CN211754010U - 一种真空均质乳化装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及乳化技术领域，具体涉及一种真空均质乳化装置，包括罐体，所述罐体的顶端一侧设置有加入口，且罐体的顶端另一侧设置有检修口，所述罐体的顶端设置有倒凹形结构的安装架，所述安装架的顶内壁安装有驱动电机，所述驱动电机的输出轴端部安装有转动杆，且转动杆的底端延伸至罐体的内部，所述转动杆的底端设置有固定块，所述固定块的底端固定连接有竖杆，所述竖杆的侧壁顶端设置有两个对称设置的侧块。本实用新型克服了现有技术的不足，通过第一连杆、搅拌杆和第二连杆组成搅拌机构，竖杆、第一连杆、搅拌杆和第二连杆可以折叠呈竖直状，便于从检修口直接拿出进行清理，使得搅拌机构上的膏体清理更加方便。
Description
技术领域
本实用新型涉及乳化技术领域，具体涉及一种真空均质乳化装置。
背景技术
目前一般采用真空均质乳化装置来生产膏霜、软膏、乳剂类产品。真空均质乳化装置是生产药用软膏、高档膏霜、乳液等的专用设备。
经检索，公开号为CN206980565U的专利，公开了一种真空均质乳化装置，它包括乳化罐和搅拌器，乳化罐的上部设置有进液管，乳化罐的底部设置有排液管，搅拌器包括电机和搅拌机构，搅拌机构包括搅拌轴和设于搅拌轴上的环形框架和数个搅拌片，所述环形框架的外侧与乳化罐内壁之间沿竖直方向均设有数个弧形刮板，弧形刮板与乳化罐内壁相贴合，搅拌轴上还设有数个转流板。
但是上述专利在实际使用时，搅拌杆位于罐体的内部，长期使用，膏体会附着在搅拌杆上，由于搅拌杆的结构设计固定，整体的体积较大不可变，不方便清理。
实用新型内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种真空均质乳化装置，克服了现有技术的不足，结构设计简单，有效的解决了搅拌杆的结构设计固定，整体的体积较大不可变，不方便清理的问题。
(二)技术方案
为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：
一种真空均质乳化装置，包括罐体，所述罐体的顶端一侧设置有加入口，且罐体的顶端另一侧设置有检修口，所述罐体的顶端设置有倒凹形结构的安装架，所述安装架的顶内壁安装有驱动电机，所述驱动电机的输出轴端部安装有转动杆，且转动杆的底端延伸至罐体的内部，所述转动杆的底端设置有固定块，所述固定块的底端固定连接有竖杆，所述竖杆的侧壁顶端设置有两个对称设置的侧块，所述侧块的顶端开设有穿孔，所述竖杆的侧壁上铰接有两个对称设置的第一连杆，所述第一连杆远离竖杆的一端铰接有搅拌杆，且搅拌杆为竖直设置，所述搅拌杆的顶端铰接有第二连杆。
优选的，所述固定块的底端开设有固定孔，所述竖杆的顶端插接在固定孔的内部，所述固定块的一侧插接有贯穿于固定孔内部的插销，且插销的一端位于固定块的一侧外部并设置有限位销。
优选的，所述竖杆的侧壁顶端开设有用于插销穿过的通孔，所述竖杆的长度小于罐体的内部高度。
优选的，所述第二连杆远离搅拌杆的一端为弯钩状结构并卡接在侧块上的穿孔内部。
优选的，：所述搅拌杆的底端铰接有弧形结构的弧形杆，且搅拌杆的侧壁设置有限位板，所述限位板位于弧形杆的一侧。
优选的，所述罐体的底端设置有排出口，且罐体的底端为半球形结构。
(三)有益效果
本实用新型实施例提供了一种真空均质乳化装置，具备以下有益效果：
1、本新型结构设计巧妙，使用方便，通过第一连杆、搅拌杆和第二连杆组成搅拌机构，使用时，通过启动驱动电机，使得竖杆可以带着由第一连杆、搅拌杆和第二连杆组成搅拌机构对膏体进行搅拌均化，由于第一连杆、搅拌杆和第二连杆三者之间呈多角度分布，从而可以对膏体进行充分搅拌均化，大大提高了搅拌均化的效率，使得膏体的均化效果更好。
