CN211112215U - 镀膜装置以及镀膜设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了镀膜装置（100）以及镀膜设备（300），其中，镀膜装置（100）可用于在热丝化学气相沉积法中对基板（205）进行镀膜，具有用于对基板（205）进行镀膜的镀膜腔（110），镀膜腔（110）内间隔地设置有三个以上具有热丝的镀膜部（120），相邻的两个镀膜部（120）之间，容许单块基板（205）流过，且相邻的两个镀膜部（120）设置为分别对流过它们之间的基板（205）的与其相对的一面进行镀膜。本实用新型的镀膜装置（100），能够实现在同一个镀膜腔（110）内对基板（205）的两面进行镀膜。

Description

镀膜装置以及镀膜设备

技术领域

本实用新型涉及太阳能电池板制造技术领域，特别涉及一种镀膜装置以及镀膜设备。

背景技术

在SHJ太阳电池的本征非晶硅薄膜及掺杂非晶硅薄膜制作工艺中，已知的做法通常有两种，等离子体增强化学气相沉积法（Plasma enhanced chemical vapordeposition,PECVD）和热丝化学气相沉积法（Hot wire chemical vapor deposition，HWCVD），此两种方法均需在对太阳能电池片的其中一面进行镀膜后，翻转电池片，然后对另一面镀膜。不论是PECVD或HWCVD，每个工艺腔均只完成太阳能电池片单面且单一材料的镀膜，故需要较多的工艺腔体才能完成本征非晶硅薄膜及掺杂非晶硅薄膜镀膜迭层，存在设备占地面积大，成本高的技术问题。此外，如果要完成太阳能电池片双面的镀膜，需要对电池片进行翻面，已知的翻面结构也较复杂，并且太阳能电池片在空气下翻面，也容易造成产品被空气中的水气、氧气及灰尘影响。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决已知技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型提出一种镀膜装置，可用于热丝化学气相沉积法，且能够实现对需要镀膜的基板进行双面镀膜。

此外，本实用新型还提出了具有该镀膜装置的镀膜设备，能够减少工艺腔体的数量，降低设备成本。

根据本实用新型第一方面实施例的镀膜装置，可用于在热丝化学气相沉积法中对基板进行镀膜，设有用于对基板进行镀膜的镀膜腔，所述镀膜腔内间隔地设置有三个以上具有第一热丝的镀膜部，各相邻的两个所述镀膜部之间，分别容许单块所述基板流过，且相邻的两个镀膜部设置为分别对流过它们之间的所述基板的与其相对的一面进行镀膜。

根据本实施例的镀膜装置，至少具有如下有益效果：由于在镀膜腔内间隔地设置三个以上具有第一热丝的镀膜部，分别对流过它们之间的单块基板进行镀膜，能够实现在同一个镀膜腔内分别对至少两块基板的各两面进行镀膜。

在一些实施例中，每一个所述镀膜部分别包括多组所述第一热丝。

在一些实施例中，各所述镀膜部的所述第一热丝，设置为可同时对流过其两侧的所述基板的与其相对的一面进行镀膜。

在一些实施例中，所述镀膜部沿水平方向或者竖直方向间隔设置。

在一些实施例中，多组所述第一热丝分别沿所述基板的传输方向分布。

根据本实用新型第二方面实施例的镀膜设备，用于对基板进行镀膜，包括：至少一个上述任一项的镀膜装置。

根据本实施例的镀膜设备，至少具有如下有益效果：由于具有在镀膜腔内间隔地设置三个以上具有第一热丝的镀膜部，分别对流过它们之间的基板进行镀膜的镀膜装置，能够实现在同一个镀膜腔内对至少两块基板的两面进行镀膜，因此，能够减少工艺腔体的数量，降低设备成本。

在一些实施例中，所述镀膜装置包括多个，多个所述镀膜装置沿所述基板的传输方向，依次连接。

在一些实施例中，还包括第一镀膜组件，所述第一镀膜组件和所述镀膜装置连接，所述第一镀膜组件具有用于对所述基板进行镀膜的第一镀膜空间，所述第一镀膜空间内设置有一个第一镀膜源，所述第一镀膜源设置为对流过其两侧的两块所述基板的与其相对的一面进行镀膜。

