CN211689212U - 高效纳米真空镀膜仪 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种高效纳米真空镀膜仪，包括底座，底座上设置有真空室，真空室顶部设置有镀膜气缸，镀膜气缸的活塞杆贯穿真空室并与镀膜机构连接，真空室侧壁设置有通槽，底座上设置有滑动槽，滑动槽一端位于真空室内，滑动槽内沿长度设置有滑轨，滑轨通过滑块与加工机构连接，底座上设置有与滑块连接的加工气缸，加工机构能通过加工气缸驱动滑块带动其在滑轨上做往复运动并穿过通槽，当加工机构移动至滑轨位于真空室内一端时，加工机构位于镀膜机构下方，加工机构侧壁能与通槽内壁接触，装置结构简单，能够实现高效镀膜。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜设备领域，尤其涉及一种高效纳米真空镀膜仪。
背景技术
真空镀膜仪主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，如真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积等，主要思路是分成蒸发和溅射两种，而纳米真空镀膜机一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜。
现有的纳米真空镀膜仪将待镀膜产品放入真空室内后，直接在真空室内进行镀膜，由于不是直接对待镀膜产品进行加工，将导致时间和靶材的浪费；在更换待镀膜产品时需要人工手动更换，使镀膜的工作效率降低。
实用新型内容
为克服上述缺点，本实用新型的目的在于提供一种结构简单，能够实现高效镀膜的高效纳米真空镀膜仪。
为了达到以上目的，本实用新型采用的技术方案是：一种高效纳米真空镀膜仪，包括底座，所述底座上设置有真空室，所述真空室顶部设置有镀膜气缸，所述镀膜气缸的活塞杆贯穿真空室并与镀膜机构连接，所述真空室侧壁设置有通槽，所述底座上设置有滑动槽，所述滑动槽一端位于真空室内，所述滑动槽内沿长度设置有滑轨，所述滑轨通过滑块与加工机构连接，所述底座上设置有与滑块连接的加工气缸，所述加工机构能通过加工气缸驱动滑块带动其在滑轨上做往复运动并穿过通槽，当所述加工机构移动至滑轨位于真空室内一端时，所述加工机构位于镀膜机构下方，所述加工机构侧壁能与通槽内壁接触。
本实用新型提供的一种高效纳米真空镀膜仪，其有益效果是：在真空室内设置加工机构和镀膜机构，同时在底座的滑动槽内设置滑轨，由于滑轨通过滑块与加工机构连接，加工机构能够通过加工气缸驱动设置在加工机构底部的滑块使加工机构在滑轨上进行往复穿过通槽的运动，实现自动化更换待镀膜产品，减少人工更换带来的时间浪费，当加工机构移动至位于真空室内的滑轨一端时，加工机构位于镀膜机构下方，镀膜机构能通过镀膜气缸驱动其做靠近加工机构运动，并对加工机构内放置的待镀膜产品进行镀膜，对加工范围进行限制，减少镀膜时间和靶材的浪费，提高加工效率。
进一步地，所述镀膜机构包括与镀膜气缸连接的镀膜座和镀膜组件，所述镀膜组件包括从上至下依次设置的离子束发生器、镀膜料放置腔和多个镀膜喷头，所述离子束发生器与镀膜座连接，多个所述镀膜喷头的喷孔均朝向加工机构，实现对待镀膜产品的镀膜。
进一步地，所述加工机构包括加工座和多个加工夹具，多个所述加工夹具均设置于加工座内，所述加工座位于镀膜座下方，多个所述加工夹具均位于多个镀膜喷头下方，所述加工座底部与滑块连接，通过设置多个加工夹具实现同时对多个待镀膜产品的镀膜。
进一步地，所述加工座尺寸大于镀膜座，当所述镀膜气缸的活塞杆完全伸出时，所述镀膜座离镀膜气缸一端位于加工座内，对镀膜范围进行限定，减少靶材的浪费。
进一步地，所述通槽上沿侧壁设置有密封橡胶，提高密封性。
进一步地，所述真空室上设置有固定块，所述镀膜气缸设置于固定块内，便于对镀膜气缸进行更换及提高镀膜气缸的安装稳定性。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为镀膜机构的结构示意图；
图3为加工机构的结构示意图。
图中：
1-底座；2-真空室；3-镀膜气缸；4-滑轨；5-加工气缸；6-镀膜座；61-离子束发生器；62-镀膜料放置腔；63-镀膜喷头；7-加工座；8-加工夹具；9-固定块；10-滑动槽；11-密封橡胶。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。
参见附图1-3所示，一种高效纳米真空镀膜仪，包括底座1，底座1上设置有真空室2，真空室2顶部设置有镀膜气缸3，真空室2上设置有固定块9，镀膜气缸3设置于固定块9内，镀膜气缸3的活塞杆贯穿真空室2并与镀膜机构连接，镀膜机构包括与镀膜气缸3连接的镀膜座6和镀膜组件，镀膜组件包括从上至下依次设置的离子束发生器61、镀膜料放置腔62和多个镀膜喷头63，离子束发生器61与镀膜座6连接；
