CN211199385U - 蒸发源机构以及溅射镀膜设备 - Google Patents

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徐旻生
庄炳河
王应斌
龚文志
张亮
李永杰
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Abstract

本实用新型属于真空溅射镀膜技术领域,尤其涉及一种蒸发源机构以及溅射镀膜设备,其中,蒸发源机构包括蒸发源装置、药液滴灌装置和同步加药装置,蒸发源装置至少设有两个,包括加药阀、具有蒸发腔的蒸发箱以及置于蒸发腔内的坩埚,蒸发箱包于其侧壁开设与蒸发腔连通且与真空镀膜室对接的出料口,以及于其上壁开设与蒸发腔连通的加药口,药液滴灌装置至少设有两个,包括具有出药口的引药管以及用于向引药管供应药液的供药结构,其中,各出药口分别用于将药液引落至一存药腔,同步加药装置用于一并驱动各出药口上下运动,以使各出药口分别经一加药口进出一蒸发腔。各蒸发源装置能够同时完成加药作业,极大地提高了加药作业效率。

Description

蒸发源机构以及溅射镀膜设备
技术领域
本实用新型属于真空溅射镀膜技术领域,尤其涉及一种蒸发源机构以及溅射镀膜设备。
背景技术
溅射镀膜设备广泛应用于手机盖板、平板电脑以及车载显示器等领域,溅射镀膜设备目前用来在显示器件表面镀制增透膜、防刮膜和防污膜。经过镀膜工艺处理后,极大地改善人们对显示器件产品的体验。
溅射镀膜设备包括真空镀膜室以及蒸发源机构,蒸发源机构包括至少两个蒸发源装置,蒸发源装置包括具有蒸发腔的蒸发箱以及置于蒸发腔内的坩埚,蒸发箱于其侧壁开设与蒸发腔连通且与真空镀膜室对接的出料口,其中,当各蒸发源装置内的药液用完时,需要逐个给各蒸发源装置加药液,也即是一个蒸发源装置的加药作业完成之后,才进行下一个蒸发源装置的加药作业,蒸发源机构的整体加药作业效率较低。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服上述现有技术的不足,提供了一种蒸发源机构,其旨在解决提供加药作业效率较低的问题。
本实用新型是这样实现的:
一种蒸发源机构,与真空镀膜室配合使用,包括:
蒸发源装置,至少设有两个,包括加药阀、具有蒸发腔的蒸发箱以及置于所述蒸发腔内的坩埚,所述坩埚开设有开口朝上设置并用于存放药液的存药腔,所述蒸发箱包于其侧壁开设与所述蒸发腔连通且与所述真空镀膜室对接的出料口,以及于其上壁开设与所述蒸发腔连通的加药口,所述加药阀用于打开/关闭所述加药口;
药液滴灌装置,至少设有两个,包括具有出药口的引药管以及用于向引药管供应药液的供药结构,其中,各所述出药口分别用于将药液引落至一所述存药腔;
同步加药装置,用于一并驱动各所述出药口上下运动,以使各所述出药口分别经一所述加药口进出一所述蒸发腔。
可选地,所述同步加药装置包括与各所述药液滴灌装置连的中间连接件以及驱动所述中间连接件上下运动以带动各所述出药口上下运动的同步驱动组件。
可选地,所述中间连接件包括由所述同步驱动组件驱动而上下运动的连接本体以及至少两个均连接于所述连接本体且随所述连接本体上下运动的联动支臂,所述联动支臂包括一端与所述连接本体连接的横杆以及连接于横杆另一端的竖杆。
可选地,所述引药管为柔性管。
可选地,所述同步驱动组件包括驱动电机以及用于连接所述驱动电机和所述中间连接件的丝杆结构。
可选地,所述蒸发源装置还包括用于驱动所述坩埚以使所述坩埚在初始状态和蒸镀状态之间切换的转动结构,所述坩埚在初始状态时所述存药腔腔口朝上设置,而在所述蒸镀状态时所述存药腔腔口朝向所述出料口设置。
可选地,所述转动结构包括与所述坩埚连接传动轴以及用于驱动所述传动轴以带动所述坩埚在所述初始状态和所述蒸镀状态之间切换的转动电机,所述转动电机固定于所述蒸发箱。
可选地,所述蒸发源装置设有四个。
本实用新型还提供一种溅射镀膜设备,包括上述的蒸发源机构。
当需要对各蒸发源装置进行滴灌药液时,加药步骤如下:
各加药阀分别打开各加药口;
同步加药装置一并驱动各出药口向下运动,以使各出药口分别经一加药口进出一蒸发腔;
各供药结构启动,并分别通过各自的引药管的加药口向存药腔滴灌药液;
同步加药装置一并驱动各出药口向上运动,以使各出药口分别经一加药口退出一蒸发腔;
各加药阀分别关闭各加药口。