在一些实施例中，还包括第二镀膜组件，所述第二镀膜组件和所述镀膜装置连接，所述第二镀膜组件具有用于对所述基板进行镀膜的第二镀膜空间，所述第二镀膜空间内间隔设置有多个第二镀膜源，相邻的两个所述第二镀膜源之间，设置为容许并排的两块所述基板流过，两个所述第二镀膜源设置为分别对与其相邻的所述基板的一面进行镀膜。

在一些实施例中，还具有多个隔离部，所述隔离部使所述镀膜腔被隔离。

附图说明

图1是本实用新型的镀膜装置的一种实施例的俯视图。

图2是图1的镀膜装置的左视图。

图3是具有图1的镀膜装置的镀膜设备的一种实施例的俯视图。

图4是图3的镀膜设备的左视图。

图5是太阳能电池板的一种实施例的简要示意图。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，涉及到方位描述，例如上、下、前、后、左、右等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，若干的含义是一个或者多个，多个的含义是两个以上，大于、小于、超过等理解为不包括本数，以上、以下、以内等理解为包括本数。如果有描述到第一、第二只是用于区分技术特征为目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。

本实用新型的描述中，除非另有明确的限定，设置、安装、连接等词语应做广义理解，例如，当说两个部件连接时，这两个部件可以通过连接结构直接连接、间接连接，也可以是制造工序、控制流程等方面存在相关联等，所属技术领域技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本实用新型中的具体含义。

图1是镀膜装置100的一种实施例的俯视图。图2是镀膜装置100的左视图。参照图1、图2，根据本实用新型第一方面实施例的镀膜装置100，可用在热丝化学气相沉积法中对基板205进行镀膜，具有用于对基板205进行镀膜的镀膜腔110，镀膜腔110内间隔地设置有三个以上具有第一热丝121a的镀膜部120，各相邻的两个镀膜部120之间，容许单块基板205流过，且相邻的两个镀膜部120设置为分别对流过它们之间的基板205的与其相对的一面进行镀膜。

在本实施例中，由于在镀膜腔110内间隔地设置三个以上镀膜部120，分别对流过它们之间的单块基板205进行镀膜，能够实现在同一个镀膜腔110内对至少两块基板205的两面进行镀膜。并且，也无需设置复杂的翻面结构，能够减少基板205翻面时与空气接触而产生的缺陷。

图5是太阳能电池板200的一种实施例的简要示意图，参照图5，并继续参照图1、图2，可以想到的是，镀膜装置100可以是用于热丝化学气相沉积法的镀膜装置，作为本镀膜的基板205，可以是例如太阳能电池板200的n型单晶硅基层（基板205），该n型单晶硅基层的两侧的一侧，从基层朝向外侧，依次具有本征非晶硅薄膜204、P-型掺杂硅基薄膜203、TCO层202（透明导电层）以及电极201，该n型单晶硅基层的两侧的另外一侧，依次具有本征非晶硅薄膜204、n-型掺杂硅基薄膜206、TCO层202以及电极201。此外，可以想到的是，基板205的形状只要是能够作为太阳能电池板所使用的形状并不特别限定。

可以想到的是，“流过”应该理解为使基板205通过，例如，镀膜腔110中横跨过用于传输基板205的传输装置130，通过传输装置130而使基板205穿过镀膜部120之间。传送装置可以使用本领域技术人员所公知的例如电机驱动的传输皮带线、电机驱动的传输滚筒线、传送机器人等的传输装置130，基板205可以通过例如托盘140装载，为了能够实现对基板205的两侧进行镀膜，托盘140可以设置为镂空状。由此，传输装置130通过托盘140装载基板205，并驱动托盘140在镀膜腔110内流动并通过相邻的两个镀膜部120，在基板205通过镀膜部120时，作为镀膜源的镀膜部120分别对基板205的与其相对的一面进行镀膜。

可以想到的是，单块基板205指的是，基板205相互之间并无并排，例如，基板205通过两个镀膜部120时，在左右方向只有一块基板，而并不是限定沿传输装置130的传输方向例如前后方向只有一块基板205。