2、当需要对搅拌机构进行清理时，将插销取下，使得竖杆可以从固定孔的内部拔出，同时，将第二连杆带有弯钩的一端从穿孔内部取下，使得第二连杆与搅拌杆之间呈零度状态，搅拌杆可以通过第一连杆与竖杆之间形成折叠结构，从而使得竖杆、第一连杆、搅拌杆和第二连杆可以折叠呈竖直状，便于从检修口直接拿出进行清理，使得搅拌机构上的膏体清理更加方便。
附图说明
图1为本实用新型整体结构示意图；
图2为本实用新型竖杆、侧块和穿孔俯视结构示意图；
图3为本实用新型固定块和竖杆剖视结构示意图；
图4为本实用新型A部分放大结构示意图。
图中：1罐体、2加入口、3检修口、4安装架、5驱动电机、6转动杆、7固定块、8固定孔、9竖杆、10插销、11限位销、12侧块、13穿孔、14第一连杆、15搅拌杆、16第二连杆、17弧形杆、18限位板。
具体实施方式
下面结合附图1-4和实施例对本实用新型进一步说明：
一种真空均质乳化装置，包括罐体1，所述罐体1的顶端一侧设置有加入口2，且罐体1的顶端另一侧设置有检修口3，便于检修人进入罐体1进行操作，所述罐体1的顶端设置有倒凹形结构的安装架4，所述安装架4的顶内壁安装有驱动电机5，用于提供驱动力，所述驱动电机5的输出轴端部安装有转动杆6，且转动杆6的底端延伸至罐体1的内部，所述转动杆6的底端设置有固定块7，所述固定块7的底端固定连接有竖杆9，所述竖杆9的侧壁顶端设置有两个对称设置的侧块12，所述侧块12的顶端开设有穿孔13，所述竖杆9的侧壁上铰接有两个对称设置的第一连杆14，所述第一连杆14远离竖杆9的一端铰接有搅拌杆15，且搅拌杆15为竖直设置，所述搅拌杆15的顶端铰接有第二连杆16，第一连杆14、搅拌杆15和第二连杆16组成搅拌机构对膏体进行搅拌均化。
本实施例中，如图1-2所示，所述固定块7的底端开设有固定孔8，所述竖杆9的顶端插接在固定孔8的内部，所述固定块7的一侧插接有贯穿于固定孔8内部的插销10，且插销10的一端位于固定块7的一侧外部并设置有限位销11，便于竖杆9与固定块7之间的拆装。
本实施例中，如图3所示，所述竖杆9的侧壁顶端开设有用于插销10穿过的通孔，所述竖杆9的长度小于罐体1的内部高度。
本实施例中，如图1-2所示，所述第二连杆16远离搅拌杆15的一端为弯钩状结构并卡接在侧块12上的穿孔13内部，便于第二连杆16的固定，从而使得第一连杆14、搅拌杆15和第二连杆16组成搅拌机构得意保持一定结构对膏体进行搅拌。
本实施例中，如图1和4所示，所述搅拌杆15的底端铰接有弧形结构的弧形杆17，且搅拌杆15的侧壁设置有限位板18，所述限位板18位于弧形杆17的一侧。
本实施例中，如图1所示，所述罐体1的底端设置有排出口，且罐体1的底端为半球形结构。
本实用新型的工作原理：通过第一连杆14、搅拌杆15和第二连杆16组成搅拌机构，使用时，通过启动驱动电机5，使得转动杆6随着驱动电机5进行旋转，转动杆6通过固定块7带着竖杆9同步旋转，竖杆9可以带着由第一连杆14、搅拌杆15和第二连杆16组成搅拌机构对膏体进行搅拌均化，由于第一连杆14、搅拌杆15和第二连杆16三者之间呈多角度分布，从而可以对膏体进行充分搅拌均化，大大提高了搅拌均化的效率，使得膏体的均化效果更好，当需要对搅拌机构进行清理时，将插销10取下，使得竖杆9可以从固定孔8的内部拔出，同时，将第二连杆16带有弯钩的一端从穿孔13内部取下，使得第二连杆16与搅拌杆15之间呈零度状态，搅拌杆15可以通过第一连杆14与竖杆9之间形成折叠结构，从而使得竖杆9、第一连杆14、搅拌杆15和第二连杆16可以折叠呈竖直状，便于从检修口直接拿出进行清理。