由上可知,基于本实用新型结构设计,各蒸发源装置能够同时完成加药作业,不需要逐个给各蒸发源装置加药液,只需单个蒸发源装置的加药作业时间即可,极大地提高了加药作业效率。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本实用新型实施例提供的蒸发源机构的各部件之间的位置关系示意图,其中,坩埚处于初始状态;
图2是本实用新型实施例提供的蒸发源机构的各部件之间的位置关系示意图,其中,坩埚处于蒸镀状态;
图3是本实用新型实施例提供的蒸发源机构的俯视图,其中,同步加药装置未示出。
附图标号说明:
Figure BDA0002293331450000031
Figure BDA0002293331450000041
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
请参阅图1至图3,本实用新型实施例提供一种蒸发源机构100,与真空镀膜室200配合使用。
在此需要说明的是,该蒸发源机构100根据所加药液品种的不同,而能够在真空镀膜室200内在镀膜对象上形成增透膜、防刮膜和防污膜等,镀膜对象可以应用于手机盖板、平板电脑以及车载显示器等领域。
该蒸发源机构100包括蒸发源装置110、药液滴灌装置120和同步加药装置130。
蒸发源装置110至少设有两个,在本实用新型实施例中,蒸发源装置110设有四个。蒸发源装置110包括加药阀111、具有蒸发腔1101的蒸发箱112以及置于蒸发腔1101内的坩埚113,坩埚113开设有开口朝上设置并用于存放药液的存药腔,在具体实施中,蒸发源装置110还包括用于加热坩埚113的加热器,以使放置于坩埚113上的药液气化。蒸发箱112于其侧壁开设与蒸发腔1101连通且与真空镀膜室200对接的出料口,以便于气化后的药液进入到真空镀膜室200,蒸发箱112还于其上壁开设与蒸发腔1101连通的加药口,加药阀111用于打开/关闭加药口;
药液滴灌装置120至少设有两个,在本实用新型实施例中,蒸发源装置110设有四个。包括具有出药口的引药管121以及用于向引药管121供应药液的供药结构122,其中,各出药口分别用于将药液引落至一存药腔。
同步加药装置130用于一并驱动各出药口上下运动,以使各出药口分别经一加药口进出一蒸发腔1101。
当需要对各蒸发源装置110进行滴灌药液时,加药步骤如下:
各加药阀111分别打开各加药口;
同步加药装置130一并驱动各出药口向下运动,以使各出药口分别经一加药口进出一蒸发腔1101;
各供药结构122启动,并分别通过各自的引药管121的加药口向存药腔滴灌药液;
同步加药装置130一并驱动各出药口向上运动,以使各出药口分别经一加药口退出一蒸发腔1101;
各加药阀111分别关闭各加药口。
由上可知,基于本实用新型结构设计,各蒸发源装置110能够同时完成加药作业,不需要逐个给各蒸发源装置110加药液,只需单个蒸发源装置110的加药作业时间即可,极大地提高了加药作业效率。
在此需要说明的是,真空镀膜室200内还设有圆柱靶、挂基片加的圆简、离子氧化靶等。
请参阅图1和图2,在本实用新型实施例中,同步加药装置130包括与各药液滴灌装置120连的中间连接件131以及驱动中间连接件131上下运动以带动各出药口上下运动的同步驱动组件132。
通过中间连接件131来连接各药液滴灌装置120,这样,只需一个同步驱动组件132,而不需要设置多个同步驱动组件132,有利减少同步驱动组件132的数量,并简化结构,降低成本。
具体地,中间连接件131包括由同步驱动组件132驱动而上下运动的连接本体以及至少两个均连接于连接本体且随连接本体上下运动的联动支臂,联动支臂包括一端与连接本体连接的横杆以及连接于横杆另一端的竖杆。
具体地,引药管121为柔性管。
该引药管121为柔性管时,结合前述结构,可将引药管121连接到中间连接件131,同步加药装置130只需驱动引药管121部分管段上下运动,而不像整体驱动药液滴灌装置120,这样,有利于简化结构,同时,还能降低同步驱动组件132的功率。
请参阅图1和图2,在本实用新型实施例中,同步驱动组件132包括驱动电机1321以及用于连接驱动电机1321和中间连接件131的丝杆结构1322。该结构简单,有利于提高可靠性以及降低成本。