可以想到的是，相邻的两个镀膜部120在对基板205的与其相对的一面进行镀膜时，两个镀膜部120既可以分别同时对基板205的第一面205a、第二面205b进行镀膜，也可以依次对基板205的第一面205a、第二面205b进行镀膜，本领域的技术人员可以根据需要，通过控制镀膜部120的打开或者关闭的控制系统进行控制即可。

可以想到的是，镀膜腔110内的真空压力可以通过本领域技术人员所公知的真空系统例如真空泵、负压泵等控制，镀膜腔110内的气体则可以通过本领域技术人员所公知的气动系统例如设置在腔体外的超纯气路系统控制。

可以想到的是，多个镀膜部120既可以沿镀膜腔110的左右方向间隔分布，也可以沿镀膜腔110的上下方向分布。例如，当镀膜部120沿左右方向间隔分布时，可以作为竖直式镀膜方式（即基板205的作为镀膜面第一面205a、第二面205b垂直于水平方向），对基板205进行镀膜。当镀膜部120沿上下方向间隔分布时，可以作为水平式镀膜方式（即基板205的第一面205a、第二面205b平行于水平方向），对基板205进行镀膜。

可以想到的是，第一热丝121a只要能够实现加热无方向性，对流过其两侧的基板205进行镀膜，并不特别限定，例如可以是热丝化学气相沉积法中常用的钨丝，用于在基板205的表面，将反应气体加热到镀膜的工艺温度，这些第一热丝121a的加热无方向性，可以同时处理位于其两侧的基板205。由此，各镀膜部120的第一热丝121a，可以设置为同时对流过其两侧的基板205的与其相对的一面进行镀膜。

在一些实施例中，每一个镀膜部120分别包括多组第一热丝121a，例如，每一个镀膜部120可以包括三组第一热丝121a或者四组第一热丝121a，由此，能够提高镀膜的效率。可以想到的是，例如，当镀膜部120沿左右方向间隔分布时，每一个镀膜部120的多组第一热丝121a，可以沿基板205的传输方向（前后方向），间隔分布，各第一热丝121a的长度方向，可以设置为沿垂直于水平方向的方向延伸。当镀膜部120沿水平方向间隔分布时，各第一热丝121a的长度方向，可以设置为沿平行于水平方向的方向延伸。需要说明的是，在此，水平方向可以理解为平行于海平面（或者地面）的方向，另外，只要能够以肉眼判断，第一热丝121a长度方向大致垂直于水平方向，或者大致平行于水平方向，则可以认为相对于水平方向垂直或者平行。

在一些实施例中，镀膜部120包括三个，各相邻的两个镀膜部120之间，分别容许基板205流过。具体地，例如，镀膜部120沿左右方向，间隔设置有第一镀膜部120a、第二镀膜部120b和第三镀膜部120c，其中，第一镀膜部120a和第二镀膜部120b之间，容许一块基板205流过，第二镀膜部120b和第三镀膜部120c之间，也容许一块基板205流过。与此对应，传输装置130可以通过沿左右方向分布的第一托盘140a和第二托盘140b，分别装载并排的两块基板205，并驱动基板205同时或者不同时地流过镀膜部120。由此，能够同时对沿左右方向分布的两块基板205进行镀膜，能够实现同时对两块基板205的第一面205a、第二面205b进行镀膜。

图3是具有镀膜装置100的镀膜设备300的俯视图。图4是镀膜设备300的左视图。参照图3、图4，并辅助参照图1、图2，根据本实用新型第二方面实施例的镀膜设备300，用于对基板205进行镀膜，包括：至少一个上述的镀膜装置100。

在本实施例的镀膜设备300中，由于具有在镀膜腔110内间隔地设置三个以上镀膜部120，分别对流过它们之间的基板205进行镀膜的镀膜装置100，能够实现在同一个镀膜腔110内对至少两块基板205的两面进行镀膜，因此，能够减少工艺腔体的数量，降低设备成本。

