CN211497758U - 一种td处理装置 - Google Patents

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张炼
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Abstract

本实用新型公开了一种TD处理装置,包括处理箱,处理箱内部分别设有放置架和搅拌辊,搅拌辊位于处理箱内部底部,放置架位于搅拌辊上方,放置架的架壁上均匀设有若干孔洞,放置架的一侧外壁两侧均固定安装有滑套,放置架的另一侧下端中部固定安装有螺纹套,滑套内部滑动连接有滑杆,有益效果是:利用放置架放置模具工件,抬升电机工作可带动放置架上下移动,方便了模具工件的放置和取出,处理箱的箱壁内部设有一号真空隔层,箱门的内部设有二号真空隔层,保温效果好,在处理箱的底部设有搅拌辊,搅拌辊在搅拌过程中可避免TD处理介质液中的介质沉淀,同时带动TD处理介质液搅拌使介质分布均匀,提高了模具工件的TD处理效果。

Description

一种TD处理装置
技术领域
本实用新型涉及一种TD处理装置,属于模具生产技术领域。
背景技术
TD处理为TD模具表面超硬化处理技术,采用金属碳化物扩散覆层TD原理,是在一定的处理温度下将工件置于硼砂熔盐及其特种介质中,通过特种熔盐中的金属原子和工件中的碳、氮原子产生化学反应,扩散在工件表面而形成一层几微米至二十余微米的钒、铌、铬、钛等的金属碳化层。
目前TD处理装置保温效果一般,其在使用过程中,模具工件需要放置在处理箱内部,TD处理结束后需要将模具工件取出,由于处理箱内部盛有大量的TD处理介质液,模具工件的放置和拿取非常不方便,TD处理介质液在放置过程中其介质会出现沉淀,影响TD处理效果。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种TD处理装置,以解决上述背景技术中提出的目前TD处理装置保温效果一般,模具工件的放置和拿取非常不方便,TD处理介质液在放置过程中其介质会出现沉淀的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种TD处理装置,包括处理箱,所述处理箱内部分别设有放置架和搅拌辊,所述搅拌辊位于处理箱内部底部,所述放置架位于搅拌辊上方,所述放置架的架壁上均匀设有若干孔洞,所述放置架的一侧外壁两侧均固定安装有滑套,所述放置架的另一侧下端中部固定安装有螺纹套,所述滑套内部滑动连接有滑杆,所述滑杆的上端与处理箱固定连接,所述螺纹套内部螺纹连接有螺纹杆,所述处理箱上端面一侧固定安装有抬升电机,所述抬升电机的输出端通过转轴与螺纹杆的上端固定连接,所述处理箱的下端面中部固定安装有搅拌电机,所述搅拌电机的输出端通过转轴与搅拌辊固定连接,所述处理箱上端面中部通过合页转动连接有箱门,所述处理箱的箱壁内部设有一号真空隔层,所述箱门的内部设有二号真空隔层。
作为本实用新型优选的一种技术方案,所述处理箱的一侧固定安装有加液管,所述加液管与处理箱内部上端连通,所述加液管上设有阀门。
作为本实用新型优选的一种技术方案,所述处理箱的下端面一侧固定安装有排液管,所述排液管与处理箱内部下端连通,所述排液管上设有阀门。
作为本实用新型优选的一种技术方案,所述处理箱的两侧内壁上嵌装有加热板。
作为本实用新型优选的一种技术方案,所述箱门的上端面固定安装有把手。
作为本实用新型优选的一种技术方案,所述处理箱的下端面四角处均固定安装有支撑脚。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1、利用放置架放置模具工件,抬升电机工作可带动放置架上下移动,方便了模具工件的放置和取出。
2、处理箱的箱壁内部设有一号真空隔层,箱门的内部设有二号真空隔层,保温效果好。
3、在处理箱的底部设有搅拌辊,搅拌辊在搅拌过程中可避免TD处理介质液中的介质沉淀,同时带动TD处理介质液搅拌使介质分布均匀,提高了模具工件的TD处理效果。
附图说明
图1为本实用新型的内部结构示意图;
图2为本实用新型的外部结构示意图;
图3为本实用新型的箱门打开后的结构示意图。