请参阅图1和图2,在本实用新型实施例中,蒸发源装置110还包括用于驱动坩埚113以使坩埚113在初始状态和蒸镀状态之间切换的转动结构,坩埚113在初始状态时存药腔腔口朝上设置,而在蒸镀状态时存药腔腔口朝向出料口设置。
在使用过程中,首先,将药液放置到坩埚113的存药腔,其次,转动结构驱动坩埚113进入蒸镀状态,然后,再利用加热器加热坩埚113,以使药液气化。其中,当气化的药液溢出存药腔时,气化的药液将沿着存药腔的腔口开设方向溢出,而由于坩埚113在蒸镀状态时,存药腔腔口朝向出料口,从存药腔溢出的气化的药液将沿水平方向直接进入到真空镀膜室200,这样,相对于现有技术,减少了气化的药液进入到真空镀膜室200的路径,有利于减少药液的浪费。
此外,减少了气化的药液进入到真空镀膜室200的路径,还能让气化的药更快地进入到真空镀膜室200,有利于提高蒸镀效率。
转动结构包括与坩埚113连接传动轴以及用于驱动传动轴以带动坩埚113在初始状态和蒸镀状态之间切换的转动电机,转动电机固定于蒸发箱112。基于此结构设计,利用电机驱动,再通过传动轴来将电机的扭矩传动至坩埚113,其中,电机能够采用标准件,这样,有利于简化驱动机构的结构,降低生产制造成本。
本实用新型还提出一种溅射镀膜设备,该溅射镀膜设备包括蒸发源机构100,该主题一的具体结构参照上述实施例,由于本溅射镀膜设备采用了上述所有实施例的全部技术方案,因此同样具有上述实施例的技术方案所带来的所有有益效果,在此不再一一赘述。
以上仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换或改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种蒸发源机构,与真空镀膜室配合使用,其特征在于,包括:
蒸发源装置,至少设有两个,包括加药阀、具有蒸发腔的蒸发箱以及置于所述蒸发腔内的坩埚,所述坩埚开设有开口朝上设置并用于存放药液的存药腔,所述蒸发箱于其侧壁开设与所述蒸发腔连通且与所述真空镀膜室对接的出料口,以及于其上壁开设与所述蒸发腔连通的加药口,所述加药阀用于打开/关闭所述加药口;
药液滴灌装置,至少设有两个,包括具有出药口的引药管以及用于向引药管供应药液的供药结构,其中,各所述出药口分别用于将药液引落至一所述存药腔;
同步加药装置,用于一并驱动各所述出药口上下运动,以使各所述出药口分别经一所述加药口进出一所述蒸发腔。
2.如权利要求1所述的蒸发源机构,其特征在于,所述同步加药装置包括与各所述药液滴灌装置连的中间连接件以及驱动所述中间连接件上下运动以带动各所述出药口上下运动的同步驱动组件。
3.如权利要求2所述的蒸发源机构,其特征在于,所述中间连接件包括由所述同步驱动组件驱动而上下运动的连接本体以及至少两个均连接于所述连接本体且随所述连接本体上下运动的联动支臂,所述联动支臂包括一端与所述连接本体连接的横杆以及连接于横杆另一端的竖杆。
4.如权利要求3所述的蒸发源机构,其特征在于,所述引药管为柔性管。
5.如权利要求2所述的蒸发源机构,其特征在于,所述同步驱动组件包括驱动电机以及用于连接所述驱动电机和所述中间连接件的丝杆结构。
6.如权利要求1至5中任一项所述的蒸发源机构,其特征在于,所述蒸发源装置还包括用于驱动所述坩埚以使所述坩埚在初始状态和蒸镀状态之间切换的转动结构,所述坩埚在初始状态时所述存药腔腔口朝上设置,而在所述蒸镀状态时所述存药腔腔口朝向所述出料口设置。
7.如权利要求6所述的蒸发源机构,其特征在于,所述转动结构包括与所述坩埚连接传动轴以及用于驱动所述传动轴以带动所述坩埚在所述初始状态和所述蒸镀状态之间切换的转动电机,所述转动电机固定于所述蒸发箱。
8.如权利要求1至5中任一项所述的蒸发源机构,其特征在于,所述蒸发源装置设有四个。
9.一种溅射镀膜设备,其特征在于,包括如权利要求1至8中任一项所述的蒸发源机构。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114277354A (zh) * 2021-12-28 2022-04-05 深圳奥卓真空设备技术有限公司 一种af连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法
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