底座1上设置有滑动槽10，滑动槽10一端位于真空室2内，滑动槽10内沿长度设置有滑轨4，滑轨4通过滑块与加工机构连接，加工机构包括加工座7 和多个加工夹具8，多个加工夹具8均设置于加工座7内，加工座7位于镀膜座 6下方，多个加工夹具8均位于多个镀膜喷头63下方，加工座7底部与滑块连接，加工座7尺寸大于镀膜座6，当镀膜气缸3的活塞杆完全伸出时，镀膜座6 远离镀膜气缸3一端位于加工座7内，底座1上设置有与滑块连接的加工气缸5，真空室2侧壁设置有通槽，通槽上沿侧壁设置有密封橡胶11加工机构能通过加工气缸5驱动滑块带动其在滑轨4上做往复运动并穿过通槽，当加工机构移动至滑轨4位于真空室2内一端时，加工机构侧壁能与通槽内壁接触，加工机构位于镀膜机构下方，多个镀膜喷头63的喷孔均朝向加工机构。
在真空室2内设置加工机构和镀膜机构，同时在底座1的滑动槽10内设置滑轨4，由于滑轨4通过滑块与加工机构连接，加工机构能够通过加工气缸5驱动设置在加工机构底部的滑块使加工机构在滑轨4上进行往复穿过通槽的运动，实现自动化更换待镀膜产品，减少人工更换带来的时间浪费，当加工机构移动至位于真空室2内的滑轨4一端时，加工机构位于镀膜机构下方，镀膜机构能通过镀膜气缸3驱动其做靠近加工机构运动，并对加工机构内放置的待镀膜产品进行镀膜，对加工范围进行限制，减少镀膜时间和靶材的浪费，提高加工效率。
以上实施方式只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人了解本实用新型的内容并加以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围，凡根据本实用新型精神实质所做的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围内。
Claims (6)
1.一种高效纳米真空镀膜仪，包括底座(1)，所述底座(1)上设置有真空室(2)，其特征在于：所述真空室(2)顶部设置有镀膜气缸(3)，所述镀膜气缸(3)的活塞杆贯穿真空室(2)并与镀膜机构连接，所述真空室(2)侧壁设置有通槽，所述底座(1)上设置有滑动槽(10)，所述滑动槽(10)一端位于真空室(2)内，所述滑动槽(10)内沿长度设置有滑轨(4)，所述滑轨(4)通过滑块与加工机构连接，所述底座(1)上设置有与滑块连接的加工气缸(5)，所述加工机构能通过加工气缸(5)驱动滑块带动其在滑轨(4)上做往复运动并穿过通槽，当所述加工机构移动至滑轨(4)位于真空室(2)内一端时，所述加工机构位于镀膜机构下方，所述加工机构侧壁能与通槽内壁接触。
2.根据权利要求1所述的高效纳米真空镀膜仪，其特征在于：所述镀膜机构包括与镀膜气缸(3)连接的镀膜座(6)和镀膜组件，所述镀膜组件包括从上至下依次设置的离子束发生器(61)、镀膜料放置腔(62)和多个镀膜喷头(63)，所述离子束发生器(61)与镀膜座(6)连接，多个所述镀膜喷头(63)的喷孔均朝向加工机构。
3.根据权利要求2所述的高效纳米真空镀膜仪，其特征在于：所述加工机构包括加工座(7)和多个加工夹具(8)，多个所述加工夹具(8)均设置于加工座(7)内，所述加工座(7)位于镀膜座(6)下方，多个所述加工夹具(8)均位于多个镀膜喷头(63)下方，所述加工座(7)底部与滑块连接。
4.根据权利要求3所述的高效纳米真空镀膜仪，其特征在于：所述加工座(7)尺寸大于镀膜座(6)，当所述镀膜气缸(3)的活塞杆完全伸出时，所述镀膜座(6)远离镀膜气缸(3)一端位于加工座(7)内。
5.根据权利要求1所述的高效纳米真空镀膜仪，其特征在于：所述通槽上沿侧壁设置有密封橡胶(11)。
6.根据权利要求1所述的高效纳米真空镀膜仪，其特征在于：所述真空室(2)上设置有固定块(9)，所述镀膜气缸(3)设置于固定块(9)内。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN202020233505.3U CN211689212U (zh) | 2020-02-28 | 2020-02-28 | 高效纳米真空镀膜仪 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
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Publications (1)
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| CN211689212U true CN211689212U (zh) | 2020-10-16 |
Family
ID=72777400
Family Applications (1)
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| CN202020233505.3U Active CN211689212U (zh) | 2020-02-28 | 2020-02-28 | 高效纳米真空镀膜仪 |
Country Status (1)
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2020
- 2020-02-28 CN CN202020233505.3U patent/CN211689212U/zh active Active
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