CN211159615U - 一种低汞触媒生产用搅拌装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于低汞触媒生产技术领域，具体公开了一种低汞触媒生产用搅拌装置，包括活性炭添加机构、搅拌机构和浸渍池，搅拌机构包括搅拌轴和第一电机，搅拌轴的底端贯穿浸渍池的底端并延伸至浸渍池外侧，搅拌轴的底端与第一电机连接，搅拌轴的顶端设有凹槽，搅拌轴上均布有搅拌叶片，活性炭添加机构包括进料斗、第一出料管和集料槽，集料槽设于搅拌轴的侧壁上，集料槽的底端设有若干出料孔，凹槽内设有限位板，第一出料管的顶端与进料斗连接，第一出料管的底端依次贯穿限位板和搅拌轴的侧壁并延伸至集料槽的正上方。与现有技术相比，本实用新型可以通过集料槽下方设置的出料孔将活性炭均匀的洒在浸渍池内，从而提高了搅拌叶片搅拌的工作效率。

Description

一种低汞触媒生产用搅拌装置

技术领域

本实用新型涉及低汞触媒生产技术领域，具体涉及一种低汞触媒生产用搅拌装置。

背景技术

低汞触媒在生产过程中，首先是配制浸渍液，然后将煤质柱状活性炭进行酸洗预处理，再将预处理的活性炭置于浸渍液中进行浸泡，最后烘干包装即可。但是传统的生产工艺中，活性炭的投料方式是通过人工手动完成，即人工将堆在一起的活性炭用铲子或者小车运送到浸渍池中，此种人工添加活性炭的方式容易使活性炭堆积，导致活性炭与浸渍液不能完全接触，需要进行多次的搅拌才能保证活性炭能与浸渍液充分接触，从而降低了搅拌装置的工作效率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种低汞触媒生产用搅拌装置，以解决现有搅拌装置搅拌活性炭和浸渍液工作效率低下的问题。

为达到上述目的，本实用新型提供一种低汞触媒生产用搅拌装置，包括活性炭添加机构、搅拌机构、浸渍池和用于支撑浸渍池的第一支架，所述搅拌机构包括搅拌轴和第一电机，所述搅拌轴的底端贯穿浸渍池的底端并延伸至浸渍池外侧，所述搅拌轴的底端与第一电机连接，所述搅拌轴与浸渍池的底端转动连接，所述搅拌轴的顶端设有凹槽，所述搅拌轴上均布有搅拌叶片，所述活性炭添加机构包括进料斗、第一出料管和集料槽，所述集料槽设于搅拌轴的侧壁上，所述集料槽位于搅拌叶片的上方，所述集料槽的底端设有若干出料孔，所述凹槽内设有限位板，所述第一出料管的顶端与进料斗连接，所述第一出料管的底端依次贯穿限位板和搅拌轴的侧壁并延伸至集料槽的正上方。

本实用新型的原理和有益效果在于：首先启动第一电机，第一电机转动带动搅拌轴转动，搅拌轴带动集料槽和搅拌叶片转动，集料槽在转动的过程中，集料槽内的活性炭从出料孔掉落在浸渍池内，在搅拌叶片的作用下，将活性炭和浸渍液搅拌均匀；当集料槽内活性炭的量不足时，可以通过进料斗和第一出料管向集料槽补充活性炭。与现有技术相比，本实用新型可以通过集料槽下方设置的出料孔将活性炭均匀的洒在浸渍池内，从而提高了搅拌叶片搅拌的工作效率。

方案二，此为基础方案的优选，所述搅拌轴上套设有限位筒，所述限位筒和搅拌轴转动连接，所述限位筒的侧壁上设有关于搅拌轴轴线对称的固定杆，每个所述固定杆的一端与浸渍池的侧壁连接，每个所述固定杆的另一端与限位筒的侧壁连接，所述限位筒位于集料槽的上方。通过限位筒和固定杆的配合可以避免搅拌轴在转动的过程中的发生偏移，从而影响搅拌工作的正常进行。

方案三，此为方案二的优选，还包括活性炭输送机构，所述活性炭输送机构包括输送箱、转轴和用于支撑输送箱的第二支架，所述转轴设于输送箱内，所述转轴的一端与输送箱的右侧转动连接，所述转轴的另一端贯穿输送箱的左侧并延伸至输送箱外侧，所述转轴与输送箱左侧连接的一端连接有第二电机，所述输送箱上设有进料管和第二出料管，所述第二出料管位于进料斗的正上方。当集料槽内活性炭的量不足时，工作人员启动第二电机，第二电机转动带动转轴转动，转轴转动带动螺旋叶片转动，接着通过进料管向输送箱添加活性炭，随后螺旋叶片一方面带动活性炭移动，另一方面将结块的活性炭打碎，随后活性炭通过第二出料管掉落到进料斗内，接着经由第一出料管进入集料槽内。本方案可以在添加活性炭的同时将结块的活性炭打碎，从而进一保证活性炭可以与浸渍液充分混合。

方案四，此为方案三的优选，所述浸渍池的底端设有第三出料管，所述第三出料管上设有阀门。设置第三出料管可以将混合完成的原料排出。

方案五，此为方案四的优选，所述浸渍池的侧面设有进浸渍液管。在浸渍池的侧面设置进浸渍液管，便于向浸渍池内添加浸渍液。

附图说明

图1是本实用新型一种低汞触媒生产用搅拌装置的结构示意图；

图2是图1中集料槽的俯视图。

具体实施方式

下面通过具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明：

说明书附图中的附图标记包括：第二电机1、第二支架2、输送箱3、转轴4、螺旋叶片5、进料管6、第二出料管7、进料斗8、浸渍池9、第一支架10、第一出料管11、限位板12、搅拌轴13、限位筒14、固定杆15、集料槽16、出料孔17、搅拌叶片18、第一电机19、进浸渍液管20、第三出料管21、阀门22。