可以想到的是，镀膜设备300可以包括例如：进料装置301、加热装置302、上述的镀膜装置100、出料装置303和在它们之间传输基板205的传输装置130，其中，进料装置301具有容许待镀膜的基板205进入的进料腔304；加热装置302设置在进料装置301的后面，具有对待镀膜的基板205进行加热的加热腔305；镀膜装置100设置在加热装置302的后面；出料装置303设置在镀膜装置100的后面，具有容许基板205离开镀膜装置100的出料腔306；传输装置130用于在进料腔304、加热腔305、镀膜腔110和出料腔306之间传输基板205。

可以想到的是，在此，前后的方位如图所示，或者也可以理解为镀膜工艺的先后顺序，例如，在先的工序的装置的位置，理解为“前”，在后的工序的装置的位置，理解为“后”。

可以理解的是，镀膜设备300的进料装置301、加热装置302、出料装置303等，均可以使用现有的镀膜设备300中已经使用的这些装置。进料腔304、加热腔305、镀膜腔110和出料腔306之间，可以通过本领域技术人员所公知的真空锁（未图示）依次连接。

在一些实施例中，为了完成不同的镀膜步骤，镀膜装置100可以包括多个，多个镀膜装置100沿基板205的传输方向，依次连接。具体地，这些镀膜装置100可以分别执行相同或者不同的镀膜工艺，沿前后方向，既可以直接依次连接，也可以在它们之间设置其他的镀膜组件，即例如尽管两个镀膜装置100之间相互连接，但是该两个镀膜装置100之间也可以设置其他的镀膜组件。由此，通过设置具有不同镀膜方式的多个镀膜装置100，能够根据工艺的不同，对基板205的第一面205a、第二面205b进行不同的镀膜，能够减少腔体的数量，降低设备成本，并且，由于无需对基板205进行翻面，能够省略复杂的翻面结构，还能够避免基板205受到空气中的水气、氧气或者灰尘等的影响。

在一些实施例中，还包括第一镀膜组件310，第一镀膜组件310和镀膜装置100连接，第一镀膜组件310具有用于对基板205进行镀膜的第一镀膜空间311，第一镀膜空间311内设置有一个第一镀膜源312，第一镀膜源312设置为分别对流过其两侧的两块基板205的与其相对的一面进行镀膜。具体地，第一镀膜组件310可用在热丝化学气相沉积法中对基板205进行镀膜，第一镀膜组件310可以设置在镀膜装置100的后面，第一镀膜空间311可以参考上面的镀膜腔110设置，不同之处在于，第一镀膜空间311内只设置有一个第一镀膜源312，第一镀膜源312设置为分别对流过其两侧的两块基板205的与其相对的一面进行镀膜。同样地，第一镀膜源312也可以包括多组第二热丝121b，第一镀膜源312的第二热丝121b，也对流过其两侧例如两侧的基板205的一面进行镀膜。由此，通过设置具有不同镀膜方式的两个镀膜装置100，能够根据工艺的不同，对基板205的表面进行不同的镀膜。

在一些实施例中，还包括第二镀膜组件320，第二镀膜组件320和镀膜装置100连接，第二镀膜组件320具有用于对基板205进行镀膜的第二镀膜空间321，第二镀膜空间321内间隔设置有多个第二镀膜源322，相邻的两个第二镀膜源322之间，设置为容许并排的两块基板205流过，两个第二镀膜源322设置为分别对与其相邻的基板205的一面进行镀膜。具体地，第二镀膜组件320也可用在热丝化学气相沉积法中对基板205进行镀膜，例如，第二镀膜组件320根据镀膜工艺需要，可以设置在镀膜装置100的后面。此外，当存在第一镀膜组件310时，第二镀膜组件320可以和第一镀膜组件310连接，设置在第一镀膜组件310的前面或者后面。

在第二镀膜组件320中，例如，第二镀膜源322沿左右方向，间隔设置有两个，两个第二镀膜源322之间，容许两块基板205流过。与此对应，传输装置130可以通过第一托盘140a和第二托盘140b，分别装在两块基板205，并驱动基板205同时流过两个第二镀膜源322。由此，能够对两块基板205的一面同时进行镀膜。同样地，第二镀膜源322也可以包括多组第三热丝121c。

此外，可以想到的是，上面虽然以第二镀膜组件320用在热丝化学气相沉积法中对基板205进行镀膜为例进行了说明，但是并非限定于此，例如第二镀膜组件320也可以用在等离子体增强化学气相沉积法中对基板205进行镀膜，在这种情况下，需要将例如作为第二镀膜源322的第三热丝121c改变为对应于等离子体增强化学气相沉积法的镀膜源。