图中:1、处理箱;2、放置架;3、搅拌辊;4、滑套;5、螺纹套;6、滑杆;7、螺纹杆;8、抬升电机;9、搅拌电机;10、箱门;11、一号真空隔层;12、二号真空隔层;13、加液管;14、排液管;15、加热板;16、把手;17、支撑脚。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-3,本实用新型提供了一种TD处理装置,包括处理箱1,处理箱1内部分别设有放置架2和搅拌辊3,搅拌辊3位于处理箱1内部底部,放置架2位于搅拌辊3上方,放置架2的架壁上均匀设有若干孔洞,放置架2的一侧外壁两侧均固定安装有滑套4,放置架2的另一侧下端中部固定安装有螺纹套5,滑套4内部滑动连接有滑杆6,滑杆6的上端与处理箱1固定连接,螺纹套5内部螺纹连接有螺纹杆7,处理箱1上端面一侧固定安装有抬升电机8,抬升电机8的输出端通过转轴与螺纹杆7的上端固定连接,处理箱1的下端面中部固定安装有搅拌电机9,搅拌电机9的输出端通过转轴与搅拌辊3固定连接,处理箱1上端面中部通过合页转动连接有箱门10,处理箱1的箱壁内部设有一号真空隔层11,箱门10的内部设有二号真空隔层12。
处理箱1的一侧固定安装有加液管13,加液管13与处理箱1内部上端连通,加液管13上设有阀门,通过加液管13向处理箱1内部添加TD处理介质液。
处理箱1的下端面一侧固定安装有排液管14,排液管14与处理箱1内部下端连通,排液管14上设有阀门,通过排液管14排出处理箱1内部的TD处理介质液。
处理箱1的两侧内壁上嵌装有加热板15,加热板15加热对模具工件TD处理。
箱门10的上端面固定安装有把手16,便于箱门10打开和关闭。
处理箱1的下端面四角处均固定安装有支撑脚17,支撑脚17起到支撑处理箱1的作用。
具体时,本实用新型一种TD处理装置在使用时,通过加液管13向处理箱1内部添加TD处理介质液,在处理箱1内部设有放置架2,可利用抬升电机8的正向和反向工作带动螺纹杆7转动,利用螺纹杆7与螺纹套5螺纹连接,放置架2可沿着滑杆6的方向上上下移动,在放置模具工件时,打开箱门10,利用抬升电机8工作将放置架2抬升至最高处再将模具工件放置在放置架2内部,再利用抬升电机8工作将放置架2内部的模具工件浸没在TD处理介质液内部,搅拌电机9工作带动搅拌辊3转动,搅拌辊3位于处理箱1底部,其搅拌过程中可避免TD处理介质液中的介质沉淀,同时带动TD处理介质液搅拌使介质分布均匀,利用加热板15加热,对模具工件进行TD处理,在加热板15加热过程中,一号真空隔层11和二号真空隔层12可有效防止热量的流逝,提高了TD处理效果,TD处理结束后,打开箱门10,利用抬升电机8工作带动放置架2抬升,方便模具工件取出。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定,对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种TD处理装置,包括处理箱(1),其特征在于:所述处理箱(1)内部分别设有放置架(2)和搅拌辊(3),所述搅拌辊(3)位于处理箱(1)内部底部,所述放置架(2)位于搅拌辊(3)上方,所述放置架(2)的架壁上均匀设有若干孔洞,所述放置架(2)的一侧外壁两侧均固定安装有滑套(4),所述放置架(2)的另一侧下端中部固定安装有螺纹套(5),所述滑套(4)内部滑动连接有滑杆(6),所述滑杆(6)的上端与处理箱(1)固定连接,所述螺纹套(5)内部螺纹连接有螺纹杆(7),所述处理箱(1)上端面一侧固定安装有抬升电机(8),所述抬升电机(8)的输出端通过转轴与螺纹杆(7)的上端固定连接,所述处理箱(1)的下端面中部固定安装有搅拌电机(9),所述搅拌电机(9)的输出端通过转轴与搅拌辊(3)固定连接,所述处理箱(1)上端面中部通过合页转动连接有箱门(10),所述处理箱(1)的箱壁内部设有一号真空隔层(11),所述箱门(10)的内部设有二号真空隔层(12)。
2.根据权利要求1所述的一种TD处理装置,其特征在于:所述处理箱(1)的一侧固定安装有加液管(13),所述加液管(13)与处理箱(1)内部上端连通,所述加液管(13)上设有阀门。
3.根据权利要求1所述的一种TD处理装置,其特征在于:所述处理箱(1)的下端面一侧固定安装有排液管(14),所述排液管(14)与处理箱(1)内部下端连通,所述排液管(14)上设有阀门。
4.根据权利要求1所述的一种TD处理装置,其特征在于:所述处理箱(1)的两侧内壁上嵌装有加热板(15)。
5.根据权利要求1所述的一种TD处理装置,其特征在于:所述箱门(10)的上端面固定安装有把手(16)。
6.根据权利要求1所述的一种TD处理装置,其特征在于:所述处理箱(1)的下端面四角处均固定安装有支撑脚(17)。
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CN113101392A (zh) * 2021-03-24 2021-07-13 李梦 一种口腔科器械浸泡消毒设备

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