CN210704293U - 流体抛光机传动机构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种流体抛光机传动机构，包括用于连接外部动力的动力杆和用于固定抛光件的磨杆，所述动力杆和磨杆之间设有传动件，所述传动件包括第一联轴器，所述第一联轴器的下方固定有第一转盘，所述第一转盘上固定有第二联轴器，所述第一联轴器带动第二联轴器转动，所述第二联轴器下方固定有第二转盘，所述第二转盘固定有第三联轴器，所述第二转盘带动第三联轴器转动，所述第三联轴器下方固定磨杆。本实用新型提供的流体抛光机传动机构，抛光件运行轨迹变化，抛光件与研磨介质多角度接触，抛光件打磨均匀且研磨介质快速冷却。
Description
技术领域
本实用新型涉及流体抛光机技术领域，具体地说，涉及一种流体抛光机传动机构。
背景技术
传统的流体抛光机通过电机带动磨杆转动，磨杆固定需抛光的工件。但是磨杆的运动轨迹单一，造成研磨介质和工件的接触相对固定，无法充分利用研磨介质，浪费研磨介质材料，增大生产成本。
由于磨杆的运行轨迹单一，研磨介质和工件的接触相对固定，造成研磨介质无法均匀冷却，缩短了研磨介质的使用寿命，并且研磨抛光的工件抛光效果不均匀，质量不高。磨杆只能在一个方向运转，被抛光工件的运行轨迹反方向达不到抛光效果，需要拆装工件换方向夹取、抛光，增强了工时，更是增加了企业的生产成本。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种流体抛光机传动机构，抛光件运行轨迹变化，抛光件与研磨介质多角度接触，抛光件打磨均匀且研磨介质快速冷却。
本实用新型公开的流体抛光机传动机构所采用的技术方案是:
一种流体抛光机传动机构，包括用于连接外部动力的动力杆和用于固定抛光件的磨杆，所述动力杆和磨杆之间设有传动件，所述传动件包括第一联轴器，所述第一联轴器的下方固定有第一转盘，所述第一转盘上固定有第二联轴器，所述第一联轴器带动第二联轴器转动，所述第二联轴器下方固定有第二转盘，所述第二转盘固定有第三联轴器，所述第二转盘带动第三联轴器转动，所述第三联轴器下方固定磨杆。
作为优选方案，所述第一联轴器设有第一齿轮，所述第二联轴器上端设有与第一齿轮相啮合的第二齿轮，所述第三联轴器上端设有第四齿轮，所述第二联轴器下方设有与第四齿轮啮合的第三齿轮。
作为优选方案，所述第一联轴器设于第一转盘圆心处，所述第二联轴器设于第一转盘外圈。
作为优选方案，所述第二联轴器设于第二转盘圆心处，所述第三联轴器设于第二转盘外圈。
作为优选方案，所述第一转盘的直径大于第二转盘的直径。
作为优选方案，所述第一齿轮的外接圆直径大于第二齿轮的外接圆直径。
本实用新型公开的流体抛光机传动机构的有益效果是：磨杆上固定需抛光的产品，动力杆连接外部动力机构。通过外部动力机构带动动力杆旋转，动力杆带动第一转盘转动，固定在第一转盘上的第二联轴器既随着第一转盘旋转，也通过第一联轴器带动而转动。第二联轴器的自转带动第二转盘旋转绕第二联轴器转动，固定在第二转盘上的第三联轴器既随着第二转盘旋转，也通过第二联轴器带动而转动。第三联轴器带动下方的固定磨杆旋转。即磨杆同时随着第一转盘和第二转盘进行公转，同时磨杆自身又产生自转，第一转盘和第二转盘的公转使磨杆的转动轨迹呈交叉的S型，在转动过程中，使磨杆上的抛光产品与研磨介质充分接触，并通过磨杆的自转，使抛光产品各个方向都能受力均匀，增强抛光效果，提升抛光效果。
附图说明
图1是本实用新型流体抛光机传动机构的结构示意图。
图2是本实用新型流体抛光机传动机构的正视图。
具体实施方式
下面结合具体实施例和说明书附图对本实用新型做进一步阐述和说明:
请参考图1和图2，一种流体抛光机传动机构，包括用于连接外部动力的动力杆10和用于固定抛光件的磨杆70，动力杆10和磨杆70之间设有传动件，传动件包括第一联轴器20，第一联轴器20的下方固定有第一转盘50，第一转盘50上固定有第二联轴器30，第一联轴器20带动第二联轴器30转动，第二联轴器30下方固定有第二转盘60，第二转盘60固定有第三联轴器40，第二转盘60带动第三联轴器40转动，第三联轴器40下方固定磨杆70。
第一联轴器20设有第一齿轮21，第二联轴器30上端设有与第一齿轮21相啮合的第二齿轮31，第三联轴器40上端设有第四齿轮41，第二联轴器30下方设有与第四齿轮41啮合的第三齿轮32。动力杆10转动时带动第一联轴器20转动，第二联轴器30通过第一齿轮21和第二齿轮31的啮合而随着第一联轴器20转动，第三联轴器40通过第四齿轮41和第三齿轮32的啮合而随着第二联轴器30转动。并通过调整第一齿轮21、第二齿轮31、第三齿轮32和第四齿轮41的啮合比，从而使调整第二联轴器30和第三联轴器40的转动速度。
第一联轴器20设于第一转盘50圆心处，第二联轴器30设于第一转盘50外圈。第二联轴器30设于第二转盘60圆心处，第三联轴器40设于第二转盘60外圈。使第一转盘50和第二转盘60转动稳定，并且第二联轴器30和第三联轴器40的转动幅度大。使固定于磨杆70上的抛光产品与研磨介质的充分接触，研磨介质产生紊流，提升研磨介质的降温效果。