另外，在一些实施例中，为了将各腔体分隔成独立工作的腔体，还可以具有多个隔离部330，隔离部330使镀膜腔110被隔离。进一步地，例如，也可以在进料腔304和加热腔305之间，加热腔305和镀膜腔110之间，镀膜腔110和镀膜腔110之间（当存在多个镀膜装置100时），镀膜腔110和第一镀膜空间311之间，第一镀膜空间311和第二镀膜空间321之间，第二镀膜空间321和出料腔306之间等，分别设置有隔离部330。隔离部330可以选择例如电机驱动的电动隔板，隔离部330在各腔体需要独立工作时，将该腔体与其他的腔体隔离。

此外，在一些实施例中，各腔体内均可以配备加热组件（未图示）和保温组件（未图示），例如，可以在镀膜腔110内设置有加热组件和保温组件。加热组件可以选择本领域技术人员所公知的例如加热电阻丝等，保温组件，则可以选择本领域技术人员所公知的例如温度传感器等，通过温度传感器检测腔体内的温度，并由此控制加热电阻丝的工作等。

在上面各实施例中，具体未详细展开描述的各形状和构造，均可以认为是本领域技术人员所公知，例如，真空系统的配置、气路系统的配置、隔离部的安装方式、加热组件的安装方式以及安装位置、保温组件的安装方式等，本领域技术人员可以根据实际需要进行安装。

参照图3、图4，并辅助参照图1、图2、图5，以下以通过热丝化学气相沉积法制作太阳能电池板的镀膜设备300进行详细的说明，具体地，该镀膜设备300用于在n型单晶硅基层（以下简称基板205）的第一面205a和第二面205b，制作双面本征非晶硅薄膜204以及掺杂非晶硅薄膜叠层（P-型掺杂硅基薄膜203、n-型掺杂硅基薄膜203）。

具体，从前往后，镀膜设备300依次包括进料装置301、加热装置302、第一镀膜装置100、第一镀膜组件310、第二镀膜组件320以及出料装置303，各装置之间通过作为隔离部330的电动隔板进行隔离，各装置通过带传输式的传输装置130连接，传输装置130同时传输左右方向并排的第一托盘140a、第二托盘140b，托盘140承载基板205。此外，镀膜设备300的真空系统、气路系统、加热系统（加热组件以及保温组件）等未图示。此外，镀膜设备300为垂直式镀膜设备300，即托盘140承载的基板205垂直于水平面。

镀膜装置100，用于在基板205的第一面205a和第二面205b，镀本征非晶硅薄膜204。在镀膜装置100中，镀膜部120沿左右方向，间隔设置有第一镀膜部120a、第二镀膜部120b和第三镀膜部120c，其中，第一镀膜部120a和第二镀膜部120b之间，容许第一托盘140a以及第一托盘140a上装载的基板205流过，第二镀膜部120b和第三镀膜部120c之间，容许第二托盘140b以及第二托盘140b上装载的基板205流过。此外，第一镀膜部120a、第二镀膜部120b和第三镀膜部120c分别具有四组第一热丝121a。在镀膜装置100中，第一镀膜部120a和第二镀膜部120b，分别对第一托盘140a上的基板205的第一面205a和第二面205b，镀本征非晶硅薄膜204，同时，第二镀膜部120b和第三镀膜部120c分别对第二托盘140b上的基板205的双面镀本征非晶硅薄膜204。由此，在镀膜装置100，通过三个镀膜部120，同时完成在两块基板205的双面制作本征非晶硅薄膜204。

在镀膜装置100完成基板205的双面镀本征非晶硅薄膜204的工序后，通过传输装置130将两块基板205运输至第一镀膜组件310。

第一镀膜组件310，用于分别在两块基板205的一面，镀n-型掺杂硅基薄膜206（或者P-型掺杂硅基薄膜203）。在第一镀膜组件310中，只具有一个第一镀膜源312，第一镀膜源312位于第一镀膜空间311的左右方向的中部，与第二镀膜部120b在前后方向大致共线。同样地，第一镀膜源312具有四组第二热丝121b。在第一镀膜组件310中，第一镀膜源312分别对第一托盘140a上的基板205的一面（与镀膜源相对的一面），和第二托盘140b上的基板205的一面（与镀膜源相对的一面）镀n-型掺杂硅基薄膜206。由此，在第一镀膜组件310，通过一个第一镀膜源312，同时完成在两块基板205单面制作n-型掺杂硅基薄膜206。

