CN210886204U - 能及时排屑的微球涂层装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种能及时排屑的微球涂层装置，所述真空室内设置有磁控靶枪；所述副真空室设置在真空室的底部，所述副真空室上设置有真空管，所述真空管和副真空室连通；所述环形体呈漏斗状，且位于真空室内，所述排屑轴设置在环形体的底部，且中空，所述排屑轴连通真空室和副真空室，所述环形体驱动源设置在副真空室外部，且其自由端与排屑轴连接；所述内转台驱动源设置在副真空室的底部，所述转轴设置在内转台驱动源的自由端，所述内转台设置在转轴的顶部，所述内转台的外径小于环形体在内转台高度处的外径，其之间形成宽度小于微球的外径的分离口。其能够分离、收集尘屑，净化度和涂覆效率高，结构简单，成本低。
Description
技术领域
本实用新型涉及涂层装置，具体涉及一种能及时排屑的微球涂层装置。
背景技术
微球在进行表面涂覆时，因微球本身和溅射颗粒会产生一些尘屑，这些尘屑会阻碍涂覆的均匀性和效率。专利申请公布号为CN110129753A公开了一种能及时排屑的微球涂层装置，排屑时尘屑容易堆积在排屑口上方，时间长了容易堵塞，进而丧失排屑效果。另外，其在涂覆时遮盖了微球的较大面积，降低了涂覆效率。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种能及时排屑的微球涂层装置，其能够分离、收集尘屑，净化度和涂覆效率高，结构简单，成本低。
为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种能及时排屑的微球涂层装置，包括真空室、副真空室、外环形体单元和内转台单元；所述真空室内设置有磁控靶枪；所述副真空室设置在真空室的底部，所述副真空室上设置有真空管，所述真空管和副真空室连通；所述外环形体单元包括环形体、排屑轴和环形体驱动源，所述环形体呈漏斗状，且位于真空室内，所述排屑轴设置在环形体的底部，且中空，所述排屑轴连通真空室和副真空室，所述环形体驱动源设置在副真空室外部，且其自由端与排屑轴连接；所述内转台单元包括内转台、转轴和内转台驱动源，所述内转台驱动源设置在副真空室的底部，所述转轴设置在内转台驱动源的自由端，且依次经过副真空室和排屑轴，并最终位于环形体内，所述内转台设置在转轴的顶部，所述内转台的外径小于环形体在内转台高度处的外径，其之间形成宽度小于微球的外径的分离口。
作为优选的，所述环形体内设置有涂层斜面，所述涂层斜面的角度在30°～45°之间。
作为优选的，所述涂层斜面上开设有筛网，所述筛网位于内转台的下方。
作为优选的，所述真空室内设置有集尘盒，所述集尘盒的顶部开口紧邻在筛网的下方。
作为优选的，所述真空管与副真空室的连通口高于排屑轴的底部开口。
作为优选的，所述排屑轴上设置有蜗轮一，所述环形体驱动源的自由端设置有与蜗轮二配合的蜗轮一。
作为优选的，所述内转台的上表面设置有圆锥面状的排边斜面。
作为优选的，所述转轴上设置有遮盖一，所述副真空室的底部设置有与转轴同轴的遮盖二，所述遮盖一位于遮盖二的上方。
作为优选的，所述内转台驱动源的自由端和转轴之间设置有联轴器。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
1、本实用新型通过设置漏斗状的环形体，能够减小微球的接触面，提高微球暴露在涂层颗粒内的面积，提高涂覆效率；同时通过设置排屑轴，能够集中收集排出的尘屑，净化真空室内的环境，保证涂层的效果。
2、本实用新型通过设置副真空室和真空管，能够吸取真空室内的尘屑，并收集在副真空室内，进一步提高了净化效果。
3、本实用新型通过设置分离口，能够分离微球和尘屑。
附图说明
为了更清楚的说明本实用新型实施例技术中的技术方案，下面将对实施例技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还能够根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型的剖视示意图；
图2为涂层盘的俯视示意图。
其中，10-真空室，11-磁控靶枪，12-副真空室，13-真空管，20-环形体，21-涂层斜面，22-排屑轴，23-蜗轮一，24-蜗轮二，25-环形体驱动源，26-筛网，27-集尘盒，30-内转台，31-排边斜面，32-分离口，33-转轴，34-联轴器，35-内转台驱动源，36-遮盖一，37-遮盖二，40-微球。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
实施例
参照图1～图2所示，本实用新型公开了一种能及时排屑的微球涂层装置，包括真空室10、副真空室12、外环形体单元和内转台单元。
上述真空室10室内设置有磁控靶枪11。
上述副真空室12设置在真空室10的底部。真空室10和副真空室12连通。副真空室12上设置有真空管13。真空管13用于将真空室10和副真空室12抽真空。
上述外环形体单元包括环形体20、涂层斜面21、排屑轴22和环形体驱动源25。