本实用新型的实施例公布的是较佳的实施例，但并不局限于此，本领域的普通技术人员，极易根据上述实施例，领会本实用新型的精神，并做出不同的引申和变化，但只要不脱离本实用新型的精神，都在本实用新型的保护范围内。
Claims (6)
1.一种真空均质乳化装置，包括罐体(1)，其特征在于：所述罐体(1)的顶端一侧设置有加入口(2)，且罐体(1)的顶端另一侧设置有检修口(3)，所述罐体(1)的顶端设置有倒凹形结构的安装架(4)，所述安装架(4)的顶内壁安装有驱动电机(5)，所述驱动电机(5)的输出轴端部安装有转动杆(6)，且转动杆(6)的底端延伸至罐体(1)的内部，所述转动杆(6)的底端设置有固定块(7)，所述固定块(7)的底端固定连接有竖杆(9)，所述竖杆(9)的侧壁顶端设置有两个对称设置的侧块(12)，所述侧块(12)的顶端开设有穿孔(13)，所述竖杆(9)的侧壁上铰接有两个对称设置的第一连杆(14)，所述第一连杆(14)远离竖杆(9)的一端铰接有搅拌杆(15)，且搅拌杆(15)为竖直设置，所述搅拌杆(15)的顶端铰接有第二连杆(16)。
2.如权利要求1所述的一种真空均质乳化装置，其特征在于：所述固定块(7)的底端开设有固定孔(8)，所述竖杆(9)的顶端插接在固定孔(8)的内部，所述固定块(7)的一侧插接有贯穿于固定孔(8)内部的插销(10)，且插销(10)的一端位于固定块(7)的一侧外部并设置有限位销(11)。
3.如权利要求2所述的一种真空均质乳化装置，其特征在于：所述竖杆(9)的侧壁顶端开设有用于插销(10)穿过的通孔，所述竖杆(9)的长度小于罐体(1)的内部高度。
4.如权利要求1所述的一种真空均质乳化装置，其特征在于：所述第二连杆(16)远离搅拌杆(15)的一端为弯钩状结构并卡接在侧块(12)上的穿孔(13)内部。
5.如权利要求1所述的一种真空均质乳化装置，其特征在于：所述搅拌杆(15)的底端铰接有弧形结构的弧形杆(17)，且搅拌杆(15)的侧壁设置有限位板(18)，所述限位板(18)位于弧形杆(17)的一侧。
6.如权利要求1所述的一种真空均质乳化装置，其特征在于：所述罐体(1)的底端设置有排出口，且罐体(1)的底端为半球形结构。
Priority Applications (1)
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| CN202020021491.9U CN211754010U (zh) | 2020-01-06 | 2020-01-06 | 一种真空均质乳化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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Family Applications (1)
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| CN202020021491.9U Active CN211754010U (zh) | 2020-01-06 | 2020-01-06 | 一种真空均质乳化装置 |
Country Status (1)
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2020
- 2020-01-06 CN CN202020021491.9U patent/CN211754010U/zh active Active
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