二表面上其余区域的金属层20通过隔断环 21相隔离开。通过设置隔断环21,一方面,隔断环21起到容性耦合的作用,另一方面,调整环形镂空区的宽窄时能相应调整容性耦合量,但是本实施例中不限于采用该方式来调整容性耦合量。此外,隔断环21的形状不进行限制,可以为圆环形、椭圆环形、或其它不规则形状,在此不进行限制。
需要说明的是,隔断环21处没有覆盖金属层20并露出介质块10的壁面。具体而言,隔断环21处的金属层20通过移除的方式露出壁面。当然,介质块 10对应于隔断环21的壁面也可以不进行电镀或喷涂金属层20,从而露出介质块10的壁面。
在一个实施例中,所述盲槽11的深度不大于所述频率孔13的深度。当盲槽11的深度越大时,容性耦合量越大;当盲槽11的深度越小时,容性耦合量越小。如此,盲槽11为深度相对较浅的浅盲槽11,这样陶瓷胚体采用模具压制形成盲槽11、频率孔13、容性耦合通孔12的过程中,便于压制成型,且精度高,得到的产品的容性耦合量批量一致性好。
在一个实施例中,所述盲槽11的槽口形状不进行限制,可以为任意形状,例如为方形、多边形、圆形、椭圆形或腰形。此外,盲槽11的侧壁可以与第一表面或第二表面相对垂直设置,具体例如为槽口口径保持不变的柱形槽,当然也可以与第一表面或第二表面相对倾斜设置,具体例如为槽口口径逐渐增大或逐渐减小的锥形槽。
在一个实施例中,所述介质块10为陶瓷介质块10;所述金属层20为镀设、喷涂或粘设于所述介质块10上的金属银层、金属铜层、金属铂层或金属金层。
请参阅图4及图5,图4示出了本实用新型另一实施例中所述的介质波导滤波器的第一表面的结构示意图,图5示出了图4在A-A处的剖视图。图4及图5示意出的介质波导滤波器相对于图1至图3示意出的介质波导滤波器而言,区别在于容性耦合通孔12及盲槽11的设置方向发生了改变,以及隔断环21的设置位置也相应了发生了改变。在另一个实施例中,一种介质波导滤波器,所述介质波导滤波器包括介质块10及金属层20。所述介质块10包括相对设置的第一表面与第二表面。所述第二表面上设有盲槽11,所述盲槽11的底壁设有容性耦合通孔12,所述容性耦合通孔12从所述盲槽11的底壁延伸到所述第一表面,所述第一表面上还设有间隔的两个频率孔13,所述盲槽11与所述容性耦合通孔12位于两个所述频率孔13之间,所述频率孔13为盲孔。所述金属层20 设于所述介质块10的外表面、所述盲槽11的槽壁、所述容性耦合通孔12的孔壁及所述频率孔13的孔壁上。所述容性耦合通孔12孔壁的金属层20上设有隔断环21,或者,所述第一表面的金属层20上设有绕设于所述容性耦合通孔12 外围的隔断环21。
上述的介质波导滤波器,盲槽11与容性耦合通孔12的其中一侧区域为其中一个谐振腔,也就是其中一个频率孔13设置于其中一个谐振腔上,用于调节其中一个谐振腔的频率;盲槽11与容性耦合通孔12的另一侧区域为另一个谐振腔,也就是第另一个频率孔13设置于另一个谐振腔上,用于调节另一个谐振腔的频率。盲槽11与容性耦合通孔12相结合的形式,替换传统的直通状的容性耦合通孔12,如此一方面,在生产设计过程中,可以通过调整盲槽11的槽口大小(包括盲槽11的宽度大小以及盲槽11的长度大小)或通过调整盲槽11的深度大小来相应调整容性耦合量,而无需通过调整隔断环21的尺寸大小来调整容性耦合量,也就是不再受限于隔断环21的加工精度的影响,能实现降低加工难度,便于生产制造,便于进行调试,能实现批量性生产;另一方面,隔断环 21仅发挥容性耦合的作用,不用于调整容性耦合量,设计隔断环21时,可以相对减小隔断环21的尺寸,无需增大隔断环21的尺寸,从而能避免隔断环21处因为开口较大而导致大量信号泄露及信号串扰严重,能实现隔断环21处只会有较少的信号泄漏,介质波导滤波器相互干扰大大降低。