上述环形体20呈漏斗状。漏斗的底部设置有中空的排屑轴22。排屑轴22转动设置在真空室10的底部，且与副真空室12连通。环形体20位于真空室10内。环形体驱动源25设置在副真空室12外部，且其自由端与排屑轴22连接。环形体驱动源25能够驱动环形体20转动；环形体20在转动时能够使微球40进行转动，涂覆均匀；滑落的碎屑则顺着环形体20滑落到中心位置，并落入到副真空室12内；同时，因真空管13经由副真空室12吸真空，能够收集内部的碎屑，保证内部的干净清洁；微球40在位于环形体20上时，具有极小的接触面，提高涂层的效率。
作为本实用新型的进一步改进，上述环形体20内设置有涂层斜面21。涂层斜面21的角度在30°～45°之间。涂层斜面21能够方便使微球40保持在同一高度上，同时容易使尘屑滑落。
作为本实用新型的进一步改进，上述涂层斜面21开设有筛网26。筛网26位于内转台30的下方。尘屑在滑过时，筛网26能够将其中的细小尘埃筛除，仅容许尺寸较大的碎屑继续滑落，以分离不同的排出物。
作为本实用新型的进一步改进，上述真空室10的底部设置有集尘盒27。集尘盒27的顶部开口紧邻在筛网26的下方。集尘盒27能够收集落下的尘埃。
作为本实用新型的进一步改进，上述真空管13与副真空室12的连通口高于排屑轴22的底部开口。其能够将碎屑留存在副真空室12内，降低吸真空时的过滤负担。
作为本实用新型的进一步改进，上述排屑轴22上设置有蜗轮一23。环形体驱动源25的自由端设置有与蜗轮二24配合的蜗轮一23。蜗轮能够提供缓冲。
上述内转台单元包括内转台30、转轴33和内转台驱动源35。
上述内转台驱动源35设置在副真空室12的底部。转轴33设置在内转台驱动源35的自由端，且依次经过副真空室12和排屑轴22，并最终位于环形体20内。内转台30设置在转轴33的顶部。内转台30和环形体20共轴。内转台30的外径小于环形体20在内转台30高度处的外径，其之间形成宽度小于微球40外径的分离口32。内转台驱动源35能够驱动内转台30自转，微球40则在离心力的作用下被排向边缘，并最终到达分离口32处，尘屑则掉落，实现排屑。
作为本实用新型的进一步改进，上述内转台30的上表面设置有圆锥面状的排边斜面31。其能够保持微球40的位置始终位于边缘，提高涂层均匀性。
作为本实用新型的进一步改进，上述转轴33上设置有遮盖一36。副真空室12的底部设置有与转轴33同轴的遮盖二37。遮盖一36位于遮盖二37的上方。其能够避免碎屑损坏转动部分。
作为本实用新型的进一步改进，上述内转台驱动源35的自由端和转轴33之间设置有联轴器34。联轴器34能够提供缓冲。
工作过程：
将微球40置于内转台30上；对真空室10进行抽真空；内转台30转动，使微球40从分离口32过渡到环形体20上；磁控靶枪11开始涂覆；尘屑则经由分离口32向下排出。
本实施例需要补充说明的是：本实用新型由驱动源等具体的硬件结构组成，部分硬件在运行过程中有软件程序的参与，辅助本机运行的软件程序均为现有可复制的软件程序，不构成本申请的创新点。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理能够在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖点相一致的最宽的范围。
Claims (9)
1.一种能及时排屑的微球涂层装置，其特征在于，包括真空室、副真空室、外环形体单元和内转台单元；
所述真空室内设置有磁控靶枪；
所述副真空室设置在真空室的底部，所述副真空室上设置有真空管，所述真空管和副真空室连通；
所述外环形体单元包括环形体、排屑轴和环形体驱动源，所述环形体呈漏斗状，且位于真空室内，所述排屑轴设置在环形体的底部，且中空，所述排屑轴连通真空室和副真空室，所述环形体驱动源设置在副真空室外部，且其自由端与排屑轴连接；
所述内转台单元包括内转台、转轴和内转台驱动源，所述内转台驱动源设置在副真空室的底部，所述转轴设置在内转台驱动源的自由端，且依次经过副真空室和排屑轴，并最终位于环形体内，所述内转台设置在转轴的顶部，所述内转台的外径小于环形体在内转台高度处的外径，其之间形成宽度小于微球的外径的分离口。
2.如权利要求1所述的能及时排屑的微球涂层装置，其特征在于，所述环形体内设置有涂层斜面，所述涂层斜面的角度在30°～45°之间。
3.如权利要求2所述的能及时排屑的微球涂层装置，其特征在于，所述涂层斜面上开设有筛网，所述筛网位于内转台的下方。
4.如权利要求3所述的能及时排屑的微球涂层装置，其特征在于，所述真空室内设置有集尘盒，所述集尘盒的顶部开口紧邻在筛网的下方。
5.如权利要求1所述的能及时排屑的微球涂层装置，其特征在于，所述真空管与副真空室的连通口高于排屑轴的底部开口。
6.如权利要求1所述的能及时排屑的微球涂层装置，其特征在于，所述排屑轴上设置有蜗轮一，所述环形体驱动源的自由端设置有与蜗轮二配合的蜗轮一。
7.如权利要求1所述的能及时排屑的微球涂层装置，其特征在于，所述内转台的上表面设置有圆锥面状的排边斜面。
8.如权利要求1所述的能及时排屑的微球涂层装置，其特征在于，所述转轴上设置有遮盖一，所述副真空室的底部设置有与转轴同轴的遮盖二，所述遮盖一位于遮盖二的上方。
9.如权利要求1所述的能及时排屑的微球涂层装置，其特征在于，所述内转台驱动源的自由端和转轴之间设置有联轴器。
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