在第一镀膜组件310完成基板205的单面镀n-型掺杂硅基薄膜206的工序后，通过传输装置130将两块基板205运输至第二镀膜组件320。

第二镀膜组件320用于分别在两块基板205的另一面（相对于在第一镀膜组件310被镀膜的一面的另一面），镀P-型掺杂硅基薄膜203（或者n-型掺杂硅基薄膜206）。在第二镀膜组件320中，沿左右方向间隔设置有两个第二镀膜源322，两个第二镀膜源322分别位于第二镀膜组件320的第二镀膜空间321的左右两侧，与第一镀膜部120a和第三镀膜部120c在前后方向大致共线。同样地，第二镀膜源322具有四组第三热丝121c。两个第二镀膜源322之间，容许两块基板205流过。其中一个第二镀膜源322对第一托盘140a上的基板205的另一面进行镀膜，另一个第二镀膜源322对第二托盘140b上的基板205的另一面进行镀膜。

在第二镀膜组件320完成基板205的单面镀P-型掺杂硅基薄膜203的工序后，通过传输装置130将两块基板205运输至出料装置303。

由此，本实施例的镀膜设备300，能够根据工艺的不同，对基板205的双面（第一面205a、第二面205b）进行不同的镀膜，能够减少工艺腔体的数量，降低设备成本，并且，由于无需对基板205进行翻面，能够省略复杂的翻面结构，并且避免基板205受到空气中的水气、氧气或者灰尘等的影响。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本实用新型的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (10)

1.镀膜装置，可用于在热丝化学气相沉积法中对基板进行镀膜，设有用于对基板进行镀膜的镀膜腔，其特征在于，所述镀膜腔内间隔地设置有三个以上具有第一热丝的镀膜部，各相邻的两个所述镀膜部之间，分别容许单块所述基板流过，且相邻的两个镀膜部设置为分别对流过它们之间的所述基板的与其相对的一面进行镀膜。

2.根据权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，每一个所述镀膜部分别包括多组所述第一热丝。

3.根据权利要求1或2所述的镀膜装置，其特征在于，各所述镀膜部的所述第一热丝，设置为可同时对流过其两侧的所述基板的与其相对的一面进行镀膜。

4.根据权利要求1或2所述的镀膜装置，其特征在于，所述镀膜部沿水平方向或者竖直方向间隔设置。

5.根据权利要求2所述的镀膜装置，其特征在于，多组所述第一热丝分别沿所述基板的传输方向分布。

6.镀膜设备，用于对基板进行镀膜，其特征在于，包括：至少一个权利要求1至5中任一项所述的镀膜装置。

7.根据权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜装置包括多个，多个所述镀膜装置沿所述基板的传输方向，依次连接。

8.根据权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，还包括第一镀膜组件，所述第一镀膜组件和所述镀膜装置连接，所述第一镀膜组件具有用于对所述基板进行镀膜的第一镀膜空间，所述第一镀膜空间内设置有一个第一镀膜源，所述第一镀膜源设置为对流过其两侧的两块所述基板的与其相对的一面进行镀膜。

9.根据权利要求8所述的镀膜设备，其特征在于，还包括第二镀膜组件，所述第二镀膜组件和所述镀膜装置连接，所述第二镀膜组件具有用于对所述基板进行镀膜的第二镀膜空间，所述第二镀膜空间内间隔设置有多个第二镀膜源，相邻的两个所述第二镀膜源之间，设置为容许并排的两块所述基板流过，两个所述第二镀膜源设置为分别对与其相邻的所述基板的一面进行镀膜。

10.根据权利要求7至9中任一项所述的镀膜设备，其特征在于，还具有多个隔离部，所述隔离部使所述镀膜腔被隔离。

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