其中,图1、图4、图6及图7中示意出的介质波导滤波器为六腔介质波导滤波器,六腔介质波导滤波器上除了设置有两个频率孔13、容性耦合通孔12及盲槽11外,图1、图4、图6及图7中示意出的介质波导滤波器还具体例如设有四个频率孔14。此外,所述第二表面上还设有信号输入端口15与信号输出端口16。通过信号输入端口15与信号输出端口16能实现与外界装置进行信号传输。另外,图1、图4、图6及图7中示意出的介质波导滤波器还具体例如设置有一个感性耦合盲孔17。感性耦合盲孔17用于增强与其相邻的两个谐振腔之间的感性耦合量大小。感性耦合盲孔17的深度、孔径等等参数可以进行调整,当感性耦合盲孔17的深度、孔径等等参数调整时,相邻的两个谐振腔之间的感性耦合量相应调整。在感性耦合盲孔17的深度具体为0时,相当于无需设置感性耦合盲孔17。
请再参阅图8,图8示意出了为本实用新型一实施例所述的介质波导滤波器的S曲线图。从图8中可以看出有零点产生,即上述实施例中的介质波导滤波器为负耦合结构。
在一个实施例中,一种通信装置,包括上述任一实施例所述的介质波导滤波器。需要说明的是,所述通信装置具体可以是3G产品、4G产品或5G产品,在此不进行限定。此外,通信装置具体可以是介质波导滤波器单体结构、双工器或多工器,在此也不进行限定。
上述的通信装置,一方面,在生产设计过程中,可以通过调整盲槽11的槽口大小(包括盲槽11的宽度大小以及盲槽11的长度大小)或通过调整盲槽11 的深度大小来相应调整容性耦合量,而无需通过调整隔断环21的尺寸大小来调整容性耦合量,也就是不再受限于隔断环21的加工精度的影响,能实现降低加工难度,便于生产制造,便于进行调试,能实现批量性生产;另一方面,隔断环21仅发挥容性耦合的作用,不用于调整容性耦合量,设计隔断环21时,可以相对减小隔断环21的尺寸,无需增大隔断环21的尺寸,从而能避免隔断环21处因为开口较大而导致大量信号泄露及信号串扰严重,能实现隔断环21处只有较少的信号泄漏,介质波导滤波器相互干扰大大降低。
在一个实施例中,一种如上述任一实施例所述的介质波导滤波器的电容耦合调节方法,包括如下步骤:当需要调整电容耦合量时,通过调整所述盲槽11 的深度,和/或调整所述盲槽11的长度,和/或调整所述盲槽11的宽度来进行相应调整。
上述的介质波导滤波器的电容耦合调节方法,一方面,在生产设计过程中,可以通过调整盲槽11的槽口大小(包括盲槽11的宽度大小以及盲槽11的长度大小)或通过调整盲槽11的深度大小来相应调整容性耦合量,而无需通过调整隔断环21的尺寸大小来调整容性耦合量,也就是不再受限于隔断环21的加工精度的影响,能实现降低加工难度,便于生产制造,便于进行调试,能实现批量性生产;另一方面,隔断环21仅发挥容性耦合的作用,不用于调整容性耦合量,设计隔断环21时,可以相对减小隔断环21的尺寸,无需增大隔断环21的尺寸,从而能避免隔断环21处因为开口较大而导致大量信号泄露及信号串扰严重,能实现隔断环21处只有较少的信号泄漏,介质波导滤波器相互干扰大大降低。
在一个实施例中,请参阅图6,所述盲槽11的槽口为圆形口,所述容性耦合通孔12的孔口位于所述盲槽11底壁的中部部位,当需要增大容性耦合量时,则相应增大所述盲槽11的深度,和/或增大所述盲槽11的槽口直径;当需要减小容性耦合量时,则相应减小所述盲槽11的深度,和/或减小所述盲槽11的槽口直径。