如图1和图2所示：一种低汞触媒生产用搅拌装置，包括活性炭输送机构，活性炭输送机构包括输送箱3、转轴4和用于支撑输送箱3的第二支架2，转轴4设于输送箱3内，转轴4的右端与输送箱3的右侧转动连接，转轴4的左端贯穿输送箱3的左侧并延伸至输送箱3外侧，转轴4的左端与输送箱3的左侧转动连接，转轴4的左侧连接有第二电机1，输送箱3的顶端设有进料管6，进料管6位于靠近第二电机1的一侧，输送箱3的底端设有第二出料管7。

还包括搅拌机构、浸渍池9和用于支撑浸渍池9的第一支架10，搅拌机构包括搅拌轴13和第一电机19，搅拌轴13的底端贯穿浸渍池9的底端并延伸至浸渍池9外侧，搅拌轴13的底端与第一电机19连接，搅拌轴13与浸渍池9之间转动连接，搅拌轴13的顶端设有凹槽，搅拌轴13上均布有搅拌叶片18，搅拌轴13上套设有限位筒14，限位筒14和搅拌轴13转动连接，限位筒14的侧壁上设有关于搅拌轴13轴线对称的固定杆15，每个固定杆15的一端与浸渍池9的侧壁连接，每个固定杆15的另一端与限位筒14的侧壁固定连接，浸渍池9的底端设有第三出料管21，第三出料管21上设有阀门22，浸渍池9的侧面设有进浸渍液管20。

还包括活性炭添加机构，活性炭添加机构包括进料斗8、第一出料管11和集料槽16，集料槽16设于搅拌轴13的侧壁上，集料槽16位于搅拌叶片18的上方，集料槽16的底端设有若干出料孔17，集料槽16位于限位筒14的下方，凹槽内设有限位板12，第一出料管11的顶端与进料斗8连接，进料斗8位于第二出料管7的正下方，第一出料管11的底端依次贯穿限位板12和搅拌轴13的侧壁并延伸至集料槽16的正上方。

本实施例的实施方式为：首先启动第一电机19，第一电机19转动带动搅拌轴13转动，搅拌轴13带动集料槽16和搅拌叶片18转动，集料槽16在转动的过程中，集料槽16内的活性炭从出料孔17掉落在浸渍池9内，在搅拌叶片18的作用下，将活性炭和浸渍液搅拌均匀；当集料槽16内活性炭的量不足时，工作人员启动第二电机1，第二电机1转动带动转轴4转动，转轴4转动带动螺旋叶片5转动，接着通过进料管6向输送箱3添加活性炭，随后螺旋叶片5一方面带动活性炭移动，另一方面将结块的活性炭打碎，随后活性炭通过第二出料管7掉落到进料斗8内，接着经由第一出料管11进入集料槽16内。

以上所述的仅是本实用新型的实施例，方案中公知的具体结构及特性等常识在此未作过多描述。应当指出，对于本领域的技术人员来说，在不脱离本实用新型结构的前提下，还可以作出若干变形和改进，这些也应该视为本实用新型的保护范围，这些都不会影响本实用新型实施的效果和专利的实用性。本申请要求的保护范围应当以其权利要求的内容为准，说明书中的具体实施方式等记载可以用于解释权利要求的内容。

Claims (5)

1.一种低汞触媒生产用搅拌装置，其特征在于，包括活性炭添加机构、搅拌机构、浸渍池和用于支撑浸渍池的第一支架，所述搅拌机构包括搅拌轴和第一电机，所述搅拌轴的底端贯穿浸渍池的底端并延伸至浸渍池外侧，所述搅拌轴的底端与第一电机连接，所述搅拌轴与浸渍池的底端转动连接，所述搅拌轴的顶端设有凹槽，所述搅拌轴上均布有搅拌叶片，所述活性炭添加机构包括进料斗、第一出料管和集料槽，所述集料槽设于搅拌轴的侧壁上，所述集料槽位于搅拌叶片的上方，所述集料槽的底端设有若干出料孔，所述凹槽内设有限位板，所述第一出料管的顶端与进料斗连接，所述第一出料管的底端依次贯穿限位板和搅拌轴的侧壁并延伸至集料槽的正上方。

2.根据权利要求1所述的一种低汞触媒生产用搅拌装置，其特征在于,所述搅拌轴上套设有限位筒，所述限位筒和搅拌轴转动连接，所述限位筒的侧壁上设有关于搅拌轴轴线对称的固定杆，每个所述固定杆的一端与浸渍池的侧壁连接，每个所述固定杆的另一端与限位筒的侧壁连接，所述限位筒位于集料槽的上方。

3.根据权利要求2所述的一种低汞触媒生产用搅拌装置，其特征在于，还包括活性炭输送机构，所述活性炭输送机构包括输送箱、转轴和用于支撑输送箱的第二支架，所述转轴设于输送箱内，所述转轴的一端与输送箱的右侧转动连接，所述转轴的另一端贯穿输送箱的左侧并延伸至输送箱外侧，所述转轴与输送箱左侧连接的一端连接有第二电机，所述输送箱上设有进料管和第二出料管，所述第二出料管位于进料斗的正上方。

4.根据权利要求3所述的一种低汞触媒生产用搅拌装置，其特征在于,所述浸渍池的底端设有第三出料管，所述第三出料管上设有阀门。

5.根据权利要求4所述的一种低汞触媒生产用搅拌装置，其特征在于，所述浸渍池的侧面设有进浸渍液管。

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