第一转盘50的直径大于第二转盘60的直径。第一齿轮21的外接圆直径大于第二齿轮31的外接圆直径。第一齿轮21的外接圆直径大于第二齿轮31的外接圆直径，使第二联轴器30的转速大于第一联轴器20的转速。并且第一转盘50的直径大于第二转盘60的直径，使第一转盘50和第二转盘60之间存在较大的转速差，有利于磨杆70的运动轨迹的形成。并可在第一转盘50设置多个第一联轴器20，第二转盘60设置多个第三联轴器40，实现多个抛光产品同时进行抛光。
上述方案中，磨杆70上固定需抛光的产品，动力杆10连接外部动力机构。通过外部动力机构带动动力杆10旋转，动力杆10带动第一转盘50转动，固定在第一转盘50上的第二联轴器30既随着第一转盘50旋转，也通过第一联轴器20带动而转动。第二联轴器30的自转带动第二转盘60旋转绕第二联轴器30转动，固定在第二转盘60上的第三联轴器40既随着第二转盘60旋转，也通过第二联轴器30带动而转动。第三联轴器40带动下方的固定磨杆70旋转。即磨杆70同时随着第一转盘50和第二转盘60进行公转，同时磨杆70自身又产生自转，第一转盘50和第二转盘60的公转使磨杆70的转动轨迹呈交叉的S型，在转动过程中，使磨杆70上的抛光产品与研磨介质充分接触，并通过磨杆70的自转，使抛光产品各个方向都能受力均匀，增强抛光效果，提升抛光效果。
最后应当说明的是，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对本实用新型保护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型作了详细地说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的实质和范围。
Claims (6)
1.一种流体抛光机传动机构，包括用于连接外部动力的动力杆和用于固定抛光件的磨杆，其特征在于，所述动力杆和磨杆之间设有传动件，所述传动件包括第一联轴器，所述第一联轴器的下方固定有第一转盘，所述第一转盘上固定有第二联轴器，所述第一联轴器带动第二联轴器转动，所述第二联轴器下方固定有第二转盘，所述第二转盘固定有第三联轴器，所述第二转盘带动第三联轴器转动，所述第三联轴器下方固定磨杆。
2.如权利要求1所述的流体抛光机传动机构，其特征在于，所述第一联轴器设有第一齿轮，所述第二联轴器上端设有与第一齿轮相啮合的第二齿轮，所述第三联轴器上端设有第四齿轮，所述第二联轴器下方设有与第四齿轮啮合的第三齿轮。
3.如权利要求1所述的流体抛光机传动机构，其特征在于，所述第一联轴器设于第一转盘圆心处，所述第二联轴器设于第一转盘外圈。
4.如权利要求3所述的流体抛光机传动机构，其特征在于，所述第二联轴器设于第二转盘圆心处，所述第三联轴器设于第二转盘外圈。
5.如权利要求2所述的流体抛光机传动机构，其特征在于，所述第一转盘的直径大于第二转盘的直径。
6.如权利要求5所述的流体抛光机传动机构，其特征在于，所述第一齿轮的外接圆直径大于第二齿轮的外接圆直径。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201921731283.1U CN210704293U (zh) | 2019-10-16 | 2019-10-16 | 流体抛光机传动机构 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN201921731283.1U CN210704293U (zh) | 2019-10-16 | 2019-10-16 | 流体抛光机传动机构 |
Publications (1)
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| CN210704293U true CN210704293U (zh) | 2020-06-09 |
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ID=70963502
Family Applications (1)
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| CN201921731283.1U Active CN210704293U (zh) | 2019-10-16 | 2019-10-16 | 流体抛光机传动机构 |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112589661A (zh) * | 2020-12-08 | 2021-04-02 | 东莞市恒天表面处理材料有限公司 | 抛光设备 |
| CN114473833A (zh) * | 2022-03-16 | 2022-05-13 | 广州大学 | 一种离心摆动式强化研磨加工装置 |
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2019
- 2019-10-16 CN CN201921731283.1U patent/CN210704293U/zh active Active
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