在一个实施例中,请再参阅图1,所述盲槽11的槽口为腰形口,所述腰形口的长边方向与两个所述频率孔13中心的连线方向一致,腰形口的长边方向对应于图1中x轴方向,腰形口的宽边方向对应于图1中y轴方向。所述容性耦合通孔12的孔口位于所述盲槽11底壁的中部部位。当需要增大容性耦合量时,则相应增大所述盲槽11的深度,和/或增大所述盲槽11的槽口长度,和/或增大所述盲槽11的槽口的宽度;当需要减小容性耦合量时,则相应减小所述盲槽 11的深度,和/或减小所述盲槽11的槽口长度,和/或减小所述盲槽11的槽口的宽度。
在一个实施例中,请参阅图7,所述盲槽11的槽口为腰形口,所述腰形口的长边方向与两个所述频率孔13中心的连线方向相垂直,腰形口的长边方向对应于图7中y轴方向,腰形口的宽边方向对应于图7中x轴方向。所述容性耦合通孔12的孔口位于所述盲槽11底壁的中部部位。当需要增大容性耦合量时,则相应增大所述盲槽11的深度,和/或减小所述盲槽11的槽口长度,和/或减小所述盲槽11的槽口的宽度;当需要减小容性耦合量时,则相应减小所述盲槽11的深度,和/或增大所述盲槽11的槽口长度,和/或增大所述盲槽11的槽口的宽度。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种介质波导滤波器,其特征在于,所述介质波导滤波器包括:
介质块,所述介质块包括相对设置的第一表面与第二表面,所述第一表面上设有盲槽,所述盲槽的底壁设有容性耦合通孔,所述容性耦合通孔从所述盲槽的底壁延伸到所述第二表面;及
金属层,所述金属层设于所述介质块的外表面、所述盲槽的槽壁及所述容性耦合通孔的孔壁;所述容性耦合通孔孔壁的金属层上设有隔断环,或者,所述第二表面的金属层上设有绕设于所述容性耦合通孔外围的隔断环。
2.根据权利要求1所述的介质波导滤波器,其特征在于,所述容性耦合通孔的直径为1mm~3mm;所述隔断环的环宽为0.5mm~1mm。
3.根据权利要求2所述的介质波导滤波器,其特征在于,所述容性耦合通孔的直径为2mm;所述隔断环的环宽为0.5mm~0.7mm。
4.根据权利要求1所述的介质波导滤波器,其特征在于,所述第一表面上还设有间隔的两个频率孔,所述盲槽与所述容性耦合通孔位于两个所述频率孔之间,所述频率孔为盲孔,所述金属层还设于所述频率孔的孔壁上。
5.根据权利要求4所述的介质波导滤波器,其特征在于,所述盲槽的深度不大于所述频率孔的深度。
6.根据权利要求1所述的介质波导滤波器,其特征在于,所述盲槽的槽口形状为多边形、圆形、椭圆形或腰形。
7.根据权利要求1所述的介质波导滤波器,其特征在于,所述盲槽为锥形槽或柱形槽。
8.根据权利要求1所述的介质波导滤波器,其特征在于,所述介质块为陶瓷介质块。
9.根据权利要求1至8任意一项所述的介质波导滤波器,其特征在于,所述金属层为镀设、喷涂或粘设于所述介质块上的金属银层、金属铜层、金属铂层或金属金层。
10.一种通信装置,其特征在于,包括如权利要求1至9任意一项所述的介质波导滤波器。
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2020
- 2020-04-03 CN CN202020474705.8U patent/CN211879572U/zh active Active
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GR01 | Patent grant | ||
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